Relevant bibliographies by topics / Вакуумна конденсація

Contents

  1. Journal articles
  2. Dissertations / Theses

Academic literature on the topic 'Вакуумна конденсація'

Author: Grafiati
Published: 28 May 2022

Create a spot-on reference in APA, MLA, Chicago, Harvard, and other styles

Select a source type:

Consult the lists of relevant articles, books, theses, conference reports, and other scholarly sources on the topic 'Вакуумна конденсація.'

Next to every source in the list of references, there is an 'Add to bibliography' button. Press on it, and we will generate automatically the bibliographic reference to the chosen work in the citation style you need: APA, MLA, Harvard, Chicago, Vancouver, etc.

You can also download the full text of the academic publication as pdf and read online its abstract whenever available in the metadata.

Journal articles on the topic "Вакуумна конденсація"

1

Дашдамирова, Г. Е., Э. Б. Аскеров, and Д. И. Исмаилов. "Фазообразование и кинетика кристаллизации аморфных пленок CuIn-=SUB=-5-=/SUB=-S-=SUB=-8-=/SUB=-." Физика и техника полупроводников 56, no. 3 (2022): 297. http://dx.doi.org/10.21883/ftp.2022.03.52114.9773.

Full text
Abstract:
Исследованы процессы взаимодействия и образования фаз в системе Cu2S-In2S3, полученных последовательным и одновременным осаждением двойных соединений составов Cu2S и In2S3 в вакууме. Методом кинематической электронографии установлены кинетические параметры кристаллизации аморфных пленок состава CuIn5S8, образующихся в результате вакуумной конденсации указанных выше двойных соединений как в обычных условиях, так и в условиях воздействия внешнего электрического поля. Ключевые слова: кинематическая электронография, наноразмерные пленки, плоскость конденсации.
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
2

Sidorenko, V. I., and I. V. Shtennikov. "Mathematical Model of the Thermal State of the Basis in the Course of Vacuum Chromium Plating of Hollow Details." Intellekt. Sist. Proizv. 15, no. 2 (August 14, 2017): 71. http://dx.doi.org/10.22213/2410-9304-2017-2-71-75.

Full text
Abstract:
Обоснована актуальность проведения исследований теплового состояния полой детали при нанесении металлических покрытий на поверхность отверстий методом термического испарения материала в вакууме с соосно расположенного стержневого резистивного испарителя. Проанализированы тепловые процессы, протекающие при вакуумном хромировании полых деталей, приведена схема теплообмена и составлено уравнение, описывающее тепловое состояние q ( t ) детали во время осаждения покрытия: . На покрываемую поверхность детали действуют тепловые потоки, образованные за счет излучения испарителя - плотностью q изл и выделения теплоты конденсации материала покрытия - плотностью q конд . Теплообмен между наружной цилиндрической поверхностью детали и внутренними устройствами вакуумной камеры характеризуется потоком плотностью qдет.нар; передача тепла от торцовых поверхностей детали к элементам технологической оснастки - потоком плотностью q тор . На эндотермическую реакцию фазового превращения в материале детали расходуется тепловой поток плотностью q фаз . Вследствие близкого расположения испарителя к покрываемой поверхности достаточно интенсивных режимов нанесения покрытий и хорошей теплоизоляции детали от элементов технологической оснастки принято, что тепло распространяется только в радиальном направлении; испарение материала происходит равномерно по всей длине испарителя; перераспределением тепла вдоль детали и тепловыми потерями ее торцов q тор пренебрегаем. Влияние теплоты эндотермической реакции фазового перехода q фаз решено не учитывать, поскольку формирование покрытия производят обычно при температурах, не превышающих температуру фазовых превращений в материале детали. С учетом описанных особенностей условий формирования покрытия составлено уравнение теплопроводности, определены начальные и граничные условия, разработана математическая модель теплового состояния основы (поверхности конденсации). Результаты теоретических исследований получены методом конечных разностей при использовании метода прогонки. Вычисления выполнены в соответствии с разработанным алгоритмом по программе расчета изменения температуры детали при формировании хромового покрытия на поверхности отверстий. Отличие расчетных данных математической модели от результатов экспериментальных исследований не превышает 5 %, что подтверждает достоверность полученной математической модели теплового состояния основы в процессе вакуумного хромирования полых деталей с использованием резистивного стержневого испарителя.
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
3

Заславський, О. "Формування "незвичайних" станів речовини методом вакуумної конденсації." Вісник Київського національного університету імені Тараса Шевченка. Хімія, вип. 46 (2008): 31–34.

Find full text
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
4

Галузин, А. А. "ИССЛЕДОВАНИЕ ПРОЦЕССОВ ИСПАРЕНИЯ И КОНДЕНСАЦИИ В АВТОМАТИЗИРОВАННОЙ УСТАНОВКЕ НИЗКОТЕМПЕРАТУРНОГО ОБЕЗВОЖИВАНИЯ В ВАКУУМЕ." NANOINDUSTRY Russia 13, no. 2s (April 13, 2020): 312–21. http://dx.doi.org/10.22184/1993-8578.2020.13.2s.312.321.

Full text
Abstract:
В данной работе рассматривается технология и оборудование для низкотемпературного обезвоживания в вакууме (НОВ). Проведено исследование процессов испарения и конденсации в автоматизированной установке НОВ. Кроме того, выявлены проблемы и предложены способы их решения с целью повышения эффективности процессов испарения и конденсации.
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
5

Славянский, Анатолий Анатольевич, Евгений Владимирович Семенов, Вера Анатольевна Грибкова, and Наталья Валерьевна Николаева. "Особенности процесса кристаллизации в пересыщенном растворе (на примере сахарного производства)." Хранение и переработка сельхозсырья, no. 3 (September 30, 2019): 138–46. http://dx.doi.org/10.36107/spfp.2019.171.

Full text
Abstract:
Процессы конденсации субстанций на затравочном материале в пересыщенном растворе широко распространены в перерабатывающих производствах АПК. Так, данный процесс, трактуемый как явление кристаллизации сахарозы в вакуум-аппарате, является узловым в технологическом потоке получения кристаллического сахара на сахарном заводе. При этом подготовленный в виде тонко измельченного порошка сахарозы исходный затравочный продукт варьируется по форме и размеру, концентрации в объеме вакуум-аппарата и др. Однако теоретическое обоснование явления конденсации твердой фазы на частицах затравочного материала, как центров кристаллизации, с учетом данных факторов разработано недостаточно. В статье с целью обоснования физико-математической модели задачи в качестве окружающего частицу сахарозы объема раствора используется шаровой слой с центром в моделирующим частицу сахарозы шаром. При анализе задачи исходят из результатов ассоциированной с теорией диффузионного переноса вещества проблемы теплопереноса в шаровом слое. Обосновывается алгоритм количественного исследования зависимости концентрации сахарозы от параметров задачи и периода обработки продукта. В качестве средства количественного анализа проблемы использовался численный эксперимент. Данный эксперимент выявил адекватность результатов теоретического анализа физическому смыслу реального процесса. Получены важные в теоретическом и практическом отношении зависимости по оценке массы кристаллизованной сахарозы и времени обессахаривания раствора.
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
6

Bigun, R. I., M. D. Buchkovska, V. M. Gavrilyukh, O. E. Kravchenko, Z. V. Stasyuk, and D. S. Leonov. "Formation of Metallic Electrical Conduction in Films of Vacuum Condensates of Metals." METALLOFIZIKA I NOVEISHIE TEKHNOLOGII 36, no. 4 (September 5, 2016): 531–46. http://dx.doi.org/10.15407/mfint.36.04.0531.

Full text
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
7

Пресняков, М. Ю., Б. В. Сладкопевцев, and Е. К. Белоногов. "Эволюция морфологии и структуры с ростом толщины конденсированных пленок Pd-Cu на поверхности с открытой пористостью." Письма в журнал технической физики 42, no. 23 (2016): 58. http://dx.doi.org/10.21883/pjtf.2016.23.43983.16392.

Full text
Abstract:
Методами растровой электронной микроскопии высокого разрешения, реализуемой на базе установки Helios 600i (FEI, США), исследованы поперечные срезы, выполненные методом сфокусированного ионного пучка, и изломы нанокомпозита PdCu/Al2O3, синтезированного методом магнетронного распыления (МР) сплавной мишени PdCu и конденсации в вакууме на поверхность нанопористого Al2O3, полученного анодным оксидированием алюминиевой фольги. Выявлены закономерности формирования структуры и морфологии кристаллитов вакуумного конденсата твердого раствора Pd-Cu толщиной от 0.1 до 4 mum на поверхности с открытой пористостью. Обсуждены подходы к формированию градиентных структур у свободной поверхности, обнаружены условия инициации МР механизмов формирования дискретных, пористых и анизотропных конденсатов. Реализован подход неселективного заполнения нанопор в диэлектрике металлическими кластерами и формирования градиентной структуры нанокомпозита PdCu/Al2O3.
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
8

Антипов, В. В., С. А. Кукушкин, and А. В. Осипов. "Эпитаксиальный рост пленок теллурида кадмия на кремнии с буферным слоем карбида кремния." Физика твердого тела 59, no. 2 (2017): 385. http://dx.doi.org/10.21883/ftt.2017.02.44067.288.

Full text
Abstract:
Впервые выращен эпитаксиальный теллурид кадмия толщиной 1-3 mum на кремнии с буферным слоем карбида кремния методом открытого термического испарения и конденсации в вакууме. Оптимальная температура подложки составила 500oC при температуре испарителя 580oC, время роста 4 s. Для более качественного роста теллурида кадмия на поверхности кремния предварительно был синтезирован методом топохимического замещения атомов высококачественный буферный слой карбида кремния толщиной ~100 nm. Эллипсометрический, рамановский, рентгеновский и электронографический анализ показали высокое структурное совершенство слоя CdTe и отсутствие поликристаллической фазы. Работа выполнена при финансовой поддержке Российского научного фонда (грант N 14-12-01102). Исследования проводились при использовании оборудования Уникальной научной установки (УНО) "Физика, химия и механика кристаллов и тонких пленок" ФГУН ИПМаш РАН. DOI: 10.21883/FTT.2017.02.44067.288
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
9

Кущев, С. Б., М. А. Босых, С. В. Канныкин, А. В. Костюченко, С. А. Солдатенко, and М. С. Антонова. "Структура и механические свойства пленок Ag–Cu, полученных при совместной вакуумной конденсации Au и Cu." Неорганические материалы 51, no. 7 (2015): 739–45. http://dx.doi.org/10.7868/s0002337x1507009x.

Full text
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
10

Ustinov, A. I., V. S. Skorodzievskii, S. A. Demchenkov, S. S. Polishchuk, and T. V. Melnichenko. "Effect of the structure of vacuum condensates of high entropy alloys of Cr–Fe–Co–Ni–Cu system on their mechanical properties." Sovremennaâ èlektrometallurgiâ 2020, no. 4 (December 28, 2020): 16–22. http://dx.doi.org/10.37434/sem2020.04.03.

Full text
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

Dissertations / Theses on the topic "Вакуумна конденсація"

1

Великодний, Дмитро Володимирович, Дмитрий Владимирович Великодный, Dmytro Volodymyrovych Velykodnyi, and О. О. Центеря. "Автоматизована система вакуумної конденсації плівок." Thesis, Вид-во СумДУ, 2009. http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/4000.

Full text
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
2

Єльфімов, О. О., А. С. Коваленко, Дмитро Володимирович Великодний, Дмитрий Владимирович Великодный, and Dmytro Volodymyrovych Velykodnyi. "Формування чутливого елемента тензодатчика за допомогою автоматизованої системи вакуумної конденсації." Thesis, Видавництво СумДУ, 2011. http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/22065.

Full text
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
We offer discounts on all premium plans for authors whose works are included in thematic literature selections. Contact us to get a unique promo code!

To the bibliography