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Dissertations / Theses on the topic 'Dégradation type porteurs chauds'

Author: Grafiati
Published: 6 July 2024
Last updated: 31 July 2025

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Bénard, Christelle. "Etudes phénomènes de dégradation des transistos MOS de type porteurs chauds et Negative Bias Temperature Instability (NBTI)." Aix-Marseille 1, 2008. http://theses.univ-amu.fr.lama.univ-amu.fr/2008AIX11028.pdf.

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Abstract:
Ce travail de thèse traite des différents phénomènes de dégradation que peut subir un transistor MOSFET. Les deux modes de dégradation étudiés sont la dégradation par porteurs chauds, HC, et la dégradation NBTI. Dans une première partie, nous étudions de façon détaillée les phénomènes de relaxation caractéristiques des défauts générés par NBTI, afin de mieux comprendre les instabilités qui rendent si complexe la caractérisation de la fiabilité NBTI. Nous examinons, dans une seconde partie, les différentes méthodes de caractérisation du NBTI existantes à ce jour. Il en ressort que la seule tech
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Ndiaye, Cheikh. "Etude de la fiabilité de type negative bias temperature instability (NBTI) et par porteurs chauds (HC) dans les filières CMOS 28nm et 14nm FDSOI." Thesis, Aix-Marseille, 2017. http://www.theses.fr/2017AIXM0182/document.

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Abstract:
L’avantage de cette architecture FDSOI par rapport à l’architecture Si-bulk est qu’elle possède une face arrière qui peut être utilisée comme une deuxième grille permettant de moduler la tension de seuil Vth du transistor. Pour améliorer les performances des transistors canal p (PMOS), du Germanium est introduit dans le canal (SiGe) et au niveau des sources/drain pour la technologie 14nm FDSOI. Par ailleurs, la réduction de la géométrie des transistors à ces dimensions nanométriques fait apparaître des effets de design physique qui impactent à la fois les performances et la fiabilité des trans
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Ndiaye, Cheikh. "Etude de la fiabilité de type negative bias temperature instability (NBTI) et par porteurs chauds (HC) dans les filières CMOS 28nm et 14nm FDSOI." Electronic Thesis or Diss., Aix-Marseille, 2017. http://www.theses.fr/2017AIXM0182.

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Abstract:
L’avantage de cette architecture FDSOI par rapport à l’architecture Si-bulk est qu’elle possède une face arrière qui peut être utilisée comme une deuxième grille permettant de moduler la tension de seuil Vth du transistor. Pour améliorer les performances des transistors canal p (PMOS), du Germanium est introduit dans le canal (SiGe) et au niveau des sources/drain pour la technologie 14nm FDSOI. Par ailleurs, la réduction de la géométrie des transistors à ces dimensions nanométriques fait apparaître des effets de design physique qui impactent à la fois les performances et la fiabilité des trans
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Toufik, Nezha. "Dégradation, par polarisation en avalanche, des paramètres d'une homojonction en silicium, durant l'émission de lumière." Perpignan, 2002. http://www.theses.fr/2002PERP0452.

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Abstract:
L'étude proposée consiste à préciser les processus de dégradation de transistors bipolaires soumis à une contrainte électrique par polarisation inverse, en régime d'avalanche, de la jonction émetteur-base. La finalité est de déterminer les conditions de stabilité de l'émission lumineuse de la jonction afin d'envisager des applications optoélectroniques du composant au silicium. La méthode de caractérisation utilisée consiste à déterminer, au cours du temps et en fonction de la contrainte, l'évolution des paramètres de la jonction (courant inverse de recombinaison, facteur d'idéalité et résista
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Guérin, Chloé. "Etude de la dégradation par porteurs chauds des technologies CMOS avancées en fonctionnement statique et dynamique." Aix-Marseille 1, 2008. http://www.theses.fr/2008AIX11041.

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Abstract:
La miniaturisation des dernières technologies s’est effectuée à tension d’alimentation quasi constante. Cela se traduit par une augmentation du champ latéral du transistor MOSFET. Un risque important réapparaît en terme de fiabilité : la dégradation par porteurs chauds (HC). Pour garantir le meilleur compromis entre fiabilité et performance, il est important de comprendre toutes les causes physiques de la dégradation par porteurs chauds. Grâce à une étude menée pour des conditions de polarisation et de température variées, sur différentes épaisseurs d’oxyde et longueurs de canal, nous avons mi
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Chapelon, Olivier. "Transport en régime de porteurs chauds dans le silicium de type n." Montpellier 2, 1993. http://www.theses.fr/1993MON20066.

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Abstract:
Il a ete mis au point un programme permettant de calculer les parametres de transport par resolution de l'equation de boltzmann dans le si-n. Une etude de l'influence de la degenerescence a montre que celle-ci jouait un role negligeable pour les dopages utilises au cours de cette etude. L'introduction de la generation recombinaison dans le programme a permis de calculer l'evolution de la fraction ionisee en regime de porteurs chauds et de mettre en evidence que le regime transitoire est fortement modifie. Dans une derniere partie, l'equation de boltzmann a ete resolue en tenant compte d'une di
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Revil, Narcisse. "Caractérisation et analyse de la dégradation induite par porteurs chauds dans les transistors MOS submicroniques et mésoscopiques." Grenoble INPG, 1993. http://www.theses.fr/1993INPG0098.

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Abstract:
Ce memoire est consacre a la caracterisation et a l'analyse de la degradation engendree par les injections de porteurs chauds dans les transistors mos submicroniques et mesoscopiques. Le premier chapitre decrit les principes de base du fonctionnement du transistor mos en insistant sur les effets de canaux courts et, plus particulierement, sur les phenomenes de generation et injection de porteurs chauds dans l'oxyde de grille. Differentes methodes de caracterisation de la degradation induite sont ensuite resumees et comparees dans un deuxieme chapitre, ceci tout en soulignant le caractere inhom
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Nemar, Noureddine. "Génération-recombinaison en régime de porteurs chauds dans le silicium de type P." Montpellier 2, 1990. http://www.theses.fr/1990MON20151.

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Abstract:
Dans la premiere partie de ce travail, nous avons etudie l'effet de prendre un modele inelastique d'interaction avec les phonons acoustiques (a temperature basse (77 k et 110 k) sur la fonction de distribution et les parametres de transport dans le silicium dope au bore (si-p). Une comparaison a ete faite avec des resultats theoriques (utilisant un modele elastique) et experimentaux (obtenus au laboratoire). Dans la seconde partie, nous avons introduit les termes de generation-recombinaison dans l'equation de boltzmann et formule une equation supplementaire donnant l'evolution du nombre de por
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Arfaoui, Wafa. "Fiabilité Porteurs Chauds (HCI) des transistors FDSOI 28nm High-K grille métal." Thesis, Aix-Marseille, 2015. http://www.theses.fr/2015AIXM4335.

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Abstract:
Au sein de la course industrielle à la miniaturisation et avec l’augmentation des exigences technologiques visant à obtenir plus de performances sur moins de surface, la fiabilité des transistors MOSFET est devenue un sujet d’étude de plus en plus complexe. Afin de maintenir un rythme de miniaturisation continu, des nouvelles architectures de transistors MOS en été introduite, les technologies conventionnelles sont remplacées par des technologies innovantes qui permettent d'améliorer l'intégrité électrostatique telle que la technologie FDSOI avec des diélectriques à haute constante et grille m
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Mamy, Randriamihaja Yoann. "Etude de la fiabilité des technologies CMOS avancées, depuis la création des défauts jusqu'à la dégradation des transistors." Thesis, Aix-Marseille, 2012. http://www.theses.fr/2012AIXM4781/document.

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Abstract:
L'étude de la fiabilité représente un enjeu majeur de la qualification des technologies de l'industrie de la microélectronique. Elle est traditionnellement étudiée en suivant la dégradation des paramètres des transistors au cours du temps, qui sert ensuite à construire des modèles physiques expliquant le vieillissement des transistors. Nous avons fait le choix dans ces travaux d'étudier la fiabilité des transistors à l'échelle microscopique, en nous intéressant aux mécanismes de ruptures de liaisons atomiques à l'origine de la création des défauts de l'oxyde de grille. Nous avons tout d'abord
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Maanane, Hichame. "Etude de la fiabilité des transistors hyperfréquences de puissance dans une application RADAR en bande S." Rouen, 2005. http://www.theses.fr/2005ROUES061.

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Abstract:
Depuis l'avènement des modules de puissance à état solide dans les radars, la longueur de pulse et le rapport cyclique n'ont cessé d'augmenter afin d'accroître les performances du radar. Ces fortes exigences de fonctionnement ont augmenté la quantité de contraintes appliquées aux transistors et ont un impact direct sur leurs temps de vie. Une connaissance approfondie de cet impact est nécessaire pour une meilleure estimation de la fiabilité des modules et des transistors qui la composent. C'est pour toutes ces raisons qu'une étude a été engagée pour élaborer de nouvelles méthodes d'investigati
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Sicre, Mathieu. "Study of the noise aging mechanisms in single-photon avalanche photodiode for time-of-flight imaging." Electronic Thesis or Diss., Lyon, INSA, 2023. http://www.theses.fr/2023ISAL0104.

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Abstract:
Les diodes à avalanche à photon unique (SPAD) sont utilisées pour les capteurs à temps de vol afin de déterminer la distance d'une cible. Cependant, ils sont sujets à des déclenchements parasites par des porteurs de charge générés de manière parasitaire, quantifiés en tant que taux de comptage dans l’obscurité (DCR), ce qui peut compromettre la précision de la distance mesurée. Pour résoudre ce problème, une méthodologie de simulation a été mise en place pour évaluer le DCR. Cela est réalisé en simulant la probabilité de claquage d'avalanche, intégrée avec le taux de génération de porteurs de
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Zaka, Alban. "Carrier injection and degradation mechanisms in advanced NOR Flash memories." Thesis, Grenoble, 2012. http://www.theses.fr/2012GRENT118/document.

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Zander, Damien. "Contribution à l'étude de la dégradation des couches d'oxyde de silicium ultra-minces, sous contraintes électriques." Reims, 2002. http://www.theses.fr/2002REIMS015.

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Abstract:
L'intégration de plus en plus importante des composants exige une diminution de l'épaisseur d'oxyde qui est à l'origine de courants de fuite de grille entraînant la dégradation des technologies CMOS. Nous touchons actuellement aux limites physiques des couches de silice, alors que les matériaux susceptibles de remplacer la silice ne sont toujours pas opérationnels, il est donc capital de mettre en évidence et de caractériser les processus de dégradation mis en jeu lors de l'utilisation même des composants. Sur des structures MOS d'épaisseur d'oxyde inférieure à 3nm, nous avons suivi la dégrada
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Nouguier, Damien. "Etude statistique et modélisation de la dégradation NBTI pour les technologies CMOS FDSOI et BULK." Thesis, Université Grenoble Alpes (ComUE), 2018. http://www.theses.fr/2018GREAT068/document.

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Abstract:
L’industrie microélectronique arrive à concevoir des transistors atteignant dimensions de l’ordre de la dizaine de nanomètres. Et ce faisant elle tend atteindre ses limites en terme de réduction des dimensions des transistors CMOS. Or à ces dimensions, la fiabilité et la variabilité des dispositifs prennent une ampleur critique en ce qui concerne les prédictions de durée de vie et de garantie des composants. Parmi les aspects critiques, la dégradation NBTI (Négative Bias Temperature Instability) représente l’un des plus gros défis en termes de fiabilité. Cette dégradation tire son origine d’un
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Qiao, Bo. "Une approche du vieillissement électrique des isolants polymères par mesure d'électroluminescence et de cathodoluminescence." Thesis, Toulouse 3, 2015. http://www.theses.fr/2015TOU30116/document.

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Abstract:
L'électroluminescence (EL) de isolants polymères est étudiée car elle peut permettre d'approcher les phénomènes de vieillissement électrique en fournissant la signature optique d'espèces excitées sous champ électrique. Le vieillissement et la rupture diélectrique dans les isolants polymères est d'un intérêt fondamental pour les chercheurs, concepteurs et fabricants de dispositif du génie électrique. À cet égard, les décharges partielles (DPs) sont un des principaux processus conduisant au vieillissement et à la défaillance des isolants. Cependant, avec le développement des matériaux et procédé
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Ladret, Romain. "Nano-mélangeurs bolométriques supraconducteurs à électrons chauds en Y-Ba-Cu-O pour récepteur térahertz en mode passif." Thesis, Paris 6, 2016. http://www.theses.fr/2016PA066245/document.

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Abstract:
Nous étudions un mélangeur d'ondes térahertz (THz) réalisé avec le supraconducteur à haute température critique YBaCuO en couches ultraminces (10 à 50 nm). Le travail vise à concevoir un démonstrateur portable pour la détection hétérodyne térahertz passive, avec une cryogénie simplifiée à 60-80 kelvin (projet ANR MASTHER).Le principe de détection est le bolomètre à électrons chauds (HEB) jusqu'à présent développé avec des supraconducteurs à basse température critique. L'effet HEB est mis en ¿uvre dans une constriction en YBaCuO (quelques centaines de nm de dimensions latérales). Cette structur
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Jacquet, Thomas. "Reliability of SiGe, C HBTs operating at 500 GHz : characterization and modeling." Thesis, Bordeaux, 2016. http://www.theses.fr/2016BORD0354/document.

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Abstract:
Le sujet de cette thèse est l’analyse de la fiabilité des transistors bipolaires à hétérojonction SiGe:C et descircuits intégrés associés. Dans ce but, un modèle compact prenant en compte l’évolution des caractéristiquesdes transistors SiGe:C a été développé. Ce modèle intègre les lois de vieillissement des mécanismes dedéfaillance des transistors identifiés lors des tests de vieillissement. Grâce aux simulations physiques TCADcomplétées par une analyse du bruit basses fréquences, deux mécanismes de dégradations ont été localisés. Eneffet, selon les conditions de polarisation, des porteurs cha
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