Academic literature on the topic 'Dépôt par voie chimique'
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Journal articles on the topic "Dépôt par voie chimique":
BONNEAU, M. "Intérêt et limites de la production de viandes de porc mâle entier." INRAE Productions Animales 1, no. 2 (May 11, 1988): 133–40. http://dx.doi.org/10.20870/productions-animales.1988.1.2.4445.
Ruf, François. "Les standards dits durables appauvrissent-ils les planteurs de cacao ? Interactions entre déforestation en Côte d’Ivoire et au Libéria, crédit à l’achat d’engrais et baisse des cours." Cahiers Agricultures 30 (2021): 38. http://dx.doi.org/10.1051/cagri/2021024.
Khéfacha, Zoubeida, Mohamed Mnari, and Mohamed Dachraoui. "Caractérisation des couches minces de Cd1–xZnxS préparées par dépôt chimique." Comptes Rendus Chimie 5, no. 3 (March 2002): 149–55. http://dx.doi.org/10.1016/s1631-0748(02)01355-3.
LÉVESQUE, O., M. RICCI, M. TRINQUECOSTE, and P. DELHAÈS. "MATÉRIAUX CARBONES OBTENUS PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR ASSISTÉ PAR UN PLASMA RÉACTIF." Le Journal de Physique Colloques 50, no. C5 (May 1989): C5–269—C5–279. http://dx.doi.org/10.1051/jphyscol:1989533.
Lefebvre-Drouet, E. "Dissolution de differents oxyhydroxydes de fer par voie chimique et par voie biologique: Importance des bacteries reductrices." Soil Biology and Biochemistry 27, no. 8 (August 1995): 1041–50. http://dx.doi.org/10.1016/0038-0717(95)00012-4.
Ignatious, Francis, Bernard François, and Claude Mathis. "Insertion de cations ammonium dans le polyacétylène par voie chimique." Journal de Chimie Physique 86 (1989): 199–204. http://dx.doi.org/10.1051/jcp/1989860199.
Scidone, L., C. Boulanger, J. M. Lecuire, and S. Diliberto. "Élaboration de films minces de tellurure de bismuth par voie chimique." Journal de Physique IV (Proceedings) 122 (December 2004): 81–86. http://dx.doi.org/10.1051/jp4:2004122012.
Viard, C., J. Baruteau, and M. Vié. "Stabilité physico-chimique du glucagon administré par voie sous-cutanée continue ?" Le Pharmacien Hospitalier et Clinicien 47 (February 2012): S57. http://dx.doi.org/10.1016/j.phclin.2011.12.138.
Planche, MF, JC Thiéblemont, TF Otero, and G. Bidan. "Étude électrochimique du vieillissement thermique de polypyrrole synthétisé par voie chimique." Journal de Chimie Physique 92 (1995): 851–54. http://dx.doi.org/10.1051/jcp/199592851.
El Maarouf, B., D. Billaud, and E. Hannecart. "Étude texturale du polyindole : influence des conditions de polymérisation par voie chimique." Journal de Chimie Physique 92 (1995): 803–6. http://dx.doi.org/10.1051/jcp/1995920803.
Dissertations / Theses on the topic "Dépôt par voie chimique":
Berjonneau, Jérôme. "Mécanismes de dépôt par voie gazeuse de céramiques base Si-B-C." Bordeaux 1, 2006. http://www.theses.fr/2006BOR13146.
Khalil, Aziza. "Dépôt de cuivre par voie chimique : analyse électrochimique et application à la connectique en microélectronique." Grenoble INPG, 1995. http://www.theses.fr/1995INPG0042.
Joulaud, Mickaël. "Nouveaux schémas d'intégration pour les interconnexions cuivre inférieures à 90 nm : apport des dépôts chimiques : dépôt de cuivre par CVD comme couche d'accroche : dépôt de NiMo-P par voie chimique autocatalytique comme couche d'encapsulation." Paris 12, 2004. https://athena.u-pec.fr/primo-explore/search?query=any,exact,990003948120204611&vid=upec.
By scaling down microchips, critical issues with copper integration are expected for the future interconnect generation (65 nm). First, the conforrnal deposition of a thin copper film (seedlayer), necessary to initiate the copper plating, could not be obtained using the current PVD techniques. Second, holes are generated at the copper/capping interface due to electromigration. This thesis is focused on new processes based on chemical deposition techniques as J solutions to the presented limitations. The feasibility of copper seedlayer CVD with an industriai tool using (hfac)Cu(MHY) was demonstrated. By developing a specific recipe, a 50 nm conformai seedlayer was deposited in narrow features. The selective electroless deposition ofNiMo-P as a capping layer to limit electromigration was investigated. The influence of experimental parameters and barrier efficiency ofNiMo-P were evaluated. A selective deposit was obtained on 0,12 micron spacing lines with an alkali free deposition bath
Delettrez, Sophie. "Élaboration par voie gazeuse et caractérisation de céramiques alvéolaires base pyrocarbone ou carbure de silicium." Thesis, Bordeaux 1, 2008. http://www.theses.fr/2008BOR13723/document.
High porosity open cell carbon foams, resulting from the pyrolysis polymeric foams, have inadequate properties for structural applications such as shock absorbers or fuel cells. In this study, pyrocarbon (PyC derived from propane) and silicon carbide (SiC from CH3SiCl3/H2 mixtures) coatings were prepared by Chemical Vapour Deposition (CVD) and the experimental conditions were optimized to improve the properties of the foams. The mechanical, thermal and gas transport properties were respectively assessed by uniaxial crushing tests, flash diffusivity and gas permeability measurements. The physical properties vary significantly with the relative density. The CVD process allows the tailoring of the foam properties, for a specific application, through an accurate control of the structure, the composition, the thickness uniformity of the coatings and the relative density of the foams
Tartivel, Ronan. "Renforcement mécanique du verre : nouvelles compositions chimiques et dépôt de films minces élaborés par voie sol-gel." Rennes 1, 2007. http://www.theses.fr/2007REN1S183.
This work aims at improving mechanical resistance of glass. Two aspects of reinforcement have been studied. First, we focused on the research of new glassy compositions exhibiting high mechanical properties. The compositions were synthesized using an original home-made device. The mechanical characteristics were then determined, and an exploratory study of the structure was conducted in order to establish the role of the reticulation of the network. The second part deals with the mechanical reinforcement of the surface. Indeed, small defects existing on the surface often affect the strength of the whole piece of glass. To minimize this effect, we deposited inorganic thin films obtained via sol-gel process by a dip-coating method. This way, ordinary soda-lime silicate glass substrates were coated and then characterized both mechanically and morphologically, to determine the influence of thermal treatment, as well as composition, on mechanical properties
Vitiello, Julien. "Etude des matériaux diélectriques à très faible permittivité déposés par voie chimique en phase vapeur développés pour l'isolation des interconnexions cuivre des circuits intégrés pour les générations technologiques 45 nm et 32 nm." Lyon, INSA, 2006. http://theses.insa-lyon.fr/publication/2006ISAL0097/these.pdf.
The performance requirements for sub-65 nm generations imply the use of dielectric films with ultra low k-value in interconnects. With the introduction of copper, two dielectric films play a major role in the architecture: an insulator in between the metal lines and a dielectric barrier capping the top of these lines. For the 45 nm node, ultra low k-value insulators are obtained by introducing porosity into a SiOC matrix. These porous films are a true technological jump for the whole interconnect module integration. The dielectric barriers must also have a low k-value. To this purpose, the SiCN film, used for the 65 nm generation, must be replaced by a material showing the same barrier properties but less dense to satisfy the requirements in electric performances. The ultra low k-value insulator is based on a non porogen approach, called restructuring. The study of the process of deposit and the characteristics of film allow highlighting the physical phenomena at the origin of the graded structure in depth of the film. The mechanical properties were determined by nanoindentation, using a method based on multilayers. The improvement of the mechanical resistance of this porous film was obtained using a thermally assisted ultraviolet treatment. Its effectiveness depends on exposure duration and purge gas in the chamber. Moreover, the kinetics of cross-linking in the SiOC structure is related to the film density. Lastly, the feasibility of the integration of this film was evidenced. With regard to the dielectric barriers, two solutions for the 45 nm generation were evaluated: a plasma stabilized SiC layer and a SiCN bilayer. Their barrier efficiency was evaluated thanks to two methods developed in this study. That made it possible to qualify the performances of these new layers
Jakab, Sandrine. "Cinétique de précipitation par voie électrochimique et de dissolution de solides mixtes de type molybdates ou hydroxydes/oxydes de lanthanide : étude de gravimétrie." Paris 6, 2009. http://www.theses.fr/2009PA066774.
Diers, Mathieu. "Conception, étude et optimisation de nouvelles sources plasma à la résonance cyclotronique électronique. Application aux dépôts par voie chimique et par pulvérisation." Phd thesis, Université de Grenoble, 2010. http://tel.archives-ouvertes.fr/tel-00782845.
Liu, Chia-Erh. "Synthèse et caractérisation de nano-cristallites de TiO² à basse température : stabilisation de solutions colloïdales et dépôts par voie chimique." Nantes, 2008. http://www.theses.fr/2008NANT2049.
Ocampo, Moreno Maricela. "Étude de l'effet de l'introduction de l'acide silicotungstique sur les dépôts de CdS et CdTe déposés par voie chimique et électrochimique et de leurs propriétés physico-chimiques." Mémoire, Université de Sherbrooke, 2006. http://savoirs.usherbrooke.ca/handle/11143/4737.
Books on the topic "Dépôt par voie chimique":
Ontario. Esquisse de cours 12e année: Le droit canadien et international cln4u cours préuniversitaire. Vanier, Ont: CFORP, 2002.
Ontario. Esquisse de cours 12e année: Étude de l'alimentation et de la nutrition hfa4m cours préuniversitaire. Vanier, Ont: CFORP, 2002.
Ontario. Esquisse de cours 12e année: Atelier d'écriture fae4o cours ouvert. Vanier, Ont: CFORP, 2002.
Ontario. Esquisse de cours 12e année: Histoire de l'Occident et du monde chy4u. Vanier, Ont: CFORP, 2002.
Ontario. Esquisse de cours 12e année: Géométrie et mathématiques discrètes mga4u cours préuniversitaire. Vanier, Ont: CFORP, 2002.
Ontario. Esquisse de cours 12e année: Français des affaires faf4o. Vanier, Ont: CFORP, 2002.
Ontario. Esquisse de cours 12e année: L'église et la culture hre4m. Vanier, Ont: CFORP, 2007.
Ontario. Esquisse de cours 12e année: Politique canadienne et mondiale cpw4u cours préuniversitaire. Vanier, Ont: CFORP, 2002.
Ontario. Esquisse de cours 12e année: The writer's craft eac4c cours précollégial. Vanier, Ont: CFORP, 2002.
Ontario. Esquisse de cours 12e année: Études interdisciplinaires un monde sans frontières idc4o cours ouvert. Vanier, Ont: CFORP, 2002.
Conference papers on the topic "Dépôt par voie chimique":
Catros, S. "A quoi servent les Bio-Imprimantes 3D ?" In 66ème Congrès de la SFCO. Les Ulis, France: EDP Sciences, 2020. http://dx.doi.org/10.1051/sfco/20206601012.