Academic literature on the topic 'Dépôt par voie chimique'
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Journal articles on the topic "Dépôt par voie chimique":
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BONNEAU, M. "Intérêt et limites de la production de viandes de porc mâle entier." INRAE Productions Animales 1, no. 2 (May 11, 1988): 133–40. http://dx.doi.org/10.20870/productions-animales.1988.1.2.4445.
Abstract:
La castration précoce du porc mâle entraîne des modifications importantes du métabolisme de l’animal, favorisant le dépôt des lipides au détriment de la fixation de protéines. La production de viandes de porc mâle entier permet ainsi une amélioration sensible de l’efficacité alimentaire et de la qualité des carcasses. Les viandes de porc mâle entier se caractérisent par des différences mineures de composition chimique des tissus, des graisses plus insaturées et par la présence des odeurs sexuelles. Le scatol et l’androsténone sont les deux déterminants majeurs de la manifestation de ces odeurs désagréables, mais les importances respectives de chacun de ces 2 composés ne sont pas encore clairement établies. La transformation en produits de charcuterie offre de nombreuses possibilités d’utilisation des viandes défectueuses. Le tri sur la chaîne d’abattage des viandes présentant des odeurs sexuelles n’est possible que de façon grossière et imparfaite. il n’existe pour l’instant aucun moyen de produire des verrats que l’on puisse garantir indemnes de défaut d’odeurs sexuelles. Les voies génétique et immunologique offrent des possibilités intéressantes qu’il faut explorer plus avant pour en démontrer la faisabilité sur les plans zootechnique et économique.
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Ruf, François. "Les standards dits durables appauvrissent-ils les planteurs de cacao ? Interactions entre déforestation en Côte d’Ivoire et au Libéria, crédit à l’achat d’engrais et baisse des cours." Cahiers Agricultures 30 (2021): 38. http://dx.doi.org/10.1051/cagri/2021024.
Abstract:
Pendant des siècles, combinés avec le travail de migrants, la forêt et la rente forêt ont été les principaux facteurs de production du cacao. C’est le modèle universel du cacao, qui a fait de la Côte d’Ivoire le premier producteur mondial. Mais le niveau de déforestation est tel qu’une partie des planteurs doivent trouver des alternatives à la rente forêt, notamment l’engrais minéral. Cet intrant chimique est de fait un facteur d’amélioration des rendements et a priori des revenus. Cependant, si la consommation d’engrais chimique est poussée par le « système », composé des Transnational Corporations (TNC) du cacao, des coopératives, des agences de crédit, des organisations non gouvernementales internationales et des labels de cacao dit « durables », n’y a-t-il pas danger d’effets inverses : contribution à l’excès d’offre de cacao, baisse du cours mondial, endettement et appauvrissement des planteurs ? À partir de trois enquêtes auprès de 150 à 250 planteurs entre 2013 et 2017, d’une enquête auprès de 41 coopératives en 2017 et d’un suivi des prix du cacao et de l’engrais sur 30 ans, l’étude aborde le rôle du prix relatif cacao/engrais et du crédit sur la consommation d’engrais, et leur impact sur la chute du cours du cacao en 2016–2017. L’impact est certain, même si le processus d’expansion cacaoyère par le binôme migration-déforestation reste le facteur essentiel de la hausse de l’offre et de la chute du cours. Le discours selon lequel les gains de rendement vont créer un « cacao durable » et dissuader les planteurs de défricher les forêts reste un mythe. Les migrations continuent aux dépens des toutes dernières forêts classées du pays, à l’est vers Abengourou, à l’ouest vers Blolequin, Man et Touba. Là encore, en dépit de leur communication sur la durabilité, les certifications ont totalement échoué : le cacao de Côte d’Ivoire dépend encore beaucoup de la déforestation. Enfin, de l’autre côté du fleuve Cavally, la grande forêt dense du Libéria disparaît à son tour, sur la voie d’un nouveau boom du cacao. Même si les responsabilités sont partagées avec les politiques publiques, que reste-t-il de « durable » dans la certification et les actions de la majorité des TNC ? Le fossé entre leur communication virtuelle et la réalité n’a jamais été aussi grand.
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Khéfacha, Zoubeida, Mohamed Mnari, and Mohamed Dachraoui. "Caractérisation des couches minces de Cd1–xZnxS préparées par dépôt chimique." Comptes Rendus Chimie 5, no. 3 (March 2002): 149–55. http://dx.doi.org/10.1016/s1631-0748(02)01355-3.
4
LÉVESQUE, O., M. RICCI, M. TRINQUECOSTE, and P. DELHAÈS. "MATÉRIAUX CARBONES OBTENUS PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR ASSISTÉ PAR UN PLASMA RÉACTIF." Le Journal de Physique Colloques 50, no. C5 (May 1989): C5–269—C5–279. http://dx.doi.org/10.1051/jphyscol:1989533.
5
Lefebvre-Drouet, E. "Dissolution de differents oxyhydroxydes de fer par voie chimique et par voie biologique: Importance des bacteries reductrices." Soil Biology and Biochemistry 27, no. 8 (August 1995): 1041–50. http://dx.doi.org/10.1016/0038-0717(95)00012-4.
6
Ignatious, Francis, Bernard François, and Claude Mathis. "Insertion de cations ammonium dans le polyacétylène par voie chimique." Journal de Chimie Physique 86 (1989): 199–204. http://dx.doi.org/10.1051/jcp/1989860199.
7
Scidone, L., C. Boulanger, J. M. Lecuire, and S. Diliberto. "Élaboration de films minces de tellurure de bismuth par voie chimique." Journal de Physique IV (Proceedings) 122 (December 2004): 81–86. http://dx.doi.org/10.1051/jp4:2004122012.
8
Viard, C., J. Baruteau, and M. Vié. "Stabilité physico-chimique du glucagon administré par voie sous-cutanée continue ?" Le Pharmacien Hospitalier et Clinicien 47 (February 2012): S57. http://dx.doi.org/10.1016/j.phclin.2011.12.138.
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Planche, MF, JC Thiéblemont, TF Otero, and G. Bidan. "Étude électrochimique du vieillissement thermique de polypyrrole synthétisé par voie chimique." Journal de Chimie Physique 92 (1995): 851–54. http://dx.doi.org/10.1051/jcp/199592851.
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El Maarouf, B., D. Billaud, and E. Hannecart. "Étude texturale du polyindole : influence des conditions de polymérisation par voie chimique." Journal de Chimie Physique 92 (1995): 803–6. http://dx.doi.org/10.1051/jcp/1995920803.
Dissertations / Theses on the topic "Dépôt par voie chimique":
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Berjonneau, Jérôme. "Mécanismes de dépôt par voie gazeuse de céramiques base Si-B-C." Bordeaux 1, 2006. http://www.theses.fr/2006BOR13146.
Abstract:
Des dépôts de céramiques B-C et Si-B-C ont été réalisés par CVD respectivement à partir de mélanges CH4/BC3/H2 et MTS/BC3/H2 dans une gamme de températures 800-1050 °C et sous pression réduite (2 à 12 kPa). Les lois cinétiques de dépôt ont été déterminées dans des régimes contrôlés par les réactions chimiques. Les espèces gazeuses ont été analysées in situ par spectroscopie IRTF. Cette étude a notamment établi que l'intermédiaire réactionnel HBCI2 joue le rôle de précurseur effectif de bore lors du dépôt de céramique B-C et Si-B-C. Enfin, les conditions de synthèse ont été corrélées avec la composition chimique et la structure des dépôts. Les céramiques B-C demeurent amorphes pour l'ensemble des conditions et sont plus riches en carbone que B4C. Les dépôts Si-B-C sont également amorphes et riches en carbone à basse température. La teneur en silicium augmente avec la température conjointement à l'apparition de nanocristaux de SiC. L'ensemble de ces approches a permis l'établissement des lois cinétiques de dépôt dans une large gamme de conditions expérimentales et de mieux comprendre les mécanismes de formation de céramiques dans ces systèmes chimiques particulièrement complexes.
2
Khalil, Aziza. "Dépôt de cuivre par voie chimique : analyse électrochimique et application à la connectique en microélectronique." Grenoble INPG, 1995. http://www.theses.fr/1995INPG0042.
Abstract:
Le depot chimique de cuivre par le methanal en milieu basique est etudie en comparant l'influence de deux complexants : l'edta et les ions tartrate. Les diagrammes d'equilibres tension-ph correspondant aux milieux etudies ont ete etablis sur la base des donnees thermodynamiques ; le vieillissement des solutions de methanal a ete suivi par spectrometrie infra-rouge. En couplant mesures electrochimiques et microgravimetriques in situ, on analyse individuellement la cinetique des deux reactions mises en jeu dans le processus global : oxydation du methanal et reduction du cuivre sur electrode cuivre. On montre que cette reduction passe par une espece soluble du cuivre monovalent. En outre, en bain tartrate comme en bain edta contenant des especes chlorure ou cyanure, il apparait un autre intermediaire reactionnel, de type cux, en phase solide ou adsorbee. Cette derniere espece est responsable de la vitesse de reduction elevee caracteristique de ces bains comparativement au bain edta sans additif. La validite du modele d'evans, qui permet en principe de prevoir la vitesse de depot chimique de cuivre a partir des donnees cinetiques des reactions individuelles, est alors discutee. Enfin, on determine les conditions optimales d'obtention de pistes de cuivre localisees, de dimensions microniques, sur plaquettes de silicium ; elles portent notamment sur le choix du bain, puis de la preparation des substrats par caracterisation electrochimique de leur activite catalytique. Cette etude a ete realisee sans traitement prealable d'activation au palladium.
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Joulaud, Mickaël. "Nouveaux schémas d'intégration pour les interconnexions cuivre inférieures à 90 nm : apport des dépôts chimiques : dépôt de cuivre par CVD comme couche d'accroche : dépôt de NiMo-P par voie chimique autocatalytique comme couche d'encapsulation." Paris 12, 2004. https://athena.u-pec.fr/primo-explore/search?query=any,exact,990003948120204611&vid=upec.
Abstract:
Des problèmes liés à l'intégration du cuivre sont attendus pour les interconnexions inférieures à 90 nm comme la conformité et la continuité de la couche d'accroche de cuivre ou encore la formation de cavités par électromigration à l'interface cuivre/barrière d'encapsulation. Cette thèse porte sur le développement de procédés de dépôts chimiques afin de résoudre ces problématiques. La faisabilité du dépôt industriel de couche d'accroche par CVD à partir de (hfac)Cu(MHY) a été démontrée. L'optimisation des conditions a permis d'obtenir un film continu et conforme de 50 ru-n d'épaisseur dans des interconnexions étroites. Un procédé de dépôt sélectif par voie chimique autocatalytique de NiMo-P comme couche d'encapsulation a été développé et transféré sur un équipement industriel. L'influence des paramètres réactionnels et la qualité de barrière à la diffusion du cuivre ont été établies. Un dépôt sélectif de NiMo-P a été obtenu avec un bain sans alcalin sur des motifs d'espacement 0,12 micronBy scaling down microchips, critical issues with copper integration are expected for the future interconnect generation (65 nm). First, the conforrnal deposition of a thin copper film (seedlayer), necessary to initiate the copper plating, could not be obtained using the current PVD techniques. Second, holes are generated at the copper/capping interface due to electromigration. This thesis is focused on new processes based on chemical deposition techniques as J solutions to the presented limitations. The feasibility of copper seedlayer CVD with an industriai tool using (hfac)Cu(MHY) was demonstrated. By developing a specific recipe, a 50 nm conformai seedlayer was deposited in narrow features. The selective electroless deposition ofNiMo-P as a capping layer to limit electromigration was investigated. The influence of experimental parameters and barrier efficiency ofNiMo-P were evaluated. A selective deposit was obtained on 0,12 micron spacing lines with an alkali free deposition bath
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Delettrez, Sophie. "Élaboration par voie gazeuse et caractérisation de céramiques alvéolaires base pyrocarbone ou carbure de silicium." Thesis, Bordeaux 1, 2008. http://www.theses.fr/2008BOR13723/document.
Abstract:
Les mousses de carbone vitreux à très forte porosité, qui résultent de la pyrolyse de mousses polymères, ont des propriétés mécaniques et thermiques inadaptées pour certaines applications structurales (absorption de choc, piles à combustible...). Lors de cette étude, des revêtements de pyrocarbone (PyC, à partir de propane) et de carbure de silicium (SiC, issu du mélange CH3SiCl3/H2) ont été mis en oeuvre par dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et les conditions expérimentales ont été optimisées afin d’améliorer les propriétés des mousses. Les caractéristiques mécaniques, thermiques et de transport gazeux ont été évaluées respectivement grâce à des tests de compression uniaxiale et des mesures sur bancs de diffusivité flash et de perméabilité. Les propriétés physiques varient dans une grande proportion avec la densité relative. Grâce au contrôle de la composition, de la structure, de l’homogénéité d’épaisseur des dépôts et de la densité relative des mousses, le procédé de CVD permet d’adapter précisément leurs propriétés à une application préciseHigh porosity open cell carbon foams, resulting from the pyrolysis polymeric foams, have inadequate properties for structural applications such as shock absorbers or fuel cells. In this study, pyrocarbon (PyC derived from propane) and silicon carbide (SiC from CH3SiCl3/H2 mixtures) coatings were prepared by Chemical Vapour Deposition (CVD) and the experimental conditions were optimized to improve the properties of the foams. The mechanical, thermal and gas transport properties were respectively assessed by uniaxial crushing tests, flash diffusivity and gas permeability measurements. The physical properties vary significantly with the relative density. The CVD process allows the tailoring of the foam properties, for a specific application, through an accurate control of the structure, the composition, the thickness uniformity of the coatings and the relative density of the foams
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Tartivel, Ronan. "Renforcement mécanique du verre : nouvelles compositions chimiques et dépôt de films minces élaborés par voie sol-gel." Rennes 1, 2007. http://www.theses.fr/2007REN1S183.
Abstract:
Ce travail, articulé en deux parties, s’inscrit dans une démarche exploratoire visant à améliorer la résistance mécanique du verre. Tout d’abord, nous avons abordé la recherche de nouvelles compositions vitreuses à hautes propriétés mécaniques. Les compositions ont été synthétisées à l’aide d’un dispositif original développé au laboratoire opérant sous atmosphère contrôlée. Les verres ont été caractérisés en termes de propriétés mécaniques et de structure pour d’identifier les paramètres gouvernant les propriétés mécaniques macroscopiques. Nous nous sommes intéressés dans la deuxième partie au dépôt sur la surface de films minces inorganiques élaborés par voie sol-gel (silice, alumine et zircone amorphes). Les échantillons ont été caractérisés par micro-indentation et micro-rayage. Des observations ont également été réalisées par microscopie à force atomique, dans le but de déterminer l’influence du traitement thermique et de la composition sur ces propriétésThis work aims at improving mechanical resistance of glass. Two aspects of reinforcement have been studied. First, we focused on the research of new glassy compositions exhibiting high mechanical properties. The compositions were synthesized using an original home-made device. The mechanical characteristics were then determined, and an exploratory study of the structure was conducted in order to establish the role of the reticulation of the network. The second part deals with the mechanical reinforcement of the surface. Indeed, small defects existing on the surface often affect the strength of the whole piece of glass. To minimize this effect, we deposited inorganic thin films obtained via sol-gel process by a dip-coating method. This way, ordinary soda-lime silicate glass substrates were coated and then characterized both mechanically and morphologically, to determine the influence of thermal treatment, as well as composition, on mechanical properties
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Vitiello, Julien. "Etude des matériaux diélectriques à très faible permittivité déposés par voie chimique en phase vapeur développés pour l'isolation des interconnexions cuivre des circuits intégrés pour les générations technologiques 45 nm et 32 nm." Lyon, INSA, 2006. http://theses.insa-lyon.fr/publication/2006ISAL0097/these.pdf.
Abstract:
Les besoins en performance des générations sub-65 nm impliquent l'utilisation de films diélectriques à très faible permittivité relative dans les interconnexions. Avec l'introduction du cuivre, deux films diélectriques interviennent dans l'architecture : un isolant entre les lignes métalliques et une barrière diélectrique recouvrant le dessus de ces lignes. Pour la génération 45 nm, le film isolant interligne de très faible permittivité relative est obtenu en introduisant de la porosité dans une matrice SiOC. Ces films poreux sont un véritable saut technologique pour l'ensemble de la chaîne de réalisation des interconnexions. Les barrières diélectriques doivent aussi présenter une permittivité relative faible. Dans ce but, le film SiCN, utilisé pour la génération 65 nm, doit être remplacé par un matériau présentant les mêmes caractéristiques barrière mais une densité moindre pour satisfaire les besoins en performances électriques. Le film isolant interligne présenté dans cette étude est basé sur une approche non porogène, dite de restructuration. L’étude du procédé de dépôt et des caractéristiques du film a permis de mettre en évidence les phénomènes physiques à l’origine de la structure à gradient du film. Les propriétés mécaniques ont pu être déterminées par nanoindentation à partir d’une méthode de mesure sur multicouches. L’amélioration de la tenue mécanique de ce film poreux a été étudiée avec un traitement thermique assisté par rayonnement ultraviolet. Son efficacité dépend du temps d’exposition et de l’atmosphère dans la chambre de traitement. De plus, la cinétique de réticulation de la structure SiOC est liée à la densité du film. Enfin, la faisabilité de l’intégration de ce film a été démontrée. En ce qui concerne les barrières diélectriques, deux solutions pour la génération 45 nm ont été comparées : une barrière SiC stabilisée par plasma et une bicouche SiCN. L’efficacité en tant que barrière à la diffusion a été mesurée grâce à deux méthodes développées dans cette étude. Cela a permis de mettre en évidence les performances de ces nouvelles couchesThe performance requirements for sub-65 nm generations imply the use of dielectric films with ultra low k-value in interconnects. With the introduction of copper, two dielectric films play a major role in the architecture: an insulator in between the metal lines and a dielectric barrier capping the top of these lines. For the 45 nm node, ultra low k-value insulators are obtained by introducing porosity into a SiOC matrix. These porous films are a true technological jump for the whole interconnect module integration. The dielectric barriers must also have a low k-value. To this purpose, the SiCN film, used for the 65 nm generation, must be replaced by a material showing the same barrier properties but less dense to satisfy the requirements in electric performances. The ultra low k-value insulator is based on a non porogen approach, called restructuring. The study of the process of deposit and the characteristics of film allow highlighting the physical phenomena at the origin of the graded structure in depth of the film. The mechanical properties were determined by nanoindentation, using a method based on multilayers. The improvement of the mechanical resistance of this porous film was obtained using a thermally assisted ultraviolet treatment. Its effectiveness depends on exposure duration and purge gas in the chamber. Moreover, the kinetics of cross-linking in the SiOC structure is related to the film density. Lastly, the feasibility of the integration of this film was evidenced. With regard to the dielectric barriers, two solutions for the 45 nm generation were evaluated: a plasma stabilized SiC layer and a SiCN bilayer. Their barrier efficiency was evaluated thanks to two methods developed in this study. That made it possible to qualify the performances of these new layers
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Jakab, Sandrine. "Cinétique de précipitation par voie électrochimique et de dissolution de solides mixtes de type molybdates ou hydroxydes/oxydes de lanthanide : étude de gravimétrie." Paris 6, 2009. http://www.theses.fr/2009PA066774.
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Diers, Mathieu. "Conception, étude et optimisation de nouvelles sources plasma à la résonance cyclotronique électronique. Application aux dépôts par voie chimique et par pulvérisation." Phd thesis, Université de Grenoble, 2010. http://tel.archives-ouvertes.fr/tel-00782845.
Abstract:
Le groupe HEF (Hydromécanique Et Frottements), premier équipementier et façonnier français en traitements de surface par plasmas hors microélectronique, utilise dans ses procédés industriels des sources plasma micro-onde multi-dipolaires fonctionnant sur le principe de la résonance cyclotronique électronique pour la réalisation de dépôts de type DLC par PACVD, et pour l'assistance ionique à la croissance de couches CrN par pulvérisation magnétron réactive. Suite à la présentation de l'utilisation de ces sources pour des dépôts de DLC et des ajustements nécessaires pour leur mise en œuvre industrielle, les travaux de cette thèse portent sur le développement de nouvelles sources plasma micro-onde en vue d'améliorer l'uniformité des traitements de surface dans le volume du réacteur ainsi que la productivité des réacteurs plasma pour le dépôt de ces couches. Les résultats obtenus sont intéressants puisque le développement d'une source étendue a permis d'augmenter la vitesse de dépôt des couches DLC sans dégradation des propriétés mécaniques et d'obtenir une uniformité similaire à celle obtenue avec les sources multi-dipolaires en utilisant deux fois moins d'applicateurs micro-onde. Les réflexions portant sur l'amorçage du plasma ont permis d'identifier les voies d'amélioration de cette source pour valider son utilisation en milieu industriel. L'utilisation de cette source étendue pour l'assistance ionique à la croissance de couches telles que le nitrure de chrome CrN par pulvérisation magnétron réactive a démontré un potentiel intéressant en termes de propriétés mécaniques obtenues et a permis d'identifier des axes de développement de cette configuration.
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Liu, Chia-Erh. "Synthèse et caractérisation de nano-cristallites de TiO² à basse température : stabilisation de solutions colloïdales et dépôts par voie chimique." Nantes, 2008. http://www.theses.fr/2008NANT2049.
Abstract:
Parmi les propriétés physico-chimiques des oxydes de titane, la photoactivité est sans doute la plus attractive en raison de ses nombreuses applications dans le domaine de la protection de l’environnement : purification de l’air et décontamination de l’eau, photo-électrolyse de l’eau, photo-superhydrophilicité et production d’énergie avec le photovoltaïque. La mise en œuvre de ce matériau dans les cellules photovoltaїques de IIIème génération nécessite la réalisation d’un film mince et dense de TiO2 permettant d’éviter les court-circuits, surmonté d’un dépôt nanostructuré et poreux afin d’optimiser la collecte des porteurs de charge photogénérés, dans un gel photosensible à base d’oxyde de titane. Afin d’obtenir ces deux dépôts qui possèdent les caractéristiques souhaitées, il importe de mieux comprendre les mécanismes de la polycondensation des oxydes de titane à l’échelle atomique et de caractériser leurs propriétés; ensuite, il faut préparer des suspensions stables pour réaliser les dépôts par voie humide. Les études précédemment menées au sein de l’Institut des Matériaux Jean Rouxel, ont permis de synthétiser différentes variétés d’oxyde de titane par l’hydrolyse du précurseur [Ti8O12(H2O)24]Cl8. HCl. 7H2O en présence de l’hydroxyde de tétraméthylammonium (TMAOH) en milieu aqueux, dans des conditions thermiques douces(≤120°C) en ajustant le rapport de Ti/TMAOH donc le pH. Pour un rapport R = Ti/OH = 0. 47, la structure lamellaire (TMA)2Ti2O4(OH)2 obtenue est caractérisée principalement par diffraction des rayons X et MET. Si la détermination de la structure n’a pas pu être complètement résolue, la modélisation par DFT a permis de confirmer un jeu de paramètres de maille dont la validité a été, par la suite, confirmée par affinement du diagramme de diffraction des rayons X. Par ailleurs, les distances interfeuillets ont été modulées par ajout de surfactants qui peuvent être photo-dégradés sous irradiation UV et conduire à des dépôts de TiO2 présentant une morphologie poreuse. Les rapports R = 0. 6 et R = 0. 8 permettent sélectivement de synthétiser à T<100°C, des nanocristallites d’oxydes de titane de structure brookite et anatase, respectivement. Leurs formules sont TiO1. 89(CO3)0. 05(OH)0. 13(H2O)0. 02 pour R = 0. 6 et TiO1. 88(CO3)0. 03(OH)0. 18(H2O)0. 09 pour R = 0. 8. Les carbonates adsorbés peuvent être liés au cation métallique sous deux formes : bidentate et monodentate La présence de ces groupements carbonates serait responsable des déformations du réseau observées par microscopie électronique sur les formes basse température de TiO2. Afin de vérifier l’influence des carboxylates, l’ajout d’acide malonique a été effectué dans ce système pour R = Ti/OH = 0. 4 et pH 8~9. Les particules d’anatase croissent préférentiellement selon [101] sous forme de bâtonnets. Les poudres avec R = 0. 8 et R = 0. 4 contenant l’acide malonique s’auto-arrangent en plaquettes denses et plates, de dimensions micrométriques. Les conditions de préparations de dépôts ont été étudiées : la stabilité des suspensions, les paramètres de trempage-retrait et tournette, le traitement de substrat SnO2/F. Un dépôt dense d’anatase avec une épaisseur de 50/80 nm et un dépôt poreux non cristallisé ont été obtenus. Les recherches visant à améliorer l’épaisseur des dépôts et la cristallinité sont en cours pour le développement de cellules photovoltaïques de IIIème génération
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Ocampo, Moreno Maricela. "Étude de l'effet de l'introduction de l'acide silicotungstique sur les dépôts de CdS et CdTe déposés par voie chimique et électrochimique et de leurs propriétés physico-chimiques." Mémoire, Université de Sherbrooke, 2006. http://savoirs.usherbrooke.ca/handle/11143/4737.
Abstract:
Les cellules solaires sont des dispositifs qui servent à transformer l'énergie solaire en énergie électrique. Ces dispositifs sont à base de semiconducteurs qui, par leurs propriétés optoélectroniques, présentent un grand intérêt pour d'autres applications que l'énergie solaire comme, par exemple, la photo-détection ou la photo-émission. Parmi les semiconducteurs, un des plus utilisés, en dehors du silicium, est le CdTe dont le rendement théorique est d'environ 25%. La largeur de la bande interdite de transition directe du CdTe est 1,5 eV. Il est donc plus efficace que le silicium. Le CdTe a aussi l'avantage de pouvoir être obtenu sous forme de couche mince par différentes techniques peu coûteuses. Le CdS est un autre semiconducteur, avec une largeur de bande interdite de transition directe de 2,45 eV qui, uni au CdTe, forme une jonction pn idéale pour fabriquer des cellules solaires. Le CdS peut être obtenu sous forme de couche mince par plusieurs techniques comme le dépôt par voie chimique. Malgré ces propriétés intéressantes, les couches peuvent présenter des défauts qu'il est nécessaire de corriger comme, par exemple, une mauvaise adhérence, une taille de grain trop petite, ainsi qu'une inhomogénéité et une résistivité élevée. L'acide silicotungstique (STA) a été utilisé comme catalyseur dans certains semiconducteurs afin d'améliorer leurs propriétés opto-électroniques comme la stabilité du dispositif. L'amélioration observée serait une conséquence de l'effet du STA sur d'autres caractéristiques telles que la taille de grain et l'homogénéité des couches. Le STA a été déjà utilisé sur le CdS pour étudier l'influence de ces couches sur les dispositifs photovoltaïques CdTe/CdS. L'utilisation du STA dans les systèmes d'élaboration de couches de CdS et de CdTe permettra d'améliorer la cinétique de réaction des couches minces plus homogènes de CdS et CdTe. L'objectif de ce travail est l'étude systématique de l'influence d'un ajout de STA dans les solutions de réaction sur les propriétés physiques, chimiques et optoélectroniques des couches minces de CdTe et CE en vue de leur possible utilisation dans les systèmes photovoltaïques. Différentes concentrations de STA ont été utilisées afin d'étudier l'influence de ce dernier sur les propriétés physico-chimiques de ces couches. Le dépôt des couches de CdS a été obtenu par déposition chimique en solution tandis que celui des couches de CdTe a été réalisé par électrodéposition en mode potentiostatique. Les couches de CdS ont été produites à différents temps de dépôt et elles ont subi des recuits à différentes températures et durées variables afin de déterminer les conditions optimales de dépôt.Les couches de CdTe ont surtout été élaborées à différents potentiels et temps de dépôt et à plusieurs concentrations de STA. La transmission optique a servi à étudier les propriétés optiques des couches obtenues. A partir des courbes de transmission, le calcul de la largeur de bande interdite et de l'épaisseur optique de couches donne, respectivement, des valeurs d'environ 2,3 eV et jusqu'à 500 nm pour les couches de CdS. Pour les couches de CdTe, les épaisseurs calculées ont atteint 1100 nm pour des couches sans STA et 1537 nm pour des couches avec STA. La largeur de bande interdite obtenue, pour le CdTe, sont comprises entre 1,47 eV et 1,5 eV. La technique Auger a permis de mesurer des épaisseurs de 220 nm pour le CdS sans STA et de 298 mn avec STA. L'analyse de la composition chimique a montré l'existence des éléments Cd et S et de traces de W pour le CdS et de Cd, Te, S et W pour le CdTe. Pour les couches de CdTe, les épaisseurs calculées par cette technique ont montrer des épaisseurs allant d'environ 600 nm à 1100 mn. Le rapport Cd: S dans la plupart des cas était inférieur à 1 et le rapport Cd: Te était majoritairement supérieur à 1. Par la technique de caractérisation XPS, on a trouvé que les couches de CdS étaient de type n. Cette technique a indiqué aussi que les énergies de liaison de Cd: S et de Cd: Te correspondaient au CdS et CdTe respectivement. Des analyses par diffraction de rayons X ont montré des pics de diffraction caractéristiques de la structure cubique pour les semiconducteurs étudiés, c'est-à-dire CdS et CdTe. L'homogénéité de couches, trouvée en utilisant la technique de microscopie à force atomique (AFM), variait entre 70 nm et 300 nm pour le CdS et entre 90 nm et 110 mn pour le CdTe. La caractérisation électrique des couches a révélé un courant de court circuit de -1,86 X 10[indice supérieur]-5 A et une tension de circuit ouvert de 5,97 X 10[indice supérieur -3] V dans l'obscurité. L'introduction de STA dans les solutions de dépôt a modifié les propriétés des semiconducteurs étudiés. Ces propriétés seraient améliorées si le STA était ajouté en faibles concentrations comme proposé au début du projet.
Books on the topic "Dépôt par voie chimique":
1
Ontario. Esquisse de cours 12e année: Le droit canadien et international cln4u cours préuniversitaire. Vanier, Ont: CFORP, 2002.
2
Ontario. Esquisse de cours 12e année: Étude de l'alimentation et de la nutrition hfa4m cours préuniversitaire. Vanier, Ont: CFORP, 2002.
3
Ontario. Esquisse de cours 12e année: Atelier d'écriture fae4o cours ouvert. Vanier, Ont: CFORP, 2002.
4
Ontario. Esquisse de cours 12e année: Histoire de l'Occident et du monde chy4u. Vanier, Ont: CFORP, 2002.
5
Ontario. Esquisse de cours 12e année: Géométrie et mathématiques discrètes mga4u cours préuniversitaire. Vanier, Ont: CFORP, 2002.
6
Ontario. Esquisse de cours 12e année: Français des affaires faf4o. Vanier, Ont: CFORP, 2002.
7
Ontario. Esquisse de cours 12e année: L'église et la culture hre4m. Vanier, Ont: CFORP, 2007.
8
Ontario. Esquisse de cours 12e année: Politique canadienne et mondiale cpw4u cours préuniversitaire. Vanier, Ont: CFORP, 2002.
9
Ontario. Esquisse de cours 12e année: The writer's craft eac4c cours précollégial. Vanier, Ont: CFORP, 2002.
10
Ontario. Esquisse de cours 12e année: Études interdisciplinaires un monde sans frontières idc4o cours ouvert. Vanier, Ont: CFORP, 2002.
Conference papers on the topic "Dépôt par voie chimique":
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Catros, S. "A quoi servent les Bio-Imprimantes 3D ?" In 66ème Congrès de la SFCO. Les Ulis, France: EDP Sciences, 2020. http://dx.doi.org/10.1051/sfco/20206601012.
Abstract:
Les imprimantes 3D existent depuis plusieurs décennies et le principe général de la fabrication additive est de déposer des couches successives de matériau afin dobtenir un volume, à partir d’un modèle défini à l’avance grâce à une interface informatique. Depuis quelques années, ces imprimantes sont utilisées dans le domaine médical : ainsi, les chirurgiens peuvent obtenir une réplique en résine d’une situation clinique afin de planifier leur geste chirurgical pour réaliser des interventions moins invasives. Par ailleurs, on peut aujourdhui imprimer certains biomatériaux synthétiques sur mesure afin dobtenir des greffons personnalisés basés sur limagerie tridimensionnelle d’un patient. Ces applications utilisent sur des imprimantes fonctionnant principalement sur le principe de la stéréolithographie (photopolymérisation sélective de résines photosensibles) ou bien du dépôt à chaud de fil fondu : ces technologies ne permettent pas dutiliser des composés biologiques tels que des cellules ou des biomolécules. Plus récemment, des imprimantes 3D dédiées à l’impression déléments biologiques (Bio-Impression) ont été développées. On distingue la Bioimpression assistée par laser, la bioimpression par jet dencre et lextrusion dhydrogels. Ces trois méthodes présentent des points communs (utilisation d’une encre biologique, modélisation du motif à imprimer et pilotage de limprimante par une interface informatique, impression couche par couche). Cependant, en fonction de la technologie utilisée, la résolution et le volume des motifs imprimés peuvent varier de façon importante. Les machines permettant d’imprimer à haute résolution ne sont habituellement pas adaptées lorsquon cherche à obtenir des volumes importants ; de la même façon, lorsqu’une technologie permet d’imprimer des volumes importants, il est souvent difficile dobtenir de hautes résolutions dimpressions. De ce fait, on doit parfois combiner plusieurs technologies pour produire certains assemblages complexes. Ainsi, il est primordial de définir finement ses objectifs avant de choisir une technologie de bioimpression. Les applications des imprimantes 3D de tissus biologiques (Bio-imprimantes) sont toutes dans le champ de lingénierie tissulaire et aujourdhui presque exclusivement dans le domaine de la recherche. Les méthodes permettant d’imprimer à haute résolution trouvent des applications principalement en biologie cellulaire lorsquon cherche par exemple àé valuer les capacités de communication de plusieurs types cellulaires : en effet, il est possible de créer des motifs réguliers en imprimant des gouttes de bioencre contenant chacune quelques cellules avec la technologie laser. Par ailleurs, d’autres technologies basées sur lextrusion permettent de manipuler des amas cellulaires (sphéroïdes) et de les organiser entre eux, ce qui peut trouver des applications dans le domaine de la cancérologie. En combinant les technologies, on peut aujourdhui mettre en place des modèles d’étude pharmacologiques qui pourraient à terme se substituer à certaines expérimentations animales et ouvrir la voie à certaines thérapies ciblées. Enfin, la fabrication dorganes par bioimpression (« Organ Printing ») reste aujourdhui du domaine de la science fiction, même si quelques équipes travaillent sur cet aspect. Les imprimantes 3D biologiques apportent donc de nouveaux outils pour le chercheur dans de nombreuses applications en biologie et en médecine régénératrice. Le choix de la méthode la plus adaptée à L’objectif de L’étude est primordial afin dutiliser au mieux ces technologies.