Dissertations / Theses on the topic 'Descarga gasosa'
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Sanabria, Edgar Rodolfo Rondán. ""Teoria e modelamento computacional de aquecimento de plasma por ondas de alfvén no tokamak TCABR"." Universidade de São Paulo, 2006. http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/43/43134/tde-20102006-111511/.
Full textIn this work we present the study of the determination the best regimes and parameters¶for the heating experiments and current generation and plasma flow in the tokamak TCABR. Study of effects of plasma rotation in low frequency (LF), field penetration, absorption and ponderomotive forces in Tokamak Chauffage Alfvén Brésilien (TCABR)is investigated with emphasis in the frequency range of 0, 510, 0kHz. The fields of LF are driven by the ergodic magnetic limiter (EML) in TCABR. A qualitative analytical study of the Alfvén waves and their resonances is performed using simple models. A numeric study was carried out using through three codes, called the kinetic totoidal code, the cylindrical code and the ALTOK code.
Levaton, Jacques. "Estudo dos processos físico-químicos da descarga e pós-descargas de N2 geradas a baixos valores de pressão." Florianópolis, SC, 2004. http://repositorio.ufsc.br/xmlui/handle/123456789/87183.
Full textMade available in DSpace on 2012-10-21T16:02:37Z (GMT). No. of bitstreams: 1 211290.pdf: 1653083 bytes, checksum: fcb84b36bb2f75c399f2718c443ec370 (MD5)
Fritzen, Clovis Lasta. "Estudo espectroscopico de uma descarga de oxigenio." reponame:Repositório Institucional da UFSC, 1988. http://repositorio.ufsc.br/xmlui/handle/123456789/75510.
Full textMade available in DSpace on 2012-10-16T01:59:00Z (GMT). No. of bitstreams: 0Bitstream added on 2016-01-08T15:53:48Z : No. of bitstreams: 1 79326.pdf: 5834385 bytes, checksum: 02ed8a60fba72f5e3e1c6966e4449343 (MD5)
Descargas de oxigênio têm sido largamente estudadas nestes últimos anos devido às suas grandes possibilidades de aplicações tecnológicas. A presença de íons negativos, constitui-se numa dificuldade e ao mesmo tempo num aspecto interessante para estudos fundamentais. Este trabalho, essencialmente experimental, é consagrado ao estudo espectroscópico destas descargas.
Wakamatu, Graziela Noeli. "Laser de argonio excitado por descarga tipo theta-pinch." [s.n.], 1997. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/260113.
Full textDissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica e de Computação
Made available in DSpace on 2018-07-22T02:08:07Z (GMT). No. of bitstreams: 1 Wakamatu_GrazielaNoeli_M.pdf: 1272099 bytes, checksum: 211d0ebb1c8c994c4e8aaf58520ee5cd (MD5) Previous issue date: 1997
Resumo: Embora theta-pinches tenham sido largamente usados na pesquisa da fusão nuclear controlada, pelo melhor de nosso conhecimento, estes dispositivos ainda não foram usados até o momento como forma de excitação do meio ativo de um laser. Este trabalho foi dedicado à construção de um theta-pinch, no qual foi instalada uma cavidade ressonante, com a finalidade de se observar radiação laser. O argônio foi utilizado como meio ativo. O plasma foi caracterizado elétrica; e espectroscopicamente. Valores típicos de corrente atingiram 40 kA de pico e pudemos detectar argônio três vezes ionizado presente no plasma. A emissão laser em 476,5 nm do argônio pôde ser observada com pico 25 vezes mais intenso que a emissão espontânea. Gráficos e tabelas apresentam os resultados experimentais. A Tese inclui uma introdução teórica e o projeto de construção do equipamento. Vários passos da construção e ajustes do sistema estão justificados através da aplicação da teoria adequada.
Abstract: In spite of theta-pinches have been widely used in controlled nuclear fusion research,by the best of our knowledge, such kind of device has never been used as excitation method for active media of lasers. In the present work, we described the project of a theta-pinch, in which a resonante cavity was installed, in order to transform it in a laser device. Argon gas was used as active media. Spectroscopic and electrical features were measured. Tipical 40 kA peak curret were found. Three times ionized argon was detected. Argon laser line at 476,5 nm was observed to have a 25 times more intense peak than equivalent spontaneous emission.Grafics and tables show our exprimental results. This work also includes theoretical introduction and the device's built project. Theory was used to justify many practical procedures used during the project.
Mestrado
Mestre em Engenharia Elétrica
Ronchi, Gilson 1985. "Estudos de descargas de plasma contínuas." [s.n.], 2012. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/278560.
Full textDissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Física Gleb Wataghin
Made available in DSpace on 2018-08-19T18:26:47Z (GMT). No. of bitstreams: 1 Ronchi_Gilson_M.pdf: 6202845 bytes, checksum: e9580b7846e57a9eb526cdf45b808564 (MD5) Previous issue date: 2012
Resumo: O conhecimento das condições para ruptura de gases e a formação de plasma são questões importantes, não apenas de interesse fundamental, mas também para muitas aplicações, tais como em deposição de filmes finos de óxido ou polímeros, limpeza de superfície de materiais ou implantação iônica, por exemplo. A ruptura de gases descrita pela lei de Paschen com a teoria de Townsend, na qual a tensão de ruptura é uma função do produto da pressão p do gás pela distância d entre os eletrodos, proporciona uma adequada descrição em certas condições, em gases sob baixa pressão, quando a distância entre os eletrodos é muito menor que o raio R dos mesmos. A medida que a razão desses valores aumenta, as curvas de Paschen são deslocadas para regiões de tensão de ruptura mais elevadas, bem como para valores pd mais elevados. Investigamos aqui, os motivos e as consequências desse fenômeno, bem como uma proposta de lei de escalas capaz de determinar a tensão de ruptura em condições distintas de descargas. Tal lei de escalas obtida empiricamente faz uso, além da pressão e distância dos eletrodos, da razão R/d, que surge naturalmente ao se considerar o processo de difusão na descarga. Discutimos ainda sobre as principais técnicas de diagnósticos aplicáveis ao plasma, para obtenção, por exemplo, das temperaturas e densidades eletrônicas/iônicas. Em particular, revisamos as técnicas de espectroscopia e sonda de Langmuir, que são técnicas importantes amplamente utilizadas
Abstract: The understanding of the gas breakdown mechanism and plasma formation are important issues not only of fundamental interests, but also for many applications such as oxide thin films or polymers deposition, surface cleaning and ion implantation, for example. The breakdown described by Paschen¿s law with Townsend¿s theory, where the breakdown voltage is a function of the product of the gas pressure p and the gap distance d, provides a very accurate description under certain conditions as in low pressure gases when the distance between the electrodes is much smaller than its radius R. As the ratio d/R increases, the Paschen curves are shifted to regions of higher breakdown voltage, as well as higher pd values. In this work we investigate the reasons and consequences of this phenomenon, as well as a scaling law capable of determining the breakdown voltage of discharges in different conditions. This scalling law, obtained empirically, uses the gas pressure, the electrodes gap distance and the ratio R/d, which arises naturally when one consider the diffusion process in the discharge. We also discuss the main diagnostic techniques applicable to plasma to obtain, for example, temperature and electronic/ionic density. In particular, we review the techniques of spectroscopy and Langmuir probe, which are important techniques widely used
Mestrado
Física
Mestre em Física
Nahorny, Jacimar. "Estudo de descargas eletricas em misturas N2/02." reponame:Repositório Institucional da UFSC, 1990. http://repositorio.ufsc.br/xmlui/handle/123456789/75610.
Full textMade available in DSpace on 2012-10-16T02:49:49Z (GMT). No. of bitstreams: 0Bitstream added on 2016-01-08T16:43:00Z : No. of bitstreams: 1 79130.pdf: 2210775 bytes, checksum: 00ecb6abae52257ec3cc215254881b9a (MD5)
Estudamos experimentalmente descargas elétricas em misturas N2/O2 a baixas pressões e baixas correntes. Determinamos os parâmetros ne; E/N;e Tr, fundamentais para as proposições de modelos cinéticos que descrevem a evolução da intensidade de bandas e raias em função da corrente elétrica da descarga. Observamos a influência da presença de oxigênio molecular nestas descargas, tanto do ponto de vista das medidas dos parâmetros elétricos e de temperatura, bem como na formação dos estados atômicos e moleculares excitados. As análises espectroscópicas das descargas, nos permitiu identificar e estudar os estados emissivos N2(C) - N2+(B) - NO(A) - N2(B) - O(3P) para os quais escrevemos equações cinéticas que descrevem os principais mecanismos de excitação de tais estados. Do estudo destes estados excitados fica claro que a presença de oxigênio molecular em uma descarga elétrica com nitrogênio, provoca relaxações nos níveis vibracionais do N2(X,v). Observamos que este efeito inibe mecanismos de formação do estado N2+(B) por transferência colisional de energia. Esta relaxação também é importante na formação do N2(C), visto que o coeficiente de excitação por impacto eletrônico direto para este estado é uma função do número quântico vibracional 'v' do N2(X). Quanto a formação do NO(A), encontramos que ocorre um máximo na taxa de formação desta molécula para d =0.20.
Santana, Simone Izabel Vieira de. "Determinação da densidade de N(4S) em descargas e pós-descargas de N2 e N2 - O2." Instituto Tecnológico de Aeronáutica, 2007. http://www.bd.bibl.ita.br/tde_busca/arquivo.php?codArquivo=462.
Full textCadorin, Bruno Mena. "Degradação de corantes azo por plasma frio de descarga corona." Florianópolis, 2012. http://repositorio.ufsc.br/xmlui/handle/123456789/96167.
Full textMade available in DSpace on 2012-10-26T09:26:17Z (GMT). No. of bitstreams: 1 303917.pdf: 2000217 bytes, checksum: 0474276782ae1fe191eba9a31bb9e2ae (MD5)
O presente trabalho enfoca o processo de degradação de três corantes azo em meio aquoso por plasma frio de descarga corona. A influência de parâmetros operacionais do sistema de trabalho, perfil cinético da degradação, efeito pós descarga, identificação de subprodutos de degradação e resultados da mineralização dos compostos foram estudadas. Neste estudo, foram escolhidos como modelo, três corantes monoazóicos com estrutura química semelhante: alaranjado de metila, vermelho de metila e amarelo de metila. Parâmetros operacionais como gap de descarga, potência aplicada, pH e temperatura do meio foram estudados na degradação dos corantes alaranjado de metila e vermelho de metila a fim de compreender a influência de cada parâmetro nas reações de degradação. Com base nesse estudo constatou-se, que a reação de degradação para ambos os corantes é favorecida quando a potência elétrica aplicada e a temperatura são aumentadas, mantendo constante o gap de descarga em 10 mm e em pH do meio ácido (2). Juntamente com o estudo da influência dos parâmetros operacionais foi realizado o estudo cinético das reações de degradação para os mesmos corantes. Para ambos, foi constatado que o perfil cinético da reação de degradação se ajusta ao modelo de ordem zero em relação aos corantes. Espécies químicas produzidas durante a reação de degradação como NO2-, NO3- e H2O2 foram identificadas no meio reacional. Através da cromatografia iônica, NO2- e NO3- foram quantificados em meio aquoso quando o plasma frio foi gerado em atmosfera de nitrogênio. Com base nisso, estima-se que o NO3- é possivelmente proveniente da oxidação do NO2- por H2O2. Estas espécies foram quantificadas e suas concentrações em fase aquosa são fortemente dependentes do tipo de gás de trabalho utilizado. Foi evidenciado que o chamado efeito pós descarga temporal, caracterizado pela degradação do corante em fase aquosa após aplicação do plasma, ocorre de acordo com um perfil cinético de pseudo primeira ordem; diferentemente da degradação direta pelo plasma. As espécies produzidas na degradação direta pelo plasma foram identificadas por espectrometria com ionização por eletronspray. Um possível esquema da reação de degradação foi proposto em função dos diferentes gases de trabalho utilizados na formação do plasma. Fica evidente a formação de espécies com peso molecular menor com o tempo de exposição ao plasma. A análise de carbono orgânico total indicou que quando o plasma é formado em atmosfera de argônio o percentual de remoção é maior. Em suma, o perfil cinético da reação de degradação para os corantes azo alaranjado de metila, vermelho de metila e amarelo de metila foi o mesmo e o processo caracterizado como ordem zero.
The present study describes the degradation process of three azo dyes in aqueous medium by corona discharge non thermal plasma. The influence of operating parameters on the working system, the degradation kinetic profile, the post-discharge effect, the identification of degradation byproducts, and the compounds mineralization results were studied. In this study, three monoazo dyes with similar chemical structure were chosen as a model: methyl orange, methyl red and methyl yellow. Operational parameters such as discharge gap, applied power, pH and temperature of the medium were studied on the degradation of the dyes methyl orange and methyl red in order to understand the influence of each parameter on the degradation reactions. Based on this study, it was found that the degradation reaction for both dyes is favored when the applied electric power and the temperature are increased, keeping a constant discharge gap of 10 mm and maintaining the acidic pH (2). Along with the study of the influence of operating parameters, a kinetic study of degradation reactions was performed for the same dyes. For both, it was found that the kinetic profile of the degradation reaction fits the model of zero order on the dye. Chemical species produced during the degradation reaction such as NO2-, NO3-and H2O2 were identified in the reaction medium. Through ion chromatography, NO2- and NO3- were measured in aqueous media when the non thermal plasma was generated in a nitrogen atmosphere. Based on that, it is estimated that the NO 3-is possibly coming from the oxidation of NO2- by H2O2. These species were quantified and their concentration in the aqueous phase are strongly dependent on the type of working gas used. It was evidenced that the called post-discharge temporal effect, characterized by the dye degradation in the aqueous phase after application of the plasma, takes place according to a pseudo first order kinetic profile, differently from direct degradation by plasma. The species produced by the plasma direct degradation were identified by ionization eletronspray spectrometry. A possible scheme of the degradation reaction was proposed according to the different working gases used to form the plasma. The formation of species with less molecular weight with the time of exposure to plasma became evident. The total organic carbon analysis indicated that when the plasma is formed in the argon atmosphere, the removal percentage is higher. In sum, the kinetic profile of the degradation reaction to the azo dyes methyl orange, methyl red and yellow methyl was the same and the process characterized as zero order.
Silva, Neto Jose Cupertino da. "Medida da densidade de atomos no estado metastavel em uma descarga de argonio." reponame:Repositório Institucional da UFSC, 1988. http://repositorio.ufsc.br/xmlui/handle/123456789/75474.
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A determinação da densidade de átomos metastáveis em uma descarga de coluna positiva de argônio é obtido medindo a absorção óptica. Para obtenção de tais medidas utilizou-se dois tubos de descarga elétrica de mesma dimensão e submetidos a pressões e correntes iguais, um funcionando como lâmpada e outro como célula de absorção. Com a montagem e considerando a auto-absorção na equação que relaciona a absorção com a densidade de átomos metastáveis, mostrou-se que esta última pode ser obtida sem que haja necessidade de medir a largura a meia altura das linhas da lâmpada e do plasma. São discutidos os limites de validade do método, em particular a pressões superiores a 10 torr, onde, além da auto-absorção, deve também ser considerado o alargamento das linhas por efeito de pressão. Finalmente, a título de verificação, medidas de absorção são feitas utilizando-se uma lâmpada Phillips de argônio permitindo que se encontre a largura de linhas da lâmpada. Os valores obtidos apresentam bom acordo com valores encontrados por outros autores.
Melo, Stella Maris Ludovico. "Estudo de descargas a corrente continua em misturas N2-H2." reponame:Repositório Institucional da UFSC, 1989. http://repositorio.ufsc.br/xmlui/handle/123456789/75538.
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O estudo de descargas elétricas em nitrogênio e em misturas N2 - M, onde M = O2, H2,..., tem merecido especial atenção nos últimos anos, pela sua importância na compreensão dos processos de lasers e na otimização do tratamento de superfícies em reatores a plasmas. No que se refere a descargas em misturas N2 - H2, estudos têm sido realizados, particularmente, em reatores de nitretação do ferro. É verificado que a presença do hidrogênio torna o método mais eficiente. No entanto, a complexibilidade dos processos físico-químicos que ocorrem nestes reatores, dificultam uma melhor compreensão das reações entre as diversas espécies presentes na descarga. Este trabalho constitui-se em um primeiro passo no sentido de elucidar a cinética dos elétrons, dos íons e das moléculas, em misturas N2 - H2, partindo do estudo da coluna positiva de descargas luminescentes a corrente contínua. No intervalo de pressões de 0,20 a 1,05 torr e correntes máximas de 50mA, estudamos a evolução do módulo do campo elétrico axial e da intensidade de bandas, tanto do segundo sistema positivo quanto do primeiro sistema negativo do nitrogênio, com a concentração de hidrogênio na mistura. Observamos que o módulo do campo elétrico axial aumenta ligeiramente com a concentração de hidrogênio, até 5% da pressão total, tendendo à saturação. Verificamos também, que as intensidades das bandas do segundo sistema positivo aumentam e que a do primeiro sistema negativo diminue com a presença de hidrogênio na descarga. Propomos então, um modelo cinético como uma tentativa inicial de explicar os resultados obtidos.
Digiacomo, Marcia Regina de Oliveira. "Influencia do hidrogenio na dissociação do nitrogenio em descargas eletricas." reponame:Repositório Institucional da UFSC, 1995. http://repositorio.ufsc.br/xmlui/handle/123456789/76365.
Full textMade available in DSpace on 2012-10-16T09:40:24Z (GMT). No. of bitstreams: 0Bitstream added on 2016-01-08T20:01:09Z : No. of bitstreams: 1 101349.pdf: 1674828 bytes, checksum: 884bc077da33aa8c39f388671526eec4 (MD5)
Lima, Iara Batista de. "Medidas do primeiro coeficiente Townsend de ionização em gases inibidores de descargas." Universidade de São Paulo, 2014. http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/85/85131/tde-18062014-132035/.
Full textIn the present work, results concerning the first Townsend ionization coefficient (α) in pure isobutane within the density-normalized electric field (E/N) range of 145 to 194 Td are presented. The experimental setup consists of RPC-like cell with the anode made of a high resistivity glass (2 x 1012 Ωcm) and a metallic cathode, directly connected to an electrometer, on which photoelectrons are produced by the incidence of a pulsed laser beam. The α coefficient is determined by measuring the current under primary ionization and avalanche regime. Since for the E/N range covered by this work, there are no experimental values for pure isobutane available in the literature, the obtained values were compared with Magboltz 2 results. Our studies included the determination of α coefficient for different repetition rates and laser beam intensity. The ratio of the fast charge to the total charge is related to the first Townsend coefficient, so studies concerning the ionic and the electronic contribution to the average current were also performed. Since there are few results available in the literature for isobutane, concerning collisional cross section and electron transport parameters, is common to consider results from its structural isomer: n-butane. Thus, in order to perform a comparative analysis, the coefficient α was also determined for n-butane.
LIMA, IARA B. de. "Medidas do primeiro coeficiente townsend de ionização em gases inibidores de descargas." reponame:Repositório Institucional do IPEN, 2014. http://repositorio.ipen.br:8080/xmlui/handle/123456789/10626.
Full textMade available in DSpace on 2014-10-09T14:02:06Z (GMT). No. of bitstreams: 0
Tese (Doutoramento)
IPEN/T
Instituto de Pesquisas Energeticas e Nucleares - IPEN-CNEN/SP
Brand, Anesio Boger. "Medida da temperatura em descargas N2+H2 usando o metodo de espectroscopia de emissão." reponame:Repositório Institucional da UFSC, 1991. http://repositorio.ufsc.br/xmlui/handle/123456789/75727.
Full textMade available in DSpace on 2012-10-16T03:53:32Z (GMT). No. of bitstreams: 0Bitstream added on 2016-01-08T17:02:04Z : No. of bitstreams: 1 84778.pdf: 1428063 bytes, checksum: f874a4d7fb70319dea2f05929061976d (MD5)
O estudo de descargas luminescentes no regime anormal tem merecido especial atenção devido a sua aplicabilidade nos processos de nitretação de superfícies metálicas. Um dos parâmetros importante a ser controlado no processo de nitretação é a temperatura do subtrato, por ser um fator determinante em reações químicas e processos de difusão. O nosso trabalho consiste em medir a "temperatura" rotacional dos estados N2+(B) e N2(C) do nitrogênio próxima ao cátodo, a partir da medida das intensidades relativas das linhas do espectro rotacional de emissão desses estados. As "temperaturas" rotacionais são comparadas com a temperatura do substrato que é determinada através de um termopar. É mostrado que a "temperatura" rotacional do estado N2+(B) é idêntica à temperatura do substrato exceto para descargas de nitrogênio puro a pressões superiores a 1,0 torr, enquanto que a "temperatura" rotacional do estado N2(C) é idêntica à temperatura do substrato, o que está de acordo com os resultados da literatura.
Pereira, Robson Valentim. "Estudo espectroscopico de radicais benzil por espectroscopia de emissão em descargas." [s.n.], 2002. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/250338.
Full textDissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Quimica
Made available in DSpace on 2018-08-03T18:13:18Z (GMT). No. of bitstreams: 1 Pereira_RobsonValentim_M.pdf: 3604170 bytes, checksum: c68fc73bb8db7965ef1628f301334132 (MD5) Previous issue date: 2002
Mestrado
Rocha, Vanessa [UNESP]. "Esterilização de materiais termossensíveis através de aplicação de plasma gerado por descarga com barreira dielétrica (DBD)." Universidade Estadual Paulista (UNESP), 2009. http://hdl.handle.net/11449/86650.
Full textCoordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior (CAPES)
Este trabalho teve por objetivo estudar a propriedade do plasma em pressão atmosférica para esterilização de materiais termossensíveis. Para testar a propriedade do plasma frio de esterilizar materiais termossensíveis, concentramos nossos experimentos no plasma gerado por descarga com barreira dielétrica (DBD). Para realizar nossos experimentos usamos os microrganismos Cândida albicans ATCC18804, Escherichia coli ATCC23922, Bacillus subtilis ATCC19659, e Staphylococcus aureus ATCC 6538. Primeiramente, realizamos descarga DBD sobre uma placa de microtitulação contendo suspensões de microrganismos, mas observamos que, neste caso, a descarga DBD não teve eficácia na esterilização, devido a não penetração das entidades reativas (ozônio, UV), dentro desse volume de microrganismos. Modificamos nosso sistema, colocando um eletrodo adaptado a uma placa de Petri, e aplicamos a descarga DBD sobre os microrganismos em suspensão semeados em Agar. Realizamos exposição de 2, 5, 10, 15 e 20 minutos, com 1,1W de potência, tensão de 40kV pico-a-pico e aproximadamente 1 cm de distância entre o eletrodo superior e o meio de cultura. Observamos o crescimento dos meios de cultura tratados (contagem de UFC) e analisamos a morfologia dos microrganismos tratados em comparação com as amostras sem tratamento, através de microscopia eletrônica de varredura (MEV). Através desses experimentos, pudemos observar que, no caso de superfícies, o plasma é um método de esterilização eficiente e rápido. Isso porque, durante a descarga são formados ozônio, fótons UV, e partículas livres carregadas, que podem contribuir para o efeito esterilizante
The objective of this work was to investigate the application of plasma at atmospheric pressure for sterilization of termosensitive materials. To test the capability of cold plasma to sterilize termosensitive materials, we concentrated our study on the plasma generated by a dielectric barrier discharge (DBD). In our experiments we used the microorganisms Candida albicans ATCC18804, Escherichia coli ATCC23922, Bacillus subtilis ATCC19659, and Staphylococcus aureus ATCC 6538. Firstly, we produce a DBD discharge in a microtitulation plate containing suspensions of the microorganism and no sterilization effect was observed. This is due to the fact that no penetration of the reactivates species (ozone, UV) inside of the volume of microorganisms. We modified our system, putting an adapted electrode on the cover of a Petri plate, and we applied the DBD discharge on microorganisms in suspension sowed in Agar. We used different times of treatment (2, 5, 10, 15 and 20 minutes), with mean power of 1,1W, 40kV pick-to-pick voltage and approximately 1 cm of distance between the superior electrode and the culture media. We evaluate the growth on the treated culture media (counting the colony-forming unit - CFU) and also analyzed the morphology of the treated microorganisms in comparison with the samples without treatment, through scanning electronic microscopy (SEM). Through these experiments, we could observe that, applied on a surfaces, the plasma is an efficient and fast sterilization method. This is because during the discharge are formed ozone, UV photons, and free particles, that can contribute to the effect of sterilization
Rocha, Vanessa. "Esterilização de materiais termossensíveis através de aplicação de plasma gerado por descarga com barreira dielétrica (DBD) /." Guaratinguetá, 2009. http://hdl.handle.net/11449/86650.
Full textBanca: Maurício Antonio Algatti
Banca: Cristiane Yumi Koga Ito
Resumo: Este trabalho teve por objetivo estudar a propriedade do plasma em pressão atmosférica para esterilização de materiais termossensíveis. Para testar a propriedade do plasma frio de esterilizar materiais termossensíveis, concentramos nossos experimentos no plasma gerado por descarga com barreira dielétrica (DBD). Para realizar nossos experimentos usamos os microrganismos Cândida albicans ATCC18804, Escherichia coli ATCC23922, Bacillus subtilis ATCC19659, e Staphylococcus aureus ATCC 6538. Primeiramente, realizamos descarga DBD sobre uma placa de microtitulação contendo suspensões de microrganismos, mas observamos que, neste caso, a descarga DBD não teve eficácia na esterilização, devido a não penetração das entidades reativas (ozônio, UV), dentro desse volume de microrganismos. Modificamos nosso sistema, colocando um eletrodo adaptado a uma placa de Petri, e aplicamos a descarga DBD sobre os microrganismos em suspensão semeados em Agar. Realizamos exposição de 2, 5, 10, 15 e 20 minutos, com 1,1W de potência, tensão de 40kV pico-a-pico e aproximadamente 1 cm de distância entre o eletrodo superior e o meio de cultura. Observamos o crescimento dos meios de cultura tratados (contagem de UFC) e analisamos a morfologia dos microrganismos tratados em comparação com as amostras sem tratamento, através de microscopia eletrônica de varredura (MEV). Através desses experimentos, pudemos observar que, no caso de superfícies, o plasma é um método de esterilização eficiente e rápido. Isso porque, durante a descarga são formados ozônio, fótons UV, e partículas livres carregadas, que podem contribuir para o efeito esterilizante
Abstract: The objective of this work was to investigate the application of plasma at atmospheric pressure for sterilization of termosensitive materials. To test the capability of cold plasma to sterilize termosensitive materials, we concentrated our study on the plasma generated by a dielectric barrier discharge (DBD). In our experiments we used the microorganisms Candida albicans ATCC18804, Escherichia coli ATCC23922, Bacillus subtilis ATCC19659, and Staphylococcus aureus ATCC 6538. Firstly, we produce a DBD discharge in a microtitulation plate containing suspensions of the microorganism and no sterilization effect was observed. This is due to the fact that no penetration of the reactivates species (ozone, UV) inside of the volume of microorganisms. We modified our system, putting an adapted electrode on the cover of a Petri plate, and we applied the DBD discharge on microorganisms in suspension sowed in Agar. We used different times of treatment (2, 5, 10, 15 and 20 minutes), with mean power of 1,1W, 40kV pick-to-pick voltage and approximately 1 cm of distance between the superior electrode and the culture media. We evaluate the growth on the treated culture media (counting the colony-forming unit - CFU) and also analyzed the morphology of the treated microorganisms in comparison with the samples without treatment, through scanning electronic microscopy (SEM). Through these experiments, we could observe that, applied on a surfaces, the plasma is an efficient and fast sterilization method. This is because during the discharge are formed ozone, UV photons, and free particles, that can contribute to the effect of sterilization
Mestre
Sagás, Julio César. "Combustão assistida a plasma gerado por descarga de arco deslizante para produção de gases ricos em H2." Instituto Tecnológico de Aeronáutica, 2013. http://www.bd.bibl.ita.br/tde_busca/arquivo.php?codArquivo=2250.
Full textSOUSA, Ricardo Aurélio Fragoso de. "Um modelo teórico-experimental de recuperador do calor sensível contido nos gases da descarga de uma microturbina." Universidade Federal de Pernambuco, 2005. https://repositorio.ufpe.br/handle/123456789/5623.
Full textNo presente trabalho foi desenvolvido um modelo teórico-experimental para determinação do desempenho de um recuperador do calor sensível contido no gás de combustão originado de uma microturbina. A parte experimental foi realizada na planta COGENCASA da UFPE, onde uma microturbina, fabricação CAPSTONE, de 30 kW de potência de pico, consome gás natural e fornece energia elétrica. Os gases de combustão, após saírem da turbina, passam por um recuperador de calor, onde parte do calor sensível é transferido para a água no recuperador de calor. O recuperador de calor é um trocador de calor compacto. Através de medidores de temperatura (termopares) e medidores de vazão foi possível a obtenção do desempenho do recuperador de calor. A parte teórica foi desenvolvida através do balanço de massa e energia no trocador de calor tendo sido elaborado um programa em MATLAB, que determinou o valor da energia térmica cedida pelos gases de combustão e o valor da energia térmica recebida pela água. Realizou-se, então, uma comparação entre os valores encontrados na parte experimental e os valores indicados em catálogos de um recuperador de calor, similar ao que é objeto do estudo. Concluiu-se, por fim, que os valores obtidos através do programa desenvolvido estavam similares aos valores indicados pelo fabricante do trocador
Santos, Armando Sarmiento. "Introdução de nitrogênio em ligas sinterizadas de Fe-Cr, submetidas a uma descarga luminescente anormal." Florianópolis, SC, 2003. http://repositorio.ufsc.br/xmlui/handle/123456789/85562.
Full textMade available in DSpace on 2012-10-20T20:07:33Z (GMT). No. of bitstreams: 1 195715.pdf: 927370 bytes, checksum: 5efaf42c8eea0fc4d772e8955acc4670 (MD5)
A introdução de nitrogênio em ligas ferríticas de Fe-Cr foi realizada em temperaturas acima de 900oC utilizando-se um plasma de uma descarga luminescente anormal (DLA) de corrente contínua pulsada. O ganho de massa, das amostras, em função do teor de cromo, da temperatura, da pressão parcial de nitrogênio (PN), da configuração da descarga e do tempo de tratamento foi medido durante o processo, encontrando-se um comportamento termodinâmico qualitativamente similar ao previsto teoricamente, considerando-se o processo de absorção de nitrogênio em fluxo gasoso. Um valor máximo no ganho de massa e um valor mínimo na potência da descarga são observados quando PN é variada, sob as mesmas condições de tempo e temperatura, o que estaria relacionado com a geração de íons energéticos adicionais na presença do hidrogênio e/ou com a queda da recombinação do nitrogênio (N) com as espécies absorvidas na superfície do catodo da descarga. A difusividade do nitrogênio nas ligas foi avaliada a 950oC, como função do teor de Cr, obtendo-se um valor para o coeficiente de difusão de 9,52x10-13 a 8,74x10-12 m2/s para teores de cromo entre 13 e 28%. Utilizando a análise estrutural por difração de raios X (DRX) observou-se a presença das fases austenítica do ferro e nitreto de cromo, na superfície das amostras as quais podem ser modificadas pela temperatura e tempo do processo. Sob a baixa pressão parcial de nitrogênio, nas temperaturas utilizadas, a formação do nitreto de cromo seria um atributo exclusivo da DLA quando comparada com os processos metalúrgicos convencionais. Como resultado da analise por microscopia eletrônica de varredura (MEV) pode-se destacar a identificação de uma microestrutura martensítica na liga com 13% Cr e uma estrutura similar à da perlita para as ligas com 18 e 23% Cr, além de precipitados de nitreto de cromo e austenita mais evidentes na liga com 28% Cr. Os ensaios de microdureza mostraram que a dureza aumenta levemente com o teor de cromo enquanto o perfil de microdureza se estreita. O ferro puro submetido às mesmas condições de processamento não apresenta qualquer mudança nas propriedades acima estudadas para as demais ligas, confirmando-se assim a importância do cromo na incorporação do nitrogênio nas ligas ferrosas.
Jiménez, Aviles Gerardo 412287, and Aviles Gerardo Jiménez. "Degradación de gases tóxicos provenientes de motores de combustión interna mediante tecnología de plasma frio." Tesis de maestría, Universidad Autónoma del Estado de México, 2015. http://hdl.handle.net/20.500.11799/49364.
Full textCrispim, Lucas Wilman da Silva. "Estudo do comportamento de descargas elétricas em misturas ar/metano." Universidade Federal de Juiz de Fora (UFJF), 2015. https://repositorio.ufjf.br/jspui/handle/ufjf/3546.
Full textApproved for entry into archive by Adriana Oliveira (adriana.oliveira@ufjf.edu.br) on 2017-03-06T20:22:46Z (GMT) No. of bitstreams: 1 lucaswilmandasilvacrispim.pdf: 4368508 bytes, checksum: dd17a101d7a17f37da33d9d15bac1645 (MD5)
Made available in DSpace on 2017-03-06T20:22:46Z (GMT). No. of bitstreams: 1 lucaswilmandasilvacrispim.pdf: 4368508 bytes, checksum: dd17a101d7a17f37da33d9d15bac1645 (MD5) Previous issue date: 2015-03-10
CAPES - Coordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior
Este estudo tem como objetivo a modelagem numérica do efeito de descarga elétrica em misturas de ar e metano, considerando um modelo bidimensional que envolvem transferência de calor e de massa, além de um submodelo discreto de distribuição da energia das colisões eletrônicas entre as diversas espécies presentes na mistura. O domínio foi dividido em duas regiões, com e sem descarga eletrônica. Para a região de descarga são considerados efeitos das colisões com elétrons, químicos e de transferência de calor e de massa, para a região externa a descarga são considerados efeitos químicos, de transferência de calor e de massa. Foram simuladas quatro configurações diferentes de descarga em mistura representando ar seco e uma simulação de descarga em misturas de ar com metano. Neste trabalho considera-se o ar como fluido incompressível e composto por diversas espécies. Para encontrar a solução aproximada do modelo foi aplicado o método das diferenças finitas em um meio heterogêneo, foram também utilizadas estratégias numéricas para a separação de determinados termos nas equações, e por fim a resolução destes termos foram obtidas através da ferramenta de análise de plasma zero dimensional, ZDPlasKin. No domínio do tempo, foi utilizado o método de Euler, um esquema numérico explicito. Utilizou-se uma configuração para a descarga eletrônica de 10% para o regime de trabalho, e foram analisados dois tipos de misturas gasosas, uma representando uma mistura de N2 _ O2, e outra representando uma mistura de metano e ar. Foram analisados resultados referentes ao perfil de temperatura no domínio em diferentes instantes de tempo, além de analisar a variação temporal em diversas espécies contidas nas misturas, em determinados pontos do domínio. Devido ao alto custo de resolução de determinados termos das equações, foi utilizada uma estratégia de paralelização do tipo Mestre-Escravo na API (Application Programming Interface) de programação paralela MPI (Message Passing Interface). Foi observado através dos resultados o aquecimento e a difusão do calor da região de descarga para a região externa, e a difusão de espécies excitadas geradas na região de descarga para a região externa. Conseguiu-se observar nos resultados o aquecimento da região externa devido a condução do calor e a difusão de espécies geradas na região de descarga que saem por difusão para região externa, e esta migração contribuiu para o aquecimento da região externa, uma vez que estas espécies tendem a relaxação na região externa a descarga.
This study aims the numerical modeling of electrical discharge in mixtures of air and methane, considering a two-dimensional model that involves a heat mass transfer, besides a discrete submodel of electronic distribution of collisions among several species in the mixture. The domain was divided into two regions, with and without discharge. The discharge region considers the effect of collisions with electrons, heat and mass transfer and chemical effects. Four simulations sets of discharge in mixture with dry air and another mixture with air and methane were executed. This study considers the air as incompressible formed by several species. To find the solution of the mathematical model, the finite difference method in a heterogeneous medium was applied; in addition, numerical techniques to split some operators of the equation were also adopted. Finally, the approximate solution of these models were obtained by a zero dimensional plasma analysis tool, ZDPlasKin. In the time domain, the Euler method, an explicit numerical scheme, was used. The electronic discharge was set 10% to the work scheme; and two types of gas mixture were analyzed, one representing a mixture of N2 _ O2 and another with methane and air. Results referring to the temperature profile in the domain in different time steps were analyzed, as well as the temporal variation of several species contained in the mixtures in some points of the domain. Due to the high computational cost demanded to solve some equation terms, a master-slave parallelization strategy through MPI (Message Passing Interface), a parallel programming API (Application Programming Interface) was used. The results ilustrated the heating and heat diffusion from discharge region to external region, and the diffusion of excited species generated from the discharge region to external region. The heating in external region occurred due to heat conduction and species diffusion generated in the discharge region (that diffunding through external region). This migration contributed to the heating of external region, since these species tending to de-excitation in region out of discharge.
Siqueira, Marcelo Barbosa [UNESP]. "Caracterização de filmes finos polimerizados por plasma a partir dos monômeros hexametildisilazano e acetileno e posteriormente expostos à descarga por barreira dielétrica." Universidade Estadual Paulista (UNESP), 2014. http://hdl.handle.net/11449/111066.
Full textDois grupos de filmes finos foram feitos por polimerização em plasma, um a partir do HMDSN e outro a partir do C2H2 sob, respectivamente, uma pressão de 4Pa e de 10Pa e em um mesmo reator de aço inoxidável. A descarga foi excitada por rádio-frequencia (13,56MHz) durante 15 minutos para a polimerização a partir do C2H2 e 1 hora no caso do HMDSN. Posteriormente, esses filmes foram tratados por DBD produzida por uma fonte alternada (60 Hz) com pico de voltagem de 35kV. O tempo de tratamento para os filmes feitos a partir do acetileno foi de 1 a 5 minutos e de 2 a 10 minutos para os filmes a partir do HMDSN. Os filmes foram caracterizados quanto à estrutura molecular por meio de FTIR, a topografia por microscopia de força atômica e a molhabilidade por ângulo de contato. As medidas de ângulo de contato dos filmes feitos a partir do C2H2 após a exposição à DBD inicialmente apresentaram valores próximos de zero independente do tempo de tratamento. Posteriormente, esses valores aumentaram estabilizando em 30°, 45° e 54°, respectivamente, para 1, 3 e 5 minutos de tratamento. Esses valores são todos menores que o medido antes do tratamento, ou seja, 60°. Já no caso do HMDSN, o ângulo de contato médio, logo após o DBD, foi de 57°, 60° e 71°, respectivamente, para 5, 10 e 2 minutos de tratamento. Esses valores também aumentaram com o passar do tempo estabilizando próximo de 90° e abaixo dos 97° medidos antes do tratamento. Os espectros no infravermelho dos dois grupos de filmes indicaram alterações na estrutura molecular, contudo, sem a introdução de novos grupos funcionais. O filme feito a partir do C2H2 logo após a deposição apresentou uma rugosidade média igual a 64nm – menor que os 70nm do substrato. Com o aumento do tempo de tratamento, esse valor chegou a ser igual a 152nm. Já no caso do HMDSN, logo após a deposição ... (Resumo completo, clicar acesso eletrônico abaixo)
Two thin film groups were made by plasma polymerization from HMDSN at 4 Pa and C2H2 at 10 Pa. Both groups were made in the same stainless steel reactor. The discharge was produced by radio-frequency (13.56 MHz) during 15 minutes for polymerization from C2H2 and 1 hour for HMDSN. Thereafter, the films were exposed to DBD produced by an AC power supply at a frequency of 60 Hz with 35 kV of peak voltage. The time for treatment of films made from acetylene is from 1 to 5 minutes and from 2 to 10 minutes for films made from HMDSN. The film characteristics were evaluated from some techniques. Thus, molecular structure was characterized by FTIR, topography by atomic force microscopy and wettability by contact angle. After DBD exposure, contact angle measurements obtained on the films made from the C2H2 initially presented values close to zero no matter what the time for treatment was used. Thereafter, these values increased to 30°, 45° and 54°, respectively, for 1, 3 and 5 minutes for treatment. All these values are smaller than the ones measured before treatment (60°). After DBD, the films from HMDSN showed 57°, 60° and 71°, respectively, for 5, 10 and 2 minutes for treatment. As time went by, these values also increased to 90°, which is lower than measurements made before treatment (97°). The FTIR spectrum from two film groups showed changes in molecular structure, however without introducing new functional groups. After deposition, the films made from acetylene presented an average surface roughness equal to 64 nm, which is lower than the substrate surface (70 nm). As time for treatment increase, this value became equal to 152 nm. On the other hand, the films from HMDSN after deposition presented an average roughness equal to 4 nm for 5 minutes for treatment. After treatment, these films showed an average roughness equal to 15 nm for 7,5 minutes for treatment
Reis, Diego Glauco Azarias. "Dispositivo de plasma atmosférico com precursor e sua aplicação em deposição polimérica /." Guaratinguetá, 2017. http://hdl.handle.net/11449/150392.
Full textBanca: Elson de Campos
Banca: Nilson Cristino Cruz
Resumo: O tratamento de materiais utilizando plasma tem sido utilizado amplamente nos dias atuais com o desenvolvimento de novas tecnologias baseadas em descargas elétricas a pressão atmosférica. Dentre os diversos métodos para produzir plasmas nestas condições destaca-se a descarga por microplasmas. No presente trabalho, um novo dispositivo foi desenvolvido e utilizado para deposição de filmes finos. Em estudos de arrasto de vapores no dispositivo foi verificado a relação linear entre a vazão do gás e a massa arrastada. Deposições poliméricas foram obtidas pela mistura de gás argônio com o monômero hexametildissiloxano (HMDSO) em substratos de vidro. A deposição de filmes ocorreu com a vazão de gás entre 0,07 L/min e 0,4 L/min para potências entre 100 mW e 650 mW. Para outras vazões, ocorreu a formação de material sólido em forma de grânulos submilimétricos. A caracterização dos filmes por espectroscopia infravermelha com transformada de Fourier (FTIR) mostrou a presença de grupos moleculares como trimetilsilil Si(CH3)3, siloxano SiOSi e metino CHx. Os testes de adesão realizados no padrão D3359 ASTM com fita Scotch 3M mostraram boa adesão dos filmes aos substratos. Medições de ângulo de contato mostraram a diminuição da hidrofilicidade da superfície dos substratos com valores variando de 40° sem tratamento para quase 90° com o filme fino. Os resultados mostraram que dispositivo desenvolvido foi utilizado com sucesso na deposição em pressão atmosférica de filmes de HMDSO indicando ... (Resumo completo, clicar acesso eletrônico abaixo)
Abstract: The treatment of materials using plasma has been used widely nowadays with the development of new technologies based on electrical discharges at atmospheric pressure. Among the various methods of producing plasma in these conditions, we gave attention to microplasmas. In this study, a new device was developed and applied to the deposition of polymeric thin films. The dragging of the vapour in the device was investigated for various organic compounds and gas flow rate. It was observed a linear relation between these parameters. The polymeric depositions were obtained with the mixture of argon gas and hexamethyldisiloxane (HMDSO) on glass slides. The thin film deposition occurred with gas flow rate between 0.07 L/min and 0.4 L/min with potencies around 100 mW and 650 mW. The formation of solid submilimeter grains was observed at others gas glow rates. The regular thin films was analysed by Fourier transform infrared spectroscopy (FTIR) and showed the molecular groups of trimethylsilyl Si(CH3)3, siloxane SiOSi and methyne CHx. The films had a good adhesion when subjected to the D3359 ASTM standard test using adhesive tape Scotch 3M. Contact angle characterization has shown a decrease of the hydrophilicity surface property with values changing from 40o without treatment up to 90 o with thin film. The results has shown that the developed device was successfully used for deposition of HMDSO films at atmospheric pressure indicating that can be used with other monomers as well
Mestre
Souza, Junior Luiz Roberto de. "Obtenção de filmes finos por descarga luminescente em gases rarefeitos e vapor de isopropóxido de titânio sobre aço AISI M2." reponame:Repositório Institucional da UFPR, 2016. http://hdl.handle.net/1884/45918.
Full textDissertação (mestrado) - Universidade Federal do Paraná, Setor de Tecnologia, Programa de Pós-Graduação em Engenharia e Ciência dos Materiais - PIPE. Defesa: Curitiba, 11/03/2016
Inclui referências : f. 103-109
Área de concentração: Engenharia e ciência de materiais
Resumo: O presente trabalho refere-se à realização de descargas luminescentes em gases rarefeitos e vapores de isopropóxido de titânio com o intuito de formar filmes finos sobre o aço ferramenta AISI M2, e avaliar o seu comportamento tribológico. Para isso utilizou-se a técnica Radio Frequency Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (RF-PECVD), ou em tradução livre, deposição química na fase vapor assistida por plasma de radiofrequência. Foram realizados três estudos a fim de avaliar o efeito da variação da potência, da temperatura e da vazão de nitrogênio nas características dos filmes que foram avaliadas nos seus aspectos químicos, através de espectroscopia Raman e espectroscopia por energia dispersiva (EDS); morfológicos, por microscopia eletrônica de varredura (MEV) e interferometria óptica; físico-químicos, através do método da gota séssil para determinar molhabilidade; e mecânicos, através de nanoindentação instrumentada. Nos estudos foram constatadas a presença de filmes contendo óxidos de ferro e de titânio, bem como de nitreto de titânio cujos comportamentos tribológicos foram baseados em informações de nanodureza (H) e módulo de elasticidade (E) através das relações H/E e H³/E², e determinação de coeficiente de atrito. Todos os filmes obtidos promovem um endurecimento superficial, no entanto, é estimado que possuem pouca aderência ao substrato. Palavras-chave: Deposição Química na Fase Vapor. Aço AISI M2. Comportamento Tribológico. Relações H/E e H³/E². Filmes finos óxidos.
Abstract: The present work concerns about realization of glow discharges in rarefied gases and titanium isopropoxide vapours in order to form thin films on tool steel AISI M2 and assess their tribological behavior. For this, it was used the radiofrequency plasma enhanced chemical vapor deposition technique (RF-PECVD). Three studies were conducted with the purpose of evaluating the effect of power, temperature and nitrogen flow variations on the films characteristics that were evaluated on their chemical aspects, by Raman spectroscopy and energy dispersive spectroscopy (EDS); morphological, by scanning electron microscopy (SEM) and optical interferometry; physico-chemical, through the sessile drop method for determining wettability; and mechanical, through nanoindentation testing. In the studies it was observed the presence of iron and titanium oxides, as well as titanium nitride whose tribological behavior were based on nanohardness information (H) and elastic modulus (E) by the relationships H/E and H³/E² and determination of friction coefficient. All films obtained promote a surface hardening, however, it is estimated that have weak adhesion to the substrate. Keywords: Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition. Tribological Behavior. Relation H/E and H³/E². Thin films oxides.
Soares, Alvaro Guedes. "Magneto-transporte em sistemas semicondutores com gás de elétrons bidimensional." [s.n.], 1994. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/277733.
Full textDissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica Gleb Wataghin
Made available in DSpace on 2018-07-20T03:33:43Z (GMT). No. of bitstreams: 1 Soares_AlvaroGuedes_M.pdf: 2600051 bytes, checksum: 04a77552710cb527d0225086304e53af (MD5) Previous issue date: 1994
Resumo: O objetivo básico deste trabalho foi a implantação de técnicas de magneto-transporte em heteroestruturas semicondutoras que apresentam gás de elétron bidimensional (2-DEG), particularmente, o Efeito Shubnikov-de Haas (SdH) e Efeito Hall Quântico (QHE). Neste sentido foi realizada a recuperação de uma bobina supercondutora (criostato e sistema de controle) que permite medidas em campo magnético de até 14 Tesla. Medidas de oscilações Shubnikov-de Haas e Efeito Hall Quântico foram feitas em heterojunções simples de GaAs/AlxGa1-xAs e em uma heteroestrutura de GaAs/AlxGa1-xAs/InyGa1-yAs. Os resultados destas medidas estão de acordo com as previsões teóricas e, a partir delas, foi comprovado o caráter bidimensional do gás, bem como, foi extraída a densidade eletrôI1Íca do mesmo
Abstract: The basic purpose of this work has been the implementation of magnetic-transport technics on semiconductor heterostructures that present two-dimensional electron gas (2-DEG), particularly, the Effect Shubnikov-de Haas (SdH) and the Quantum Hall Effect (QHE). This purpose, was accomplished through the recuperation of a superconductor magnetic coil (cryostat and control system) that makes it possible to measure with magnetic fields until 14 Tesla. Shubnikov-de Haas and Quantum Hall Effect measurements has been made in heterojunction samples of GaAs/AlxGa1-xAs and in a GaAs/AlxGa1-xAs/InyGa1-yAs heterostruture. The results are in good agreement with theoretical models. They are evidence of the two-dimensional character of the electron gas, and from them we could obtain its electronic density
Mestrado
Física
Mestre em Física
Siqueira, Marcelo Barbosa. "Caracterização de filmes finos polimerizados por plasma a partir dos monômeros hexametildisilazano e acetileno e posteriormente expostos à descarga por barreira dielétrica /." Guaratinguetá, 2014. http://hdl.handle.net/11449/111066.
Full textBanca: Roberto Yzumi Honda
Banca: Elver Juan de Dios Mitma Pillaca
Resumo : Dois grupos de filmes finos foram feitos por polimerização em plasma, um a partir do HMDSN e outro a partir do C2H2 sob, respectivamente, uma pressão de 4Pa e de 10Pa e em um mesmo reator de aço inoxidável. A descarga foi excitada por rádio-frequencia (13,56MHz) durante 15 minutos para a polimerização a partir do C2H2 e 1 hora no caso do HMDSN. Posteriormente, esses filmes foram tratados por DBD produzida por uma fonte alternada (60 Hz) com pico de voltagem de 35kV. O tempo de tratamento para os filmes feitos a partir do acetileno foi de 1 a 5 minutos e de 2 a 10 minutos para os filmes a partir do HMDSN. Os filmes foram caracterizados quanto à estrutura molecular por meio de FTIR, a topografia por microscopia de força atômica e a molhabilidade por ângulo de contato. As medidas de ângulo de contato dos filmes feitos a partir do C2H2 após a exposição à DBD inicialmente apresentaram valores próximos de zero independente do tempo de tratamento. Posteriormente, esses valores aumentaram estabilizando em 30°, 45° e 54°, respectivamente, para 1, 3 e 5 minutos de tratamento. Esses valores são todos menores que o medido antes do tratamento, ou seja, 60°. Já no caso do HMDSN, o ângulo de contato médio, logo após o DBD, foi de 57°, 60° e 71°, respectivamente, para 5, 10 e 2 minutos de tratamento. Esses valores também aumentaram com o passar do tempo estabilizando próximo de 90° e abaixo dos 97° medidos antes do tratamento. Os espectros no infravermelho dos dois grupos de filmes indicaram alterações na estrutura molecular, contudo, sem a introdução de novos grupos funcionais. O filme feito a partir do C2H2 logo após a deposição apresentou uma rugosidade média igual a 64nm - menor que os 70nm do substrato. Com o aumento do tempo de tratamento, esse valor chegou a ser igual a 152nm. Já no caso do HMDSN, logo após a deposição ... (Resumo completo, clicar acesso eletrônico abaixo)
Abstract: Two thin film groups were made by plasma polymerization from HMDSN at 4 Pa and C2H2 at 10 Pa. Both groups were made in the same stainless steel reactor. The discharge was produced by radio-frequency (13.56 MHz) during 15 minutes for polymerization from C2H2 and 1 hour for HMDSN. Thereafter, the films were exposed to DBD produced by an AC power supply at a frequency of 60 Hz with 35 kV of peak voltage. The time for treatment of films made from acetylene is from 1 to 5 minutes and from 2 to 10 minutes for films made from HMDSN. The film characteristics were evaluated from some techniques. Thus, molecular structure was characterized by FTIR, topography by atomic force microscopy and wettability by contact angle. After DBD exposure, contact angle measurements obtained on the films made from the C2H2 initially presented values close to zero no matter what the time for treatment was used. Thereafter, these values increased to 30°, 45° and 54°, respectively, for 1, 3 and 5 minutes for treatment. All these values are smaller than the ones measured before treatment (60°). After DBD, the films from HMDSN showed 57°, 60° and 71°, respectively, for 5, 10 and 2 minutes for treatment. As time went by, these values also increased to 90°, which is lower than measurements made before treatment (97°). The FTIR spectrum from two film groups showed changes in molecular structure, however without introducing new functional groups. After deposition, the films made from acetylene presented an average surface roughness equal to 64 nm, which is lower than the substrate surface (70 nm). As time for treatment increase, this value became equal to 152 nm. On the other hand, the films from HMDSN after deposition presented an average roughness equal to 4 nm for 5 minutes for treatment. After treatment, these films showed an average roughness equal to 15 nm for 7,5 minutes for treatment
Mestre
Vivaldini, Túlio Cearamicoli. "Medidas de velocidade de arrastamento de elétrons em gases inibidores de descargas pelo método de Townsend pulsado." Universidade de São Paulo, 2014. http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/85/85131/tde-10072014-155715/.
Full textThe electron swarm can be characterized by macroscopic quantities such as the drift velocity, ionization rate, first Townsend ionization coefficient and the longitudinal and transverse diffusion coefficients, so called transport parameters. These parameters are important since they allow the validation of electron collisional cross section with gas molecules, contribute for self-sustained discharge models and are important for gaseous detectors development. In the present work the results of electron drift velocity (W), ionization rate (Ri) and first Townsend coefficient (α) as a function of the reduced electric field for isobutane and n-butane by the means of pulsed Townsend technique are presented. In our experimental setup, the primary electrons are liberated by the irradiation of a short laser pulse at the cathode and are accelerated towards the anode through a uniform electric field. The electron movements induce signals that are digitalized and the fitting of a model function to their waveforms provides the transport parameters. The results obtained for isobutane and n-butane were compared with Magboltz 2-version 8.6 values, since there are few data in the literature for these gases for effective reduced electric field ranging from 130 to 180 Td.
VIVALDINI, TULIO C. "Medidas de velocidade de arrastamento de elétrons em gases inibidores de descargas pelo método de townsend pulsado." reponame:Repositório Institucional do IPEN, 2014. http://repositorio.ipen.br:8080/xmlui/handle/123456789/10629.
Full textMade available in DSpace on 2014-10-09T14:01:33Z (GMT). No. of bitstreams: 0
Tese (Doutoramento)
IPEN/T
Instituto de Pesquisas Energeticas e Nucleares - IPEN-CNEN/SP
Andreu, i. Batallé Jordi. "Plasma de silà amb confinament electrostàtic per a la obtenció de silici amorf hidrogenat." Doctoral thesis, Universitat de Barcelona, 1986. http://hdl.handle.net/10803/670243.
Full textEssiptchouk, Alexei Mikhailovich. "Estudo teórico e experimental em erosão de eletrodos de cobre." [s.n.], 2001. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/277429.
Full textTese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica Gleb Wataghin
Made available in DSpace on 2018-07-29T02:06:23Z (GMT). No. of bitstreams: 1 Essiptchouk_AlexeiMikhailovich_D.pdf: 4980522 bytes, checksum: 85eaa62a34a4b1af35edcd62585b3aec (MD5) Previous issue date: 2001
Resumo: Este trabalho consiste no estudo da erosão do catodo de cobre, eletrodo degrande importância para tochas de plasma de médias e altas potências. No segundo capítulo apresentamos uma solução téorica do problema de Stefan, aplicado à erosão do catodo. No terceiro capítulo é apresentado um estudo experimental sobre os parâmetros básicos da mancha do arco elétrico, o equivalente em volts do fluxo térmico no catodo e a densidade de corrente na mancha do arco. Em seguida, é realizado um estudo sobre a interrelação entre os parâmetros operacionais do arco elétrico, como a corrente, a voltagem entre os eletrodos, a velocidade do arco, a temperatura da superfície do eletrodo e o campo magnético externo. Estes resultados foram obtidos numa montagem experimental denominada nâo-estacionária, onde as medidas são feitas em função do tempo, com o catodo não - refrigerado. A erosão do eletrodo e sua correlação com os demais parâmetros do arco é estudada no último capítulo, numa montagem denominada estacionária, com o catodo refrigerado. O estudo realizado nesta tese deve proporcionar um melhor entendimento do fenômeno da erosão do catodo de cobre, assim contribuindo para uma maior difusão das tochas de plasma
Abstract: This work consists in the study of the erosion of copper cathode, which is of great importance for average and high power plasma torches. In the second chapter a theoretical solution for the Stefan problem is presented for the study of the erosion of the cathode. In the third chapter an experimental study is presented for the main arc spot parameters, the volt-equivalent of the arc spot heat flux and the arc spot current density. Following, a study on the relationships between the operational arc parameters, the current, the voltage, the arc velocity, the electrode temperature and the magnetic field are carried out. These results were obtained in an experimental setup, called non-stationary, where the measurements are carried out as function of time, with a non-cooled cathode. The electrode erosion and its relationship with the remaining arc parameters is carried out in the last chapter, in an experimental setup, called stationary, with a cooled cathode. The study carried out in this thesis should provide a better understanding of the copper cathode erosion phenomena, thus contributing to a wider use of plasma torches
Doutorado
Física
Doutor em Ciências
Ortiz, Paola Egert. "Estudo da nitretação por plasma." Florianópolis, SC, 2000. http://repositorio.ufsc.br/xmlui/handle/123456789/79253.
Full textMade available in DSpace on 2012-10-18T01:02:38Z (GMT). No. of bitstreams: 0Bitstream added on 2014-09-25T18:24:39Z : No. of bitstreams: 1 172769.pdf: 12140850 bytes, checksum: 4d8446c1e7e8ed5667117b5d8b4f5050 (MD5)
No presente trabalho, apresenta-se um estudo sobre o processo de nitretação por plasma com um enfoque na físico-química do mesmo. O desenvolvimento deste estudo tem como objetivo o conhecimento de processos físico-químicos presentes no processo de nitretação por plasma, através da correlação de resultados obtidos no plasma com análises alcançadas no material tratado. Esta metodologia correlativa faz uso de diferentes técnicas de análise, tanto para os diagnósticos do plasma, como para as análises efetuadas no material. No que se refere ao plasma, são utilizadas as técnicas de espectrometria de massa e espectroscopia de emissão e, para o material, as técnicas de microscopia eletrônica de varredura, microscopia óptica e difratometria de raios-X. O processo é efetuado em ambientes nitretantes de N2-H2, com a aplicação de condições típicas e a utilização de amostras de Fe-puro sinterizadas. São realizadas modificações em parâmetros macroscópicos tais como a concentração dos constituintes da mistura gasosa (N2-H2), a temperatura da amostra, a pressão gasosa e o tempo de tratamento. A realização do trabalho deixa importantes contribuições à compreensão do processo de nitretação por plasma. Possibilita o estudo da formação de espécies no plasma e sua interação com o material. Além disso, permite a avaliação da descarbonetação ocorrida na superfície e sua relação com a nitretação. Finalmente, os resultados corroboram o trabalho já publicado, há algum tempo, por Szabo e Wilhelmi (1984), que até então, permanecia sem reconhecimento algum.
Pinto, Armando José. "Estudo de uma descarga de arco estacionário para geração de plasmas em pressão atmosférica aplicada à conversão de CO2." Instituto Tecnológico de Aeronáutica, 2015. http://www.bd.bibl.ita.br/tde_busca/arquivo.php?codArquivo=3194.
Full textUehara, Mituo. "Aspectos formais de teorias cinéticas de plasmas e modelos para a coluna positiva de descargas elétricas luminosas." Instituto Tecnológico de Aeronáutica, 1987. http://www.bd.bibl.ita.br/tde_busca/arquivo.php?codArquivo=1531.
Full textRidenti, Marco Antonio. "Desenvolvimento de sistema de aquisição e tratamento de dados para medidas de parâmetros de transporte de elétrons em gases." Universidade de São Paulo, 2010. http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/43/43134/tde-29062010-142535/.
Full textThis thesis describes a pulsed Townsend experiment whose purpose was to obtain experimentally the transport parameters of electron in gases, particularly nitrogen and isobutane, within a range of reduced electric field between 130 Td and 210 Td. The transport parameters obtained were the average speed of center of mass of the electron cloud, the ionization rate and ionization coefficient (first Townsend coefficient). These quantities were obtained from the analysis of the electronic signal induced by electrons moving between two parallel plate electrodes. To perform this analysis, we developed a model that relates the dynamics of electrons in gaseous medium with the induced signal. This model allowed the deduction of an explicit function of time and parameters related to the physical parameters, which were estimated by fitting the function to the experimental results by the method of least squares. Besides the method of analysis, this paper describes a computer program especially designed to integrate the various processes of instrumental control and data acquisition. We performed several sets of measurements under the same conditions and verified the repeatability of results. The transport parameters in nitrogen reproduced the results of the literature and theoretical calculations within the error limits of the experimental results. In the case of isobutane, whose electron transport parameters have been poorly studied, it was found that the estimation of ionization coefficient agrees well with the literature results based on measurements in a range of higher reduced electric field.
Santos, Maria Antonia dos. "Estudo da remoção de ligantes orgânicos em amostras produzidas por injeção de pós-metálicos usando descargas elétricas." Florianópolis, SC, 2002. http://repositorio.ufsc.br/xmlui/handle/123456789/84251.
Full textMade available in DSpace on 2012-10-20T07:39:39Z (GMT). No. of bitstreams: 0Bitstream added on 2014-09-26T01:16:53Z : No. of bitstreams: 1 189668.pdf: 25376189 bytes, checksum: f450205f2065ae6f8636612181948151 (MD5)
É demonstrada a viabilidade do uso da tecnologia do plasma para a extração de ligante ou lubrificante, em amostras produzidas por metalurgia do pó. As amostras metálicas injetadas foram tratadas em descarga luminescente anormal de argônio e hidrogênio. A descarga elétrica foi gerada na configuração anodo-catodo confinada. Os estudos foram realizados variando a temperatura, o tempo de processamento, o fluxo gasoso e a pressão. As amostras foram caracterizadas por medidas de perda de massa e análise da superfície por microscopia eletrônica de varredura. É mostrado que o bombardeamento eletrônico da superfície da amostra é de grande importância para dissociar as moléculas de hidrocarbonetos. A reatividade do hidrogênio atômico gerado na descarga contribui de forma eficiente na remoção dos ligantes orgânicos. Foi observado também que o término do processo de degradação dos ligantes, nas amostras injetadas, é relacionado com a evolução dos parâmetros da descarga: tensão e corrente média. Experimentos realizados em ciclo único mostraram que a extração de ligantes multicomponente e a sinterização podem ser processadas no mesmo equipamento.
Queiroz, Carlos Antonio. "Produção e caracterização de propriedades magnéticas de intersticiais Sm2Fe17Nx processados em pós-descargas de plasma excitado por microondas e sob misturas gasosas (N2+H2+CH4)." Florianópolis, SC, 2002. http://repositorio.ufsc.br/xmlui/handle/123456789/82519.
Full textMade available in DSpace on 2012-10-19T15:47:38Z (GMT). No. of bitstreams: 1 202779.pdf: 1916992 bytes, checksum: c6c8c5a1fdde77d399d62650499c8dbf (MD5)
Reyes, Betanzo Claudia. "Corrosão por plasma para tecnologias CMOS e microssistemas." [s.n.], 2003. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/260536.
Full textTese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica e de Computação
Made available in DSpace on 2018-08-03T03:48:15Z (GMT). No. of bitstreams: 1 ReyesBetanzo_Claudia_D.pdf: 8994110 bytes, checksum: 74e9d01d5a7a43f73de22638b48cc39a (MD5) Previous issue date: 2003
Resumo: Esta tese apresenta os resultados do desenvolvimento e da otimização de uma tecnologia própria na área de fabricação de dispositivos CMOS e Microssistemas, realizados no Centro de Componentes Semicondutores da UNICAMP, pretendendo desenvolver processos em uma das técnicas mais críticas da microfabricação: corrosão de materiais por plasmas. Neste trabalho foram desenvolvidos processos de corrosão dos seguintes materiais: nitreto de silício (SiNx), óxido de silício (SiO2) e silício policristalino implantado com fósforo, usados na fabricação de dispositivos CMOS, além de silício monocristalino usado na fabricação de Microssistemas. Cada processo de corrosão foi desenvolvido em base às características específicas requeridas do processo de fabricação tais como a taxa de corrosão, seletividade, anisotropia e qualidade da superfície. Para os processos de corrosão foram usados dois equipamentos diferentes: um reator para corrosão iônica reativa (RIE) e um reator para corrosão por ressonância ciclotrônica de elétrons (ECR). Para analisar os mecanismos de interação plasma-superfície no reator RIE, foi realizada uma caracterização do plasma através de dois modelos teóricos e por técnica de espectroscopia óptica (actinometria). Com isto, foi possível obter informações adicionais sobre a distribuição de potência no plasma e a cinética dos processos no plasma e na superfície, a partir dos parâmetros mensuráveis. Para a corrosão de SiNx desenvolveram-se diferentes processos usando várias misturas de gases em dois reatores diferentes, RIE e ECR. As características requeridas para este processo foram: uma taxa de corrosão relativamente alta, alta seletividade para SiO2 e Si e boa qualidade da superfície. No caso de corrosão RIE, foram usadas as misturas CF4/H2, CF4/O2/N2, SF6/O2/N2, SF6/CH4/N2 e SF6/CH4/N2/O2. Foi possível obter processos com alta taxa de corrosão (até 47nm/min), altas seletividades para SiO2 e Si (em torno de 6 e 10, respectivamente) e boa qualidade da superfície na interface SiNx/SiO2 (rugosidade média ~ 5 A). No caso da corrosão ECR foram usadas as misturas SF6/O2/N2 e SF6/O2/N2/Ar. Foi possível obter processos com taxas de corrosão altas (até 28 nm/min) e melhores seletividades SiNx/SiO2 e SiNx/Si (até 50 e 20, respectivamente ). Para SiO2, a principal característica requerida do processo foi uma alta seletividade para Si. Foi desenvolvido um processo híbrido altamente seletivo SiO2/Si (~30) por corrosão iônica reativa, usando as misturas SF6/Ar e CF4/H2/Ar. Para a corrosão de silício policristalino implantado com fósforo, foi necessário desenvolver processos com alta seletividade e anisotropia. Foram usadas diversas misturas de gases à base de flúor e cloro, SF6/CH4/N2, SF6/CF4/N2, SF6/CF4/CHF3 e SiCI4/CF4 no reator RIE. Foi possível obter processos com boa seletividade (até 6), e alto fator de anisotropia (~1,0). Para a corrosão profunda de silício monocristalino é necessária uma alta taxa de corrosão e anisotropia. Usando as misturas SF6/CH4/O2/Ar, SF6/CF4/O2/Ar, SF6/CHF3/O2/Ar no reator RIE, chegou-se a processos com uma taxa de corrosão alta (até 0,6 mm/min) e alta anisotropia (~0,95). Para gravação de resistes (usados como máscara contra a corrosão), foram usadas duas técnicas: fotolitografia (estruturas com largura mínima até 1 mm) e litografia por feixe de elétrons (largura mínima até 0,25 mm). Com a última, estruturas sub-micrométricas (até 0,1 mm) foram fabricadas com sucesso em filmes de Si-poli. Discutiram-se os mecanismos de corrosão para cada processo desenvolvido e as perspectivas de melhorar os processos
Abstract: This thesis presents the results of development and optimization of a proper technology in the area of CMOS devices and Microsystems manufacturing, carried out in the Center for Semiconductor Components, UNICAMP, aiming to develop processes in one of the most critical techniques of the microfabrication: plasma etching. In this work we developed etching processes of the following materials: silicon nitride (SiNx), silicon oxide (SiO2) and polycristalline silicon implanted with phosporus, used in the manufacturing of CMOS devices, and monocrystalline silicon used in the manufacturing of Microsystems. Each etching process was developed according to the specific characteristics required for the manufacturing process such as the etch rate, selectivity, anisotropy and quality of the surface. For the etching processes two different equipments were used: a reactor for reactive ion etching (RIE) and a reactor for electron cyclotron resonance etching (ECR). To analyze the plasma-surface interaction mechanisms in the RIE reactor, plasma characterization employing two theoretical models and an optical spectroscopy technique (actinometry) was made. By doing so it was possible to obtain information on the power distribution in the plasma and on the kinetics of the processes in the plasma and on the surface, using measurable parameters. For the etching of SiNx, different processes using a number of gas mixtures in two different reactors, RIE and ECR, were developed. The requirements for these processes were: a relatively high etch rate, high selectivity over SiO2 and Si, and good surface quality. In the RIE case, CF4/H2, CF4/O2/N2, SF6/O2/N2, SF6/CH4/N2 e SF6/CH4/N2/O2 gas mixtures were used. Processes with high etch rates (as high as 47nm/min), high selectivities over SiO2 and over Si (up to 6 and 10, respectively), and good surface quality at the SiNx/SiO2 interface (roughness as low as ~5 A) were obtained. In the ECR case, SF6/O2/N2 and SF6/O2/N2/Ar gas mixtures were used. Processes with reasonably high etch rate (up to 28 nm/min), and better selectivities SiN/SiO2 and SiNx/Si (as high as 50 and 20, respectively) were realized. For the SiO2 etching, the main characteristic required was a high selectivity over Si. A hybrid process, highly selective to Si (up to ~30) was developed for reactive ion etching, by using the SF6/Ar and CF4/H2/Ar gas mixtures. For the etching of polysilicon it was necessary to develop processes with high selectivity and anisotropy. A number of gas mixtures based on fluorine and chlorine, namely SF6/CH4/N2, SF6/CF4/N2, SF6/CF4/CHF3 e SiCI4/CF4 were used in the RIE reactor. Processes with good selectivity (up to 6), and high factor anisotropy (~1.0) were developed. For the deep monosilicon etching, a high etch rate and anisotropy are necessary. The SF6/CH4/O2/Ar, SF6/CF4/O2/Ar, SF6/CHF3/O2/Ar gas mixtures were used in in the RIE reactor. Processes with reasonably high etch rate (up to 0.6 mm/min) and high anisotropy (as high as ~0.95) were obtained. For lithography of resists (used as masks against the etching), two different techniques were used: photolitography (for structures with the minimum width of 1 mm) and electron beam litography ( or the minimum width of 0.25 mm). With the latter, submicron structures (as low as ~ 0.1 mm) were manufactured successfully in films of polysilicon. For each process developed, the etching mechanisms are discussed, as well as the perspectives to improve the characteristics of these processes
Doutorado
Doutor em Engenharia Elétrica
Cruz, Cristiano Cancela da. "Implementação da técnica de espectrometria de massa para o estudo de resíduos na retirada de ligantes com descargas elétricas." Florianópolis, SC, 2002. http://repositorio.ufsc.br/xmlui/handle/123456789/83858.
Full textMade available in DSpace on 2012-10-20T04:03:38Z (GMT). No. of bitstreams: 0Bitstream added on 2014-09-26T02:34:46Z : No. of bitstreams: 1 182969.pdf: 12238426 bytes, checksum: 5cc5087734cb941ea2d4b3bdfcc37686 (MD5)
O presente trabalho, tem como interesse principal a implementação da técnica de espectrometria de massa, para o monitoramento dos resíduos eliminados durante a extração do ligante por descargas elétricas em atmosfera de hidrogênio. Procurando validar a técnica, através da detecção de metano formado durante o processo e verificar se tal espécie química, pode funcionar como sensor para caracterizar o processo.
Nascimento, Leonardo Bartholomeu do. "Investigação do mecanismo de funcionamento do ignitor gás dinâmico." Instituto Tecnológico de Aeronáutica, 2009. http://www.bd.bibl.ita.br/tde_busca/arquivo.php?codArquivo=2336.
Full textMoreira, Raphael Garcia. "Fabricação e modelagem de uma nova geometria para espectrometria de mobilidade iônica de tolueno, propanol e água com elevada relação sinal-ruído." Universidade de São Paulo, 2018. http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-18072018-135559/.
Full textIn this work, a new geometry and a design criteria for ion mobility spectrometry devices was presented, aiming to increase the signal-to-noise ratio detected by electrodes of the detection region, when associated with ionization based on electrical discharges. The new geometry and the design criteria were established in the SIMION version 8.1 (an ionic trajectory simulator) and compared with the state-of-art ion mobility spectrometers. The results from device simulations were evaluated using the non-parametric statistical test of Iman-Davenport and Holm. The result indicated that the proposed design criteria presented compatibility with the best characteristics of current spectrometers with statistical evidence at 95%. The proposed geometry was simulated, fabricated and tested for the following solvents: toluene - C7H8 (C5H5+, C6H5+, C7H7+), propanol - C3H8O (CH3+, CH3O+, C2H3+, C2H4O+, C2H5O+, C3H6+, C3H7+, C3H7O+) and water - H2O (H+, HO+, H2+, O+). The peaks of ion current detected in the electrometers occurred at approximate positions of the simulated trajectories for these sets of ions. In addition, the experimental data showed an increase in the signal-to-noise ratio for the proposed new geometry that was validated by the test statistic of Wilcoxon signed rank at 95% statistical confidence.
Rasteiro, Bruno Rafael Rodrigues. "Estudo dos parâmetros que afetam a tensão de descarga num detetor gasoso." Master's thesis, 2016. http://hdl.handle.net/10316/31059.
Full textA verificação de ocorrência de descargas em detetores gasosos que operam a altas pressões está devidamente documentada nos mais variados laboratórios de estudo de radiação, verificando-se ainda que, para as condições de ocorrências das referidas descargas existe uma correlação entre o campo elétrico máximo aplicável no interior do detetor e a pressão a que se encontra o gás, não havendo até ao momento qualquer explicação para o facto. Assim, no presente trabalho, para além de um estudo detalhado desta dependência, procurou-se uma explicação para a origem das descargas concretamente se elas se devem exclusivamente à pressão de operação do detetor, ou também à complexidade dos detetores gasosos. Para isso, este trabalho consistiu no projeto, montagem e utilização de um dispositivo que fosse o mais parecido possível com um detetor gasoso, mas que ao contrário destes, o seu interior fosse o mais simples possível. Os resultados obtidos sugerem uma relação entre a origem das descargas e a complexidade do interior dos detetores gasosos a alta pressão. Ainda assim, o que mais influencia a ocorrência de descargas é a pressão do gás, existindo uma clara redução do campo elétrico reduzido aplicável com o aumento da pressão no dispositivo. Para além disso, verificou-se ainda uma dependência com o tipo de mistura gasosa utilizada na experiência e o ripple da fonte de tensão utilizada.
Sousa, Ricardo E. "Simulação de descargas radiofrequência em misturas gasosas N2-H2 usadas para o processamento de superfícies." Master's thesis, 2011. http://hdl.handle.net/1822/18950.
Full textA utilização dos processos assistidos por plasma representa, atualmente, um mercado em constante crescimento (de vários milhões de euros) e alvo de intensas pesquisas, das quais têm resultado diversas aplicações tecnológicas, como por exemplo no tratamento de superfícies. Atualmente, o estudo das descargas em plasmas tem-se desenvolvido, tanto no aperfeiçoamento de modelos e técnicas computacionais, como no estudo de descargas em novos gases para descrever os processos físicos e químicos essenciais e determinar os regimes ótimos de funcionamento para tecnologias específicas. Este trabalho apresenta a simulação de uma descarga radiofrequência em mistura gasosa nitrogénio-hidrogénio produzida num reator cilíndrico de elétrodos paralelos de acoplamento capacitivo. O estudo da descarga é feito com recurso a um modelo fluido bidimensional que descreve a dinâmica das partículas carregadas, acoplado de forma auto-consistente a um modelo colisional-radiativo homogéneo da cinética vibracional e atómica da mistura do nitrogénio-hidrogénio, para frequências de excitação de 13.56MHz, pressões do gás entre 0.15 e 1.14 Torr e tensões radiofrequência aplicadas entre 100 e 400 V. A resolução acoplada destes dois módulos permite-nos obter resultados para o potencial DC de auto-polarização da descarga, para a distribuição espacio-temporal das densidades eletrónicas e das populações das principais espécies resultantes (tais como excitação vibracional, molecular e atómica), para o grau de dissociação, assim como para algumas intensidades de emissão de transições moleculares. Também é feito o estudo dos diversos canais que presidem à criação e destruição das varias espécies, assim como o estudo da sensibilidade de alguns parâmetros do plasma a alguns fatores como a recombinação na parede das espécies atómicas e vibracionais, coeficiente de emissão secundária de eletrões e capacidade do condensador de bloqueio.
The use of plasma assisted processes, currently represents a market of several million euros, in constant growth and subject to intense research, efforts resulting in different technological applications, more specifically, on new surface treatments. Nowadays, the study of plasma discharges has developed, both in the improvement of models and computational techniques, as in the new study of discharges in gases to describe the essential physical and chemical processes and define the reactors ideal operating point for specific applications. This work presents, the simulation of an radiofrequency discharge in nitrogen-hydrogen gas mixture produced within a cylindrical parallel-plate reactor. The study of the discharge is made using a two-dimensional fluid model that describes the dynamics of charged particles, coupled in a self-consistent way to a homogeneous collisional-radiative model of the vibrational kinetics, atomic and molecular nitrogen, with excitation frequency at 13.56MHz, gas pressures between 0.15 and 1.14 Torr and applied radiofrequency voltages between 100 and 400 V. The coupled resolution of these two modules allows us to obtain results for the DC potential of the self-bias of the discharge, for the spatial and temporal distribution of electronic densities and of the resulting population of the main species (such as vibrational, molecular and atomic excitation), to their degree of dissociation, as well as molecular transitions. It was also possible to study the channels governing the creation and destruction of various species, as well as the sensitivity of several plasma discharges parameters electron density and and mean energy, self bias voltage to some factors like volume and wall kinetics of vibrational and atomic species, electron secondary emission and capacitance of blocking capacitor.