Log in

Relevant bibliographies by topics / Lithographic applications / Dissertations / Theses

To see the other types of publications on this topic, follow the link: Lithographic applications.

Dissertations / Theses on the topic 'Lithographic applications'

Author: Grafiati

Published: 9 March 2023

Last updated: 19 July 2025

Create a spot-on reference in APA, MLA, Chicago, Harvard, and other styles

Select a source type:

Consult the top 50 dissertations / theses for your research on the topic 'Lithographic applications.'

Next to every source in the list of references, there is an 'Add to bibliography' button. Press on it, and we will generate automatically the bibliographic reference to the chosen work in the citation style you need: APA, MLA, Harvard, Chicago, Vancouver, etc.

You can also download the full text of the academic publication as pdf and read online its abstract whenever available in the metadata.

Browse dissertations / theses on a wide variety of disciplines and organise your bibliography correctly.

1

Hadley, Philip. "Aqueous photopolymers for lithographic applications." Thesis, Lancaster University, 1995. http://ethos.bl.uk/OrderDetails.do?uin=uk.bl.ethos.308991.

Full text

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

2

Ceresoli, M. "SYMMETRIC BLOCK COPOLYMERS TEMPLATES FOR NANO-LITHOGRAPHIC APPLICATIONS." Doctoral thesis, Università degli Studi di Milano, 2016. http://hdl.handle.net/2434/422644.

Full text

Abstract:

Nanofabrication has been long characterized by a top-down approach for the definition of small features starting from large pieces of material. In this contest the process of size scaling in microelectronics devices is based on photolithography that is an advanced top-down technology. In order to design integrated circuits with small features with characteristic dimension below 20 nm, a new kind of approach is needed such as the bottom-up one of self-assembly systems. Indeed symmetric block copolymers are able to spontaneously phase separate into ordered nanoscale lamellar pattern, which can b

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

3

Eravuchira, Pinkie Jacob. "Lithographic Micro- and Nanostructuring of SU-8 for Biotechnological Applications." Doctoral thesis, Universitat Rovira i Virgili, 2015. http://hdl.handle.net/10803/292245.

Full text

Abstract:

En aquesta tesi doctoral s’ha dut a terme recerca en mètodes de fabricació d’estructures micromètriques i nanomètriques de SU-8. La recerca ha partit de la base d’una anàlisi dels treballs anteriors en estructuració de SU-8 i ha tingut com a principal objectiu el d’obtenir noves estructures per a aplicació en biotecnologia. Un dels resultats més importants de la recerca ha estat la proposta d’una tècnica híbrida que combina fotolitografia i litografia per pressió per obtenir superfícies de SU-8 amb estructura jerarquitzada. Les investigacions també han portat a proposar un mecanisme d

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

4

Liang, Jianyu. "Non-lithographic fabrication of superlattices for nanometric electro-magnetic-optic applications /." View online version; access limited to Brown University users, 2005. http://wwwlib.umi.com/dissertations/fullcit/3174638.

Full text

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

5

Murphy, Julian James. "Lithographic characterisation of a selection of polymeric resists for microlithographic applications." Thesis, University of Kent, 1997. http://ethos.bl.uk/OrderDetails.do?uin=uk.bl.ethos.244327.

Full text

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

6

Gotrik, Kevin Willy. "Flow controlled solvent vapor annealing of block copolymers for lithographic applications." Thesis, Massachusetts Institute of Technology, 2013. http://hdl.handle.net/1721.1/81057.

Full text

Abstract:

Thesis (Ph. D.)--Massachusetts Institute of Technology, Dept. of Materials Science and Engineering, 2013.<br>Cataloged from PDF version of thesis.<br>Includes bibliographical references (p. 185-192).<br>Self-assembly of block copolymer thin-films may provide an inexpensive alternative to patterning lithographic features below the resolution limits of traditional optical methods. Block copolymers (BCPs) are polymers made of two or more distinct monomer/block units that are covalently bonded. Due to their differences in surface energy, the different blocks tend to phase segregate like oil and wa

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

7

Alnaimi, Radhwan. "Development of a low-debris laser driven soft X-ray source for lithographic applications." Thesis, Imperial College London, 2016. http://hdl.handle.net/10044/1/61658.

Full text

Abstract:

This work comprehensively describes the design, build and characterisation of a low-debris laser driven soft x-ray source for a variety of applications in particular lithography, in combination with the optimized multilayer structures in order to use the source output as efficiently as possible. The aim of this work was to study the debris emission from different target materials and to minimise or eliminate debris from laser irradiated thin tapes used in multi-shot and long run-time applications. VHS video tape is used as the primary test target in this work and is made of a Mylar (C10H8O4) c

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

8

ANDREOZZI, ANDREA. "Fabrication of nanostructured materials using block copolymer based lithography." Doctoral thesis, Università degli Studi di Milano-Bicocca, 2012. http://hdl.handle.net/10281/28333.

Full text

Abstract:

The main objective of the PhD research activity carried out at MDM Laboratory was the growth and manipulation of nano-objects to be used as building blocks for the fabrication of new generation of nano-transistors, nano-memories and nano-emitters. The first part of the research activity was related to the development of reproducible and controlled protocols for the fabrication of polymeric soft masks for advanced lithographic applications using block copolymers. To this purpose hexagonally packed nanoporous polymeric thin films were fabricated using PS-b-PMMA block copolymers and accurately ch

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

9

Wieberger, Florian [Verfasser], and Hans-Werner [Akademischer Betreuer] Schmidt. "Synthesis and Combinatorial Optimization of Novel Star-Shaped Resist Materials for Lithographic Applications / Florian Wieberger. Betreuer: Hans-Werner Schmidt." Bayreuth : Universität Bayreuth, 2012. http://d-nb.info/1059412489/34.

Full text

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

10

Tu, Fan [Verfasser], and Hubertus [Gutachter] Marbach. "On the Lithographic Fabrication of Fe and Co Nanostructures via Focused Electron/Photon Beam Induced Processing: Properties and Applications of the Structures / Fan Tu ; Gutachter: Hubertus Marbach." Erlangen : Friedrich-Alexander-Universität Erlangen-Nürnberg (FAU), 2017. http://d-nb.info/1150964308/34.

Full text

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

11

HASSAN, MARIAM. "Perpendicularly magnetized synthetic antiferromagnets for flexible spintronic and biomedical applications." Doctoral thesis, Università Politecnica delle Marche, 2021. http://hdl.handle.net/11566/289757.

Full text

Abstract:

Antiferromagnetici sintetici (SAF) costituiti da due strati ferromagnetici separati da un sottile strato metallico non magnetico hanno recentemente suscitato un rinnovato interesse come potenziali candidati per una serie di applicazioni innovative e avanzate nell’ambito della spintronica e della biotecnologia. I SAF sono componenti chiave nei dispositivi spintronici e una significativa attenzione è stata recentemente prestata alla preparazione di tali sistemi su substrati flessibili in virtù dei significativi vantaggi che offrono rispetto a dispositivi fabbricati su substrati rigidi convenzion

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

12

Bouanani, Shayma. "Vers l'industrialisation de l'auto-assemblage dirigé des copolymères à blocs : développement de procédés de lithographie compatibles avec les noeuds technologiques sub-10 nm pour des applications de type contacts." Thesis, Université Grenoble Alpes (ComUE), 2017. http://www.theses.fr/2017GREAT053/document.

Full text

Abstract:

La course à la compétitivité que se disputent les industriels du semi-conducteur implique d’augmenter le nombre de fonctionnalités par puce ainsi que de réduire leur coût unitaire, ce qui se traduit par une diminution continue de leur taille. Pour ce faire, le DSA (Directed Self-Assembly), ou auto-assemblage dirigé des copolymères à blocs associe les techniques de lithographie conventionnelle avec les propriétés d’organisation à l’échelle moléculaire des copolymères. Dans ce cadre, l’objectif global de cette thèse est d’évaluer le potentiel d’industrialisation du DSA par grapho-épitaxie pour d

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

13

Alleaume, Clovis. "Etude de la modification de la source dans l'utilisation de la méthode de co-optimisation source masque en lithographie optique : mise en oeuvre et applications." Thesis, Saint-Etienne, 2014. http://www.theses.fr/2014STET4007/document.

Full text

Abstract:

Réalisée entre décembre 2009 et décembre 2012 au sein de STMicroelectronics Crolles dans l’équipe RET (résolution enhancement techniques), et en partenariat avec le laboratoire Hubert Curien Saint Etienne de l’université de Lyon, cette thèse s’intitule "Impact de la modification de la source dans l’utilisation de la méthode de cooptimisation masque source en lithographie optique, et application au nœud technologique 20 nm". Durant cette étude, nous avons pu étudier la technique d’optimisation de la source optique en lithographie, appelée généralement SMO afin de l’appliquer aux problématiques

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

14

Bazin, Damien. "Structuration de surfaces organiques et inorganiques par lithographie électro-colloïdale : principe et applications." Thesis, Bordeaux 1, 2012. http://www.theses.fr/2012BOR14684/document.

Full text

Abstract:

De nombreuses techniques de lithographie sont proposées aujourd'hui pour structurer des surfaces à l'échelle micrométrique et nanométrique. Parmi elles, la lithographie colloïdale est intéressante en raison notamment du faible coût du procédé. Dans cette thèse, nous avons développé une nouvelle technique appelée « lithographie électro-colloïdale » qui est basée sur l'utilisation de particules colloïdales soumises à des champs électriques continus et alternatifs. Avec des temps de préparation courts et une instrumentation peu coûteuse, des surfaces structurées polymériques et métalliques ont ét

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

15

Zheng, Zijian. "Soft lithography and nanoimprint lithography for applications in polymer electronics." Thesis, University of Cambridge, 2007. http://ethos.bl.uk/OrderDetails.do?uin=uk.bl.ethos.613415.

Full text

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

16

Farhoud, Maya S. (Maya Sami). "Interferometric lithography and selected applications." Thesis, Massachusetts Institute of Technology, 1997. http://hdl.handle.net/1721.1/10457.

Full text

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

17

MALAQUIN, Laurent. "Dispositifs ultra-sensibles pour le nano-adressage electrique. Application a la detection de biomolecules." Phd thesis, Université Paul Sabatier - Toulouse III, 2004. http://tel.archives-ouvertes.fr/tel-00009243.

Full text

Abstract:

" Because technology provides the tools and biology the problems, the two should enjoy a happy marriage ! "1 . Cette phrase resume parfaitement l'esprit du projet qui a motive ces travaux de these. En effet, le couplage des biotechnologies et des micro et nano technologies, resume sous le vocable < Nanobiotechnologies > est une activite en plein essor qui laisse presager de nombreuses applications en particulier dans le domaine de la biodetection. Lobjectif principal de ces travaux est dedie au developpement de strategies d'adressage de biomolecules a l'echelle nanometrique pour des applicatio

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

18

Heard, P. J. "Applications of scanning ion beam lithography." Thesis, University of Cambridge, 1985. http://ethos.bl.uk/OrderDetails.do?uin=uk.bl.ethos.372653.

Full text

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

19

Paudel, Trilochan. "Nanosphere Lithography for Nano Optical Applications." Thesis, Boston College, 2011. http://hdl.handle.net/2345/3155.

Full text

Abstract:

Thesis advisor: Zhifeng Ren<br>Thesis advisor: Krzysztof Kempa<br>Many different techniques are available to create nanopatterns in nanoscale devices. However, a few are flexible and inexpensive enough to be practical in the nanotechnology. Here, we study the nanosphere lithography (NSL) based on a self-assembly of microspheres. Using this technique, we have developed various patterns in metallic films, ranging from honeycomb arrays of "quasi-triangles" to circular holes. These various patterns have been used subsequently either as nano-optical structures directly, with remarkable optical and

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

20

Walsh, Michael E. (Michael Edward) 1975. "On the design of lithographic interferometers and their application." Thesis, Massachusetts Institute of Technology, 2004. http://hdl.handle.net/1721.1/28741.

Full text

Abstract:

Thesis (Ph. D.)--Massachusetts Institute of Technology, Dept. of Electrical Engineering and Computer Science, 2004.<br>Page 300 blank.<br>Includes bibliographical references.<br>Interference lithography is presented as an ideal technique for fabricating large-area periodic structures with sub-100nm dimensions. A variety of interferometer designs are discussed and implemented, each of which emphasizes a different attribute. Curvature of the substrate during exposures in a Mach-Zender interferometer is demonstrated as a method for reducing periodicity variations in the printed pattern down to th

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

21

Huber, Justin P. "UV-LITHOGRAPHIC PATTERNING OF MICRO-FEATURES ON A CONICAL MOLD INSERT." UKnowledge, 2010. http://uknowledge.uky.edu/gradschool_theses/26.

Full text

Abstract:

In past studies, several techniques have been employed to create microscopic features on relatively simple surfaces. Of these, lithography-based techniques have proven effective at manufacturing large fields of deterministic microasperities and microcavities on planar and cylindrical substrates. The present study focuses on adapting UV-lithography to a more complex substrate. Machined from stainless steel, a conical mold insert introduces an interesting geometry designed for the injection molding of radial lip seal elastomer. The distinct shape of this mold insert poises unique challenges to a

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

22

Faik-Etienne, Hasnaa. "Étude de l'implantation ionique dans les miroirs multicouches Mo/Si : application aux optiques diffractives." Toulouse, INSA, 2005. http://www.theses.fr/2005ISAT0003.

Full text

Abstract:

Pour atteindre des tailles de motif de 30nm et moins, la lithographie EUV (Extrême Ultra Violet, l= 13,5 nm), devrait être introduite par les industriels à partir de 2009. Or pour les longueurs d'onde comprises entre 10 et 14nm, la plupart des matériaux ne sont ni transparents, ni réfléchissants. De ce fait, et afin de fabriquer des optiques, la seule manière de réfléchir le rayonnement EUV est d'utiliser des miroirs multicouches. Ces miroirs sont composés de plusieurs bi-couches Mo/Si d'épaisseurs optimisées pour additionner en phase le peu de réflectivité de chacune des interfaces. Ils perme

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

23

He, X. "Nanoimprint lithography for applications in photovoltaic devices." Thesis, University of Cambridge, 2010. http://ethos.bl.uk/OrderDetails.do?uin=uk.bl.ethos.603915.

Full text

Abstract:

This thesis describes efforts to achieve an idealized architecture and to characterize the transport in polymer-based PV devices, by employing novel nanoimprint techniques. First, a novel double-imprinting process is described, which allows the fabrication of ideally structured “polymer-polymer” and “polymer-small molecule” heterojunctions, with any composition. The dimensions of both phases can be independently tailored to match the respective exciton diffusion length in either phase PV devices with extremely high densities (up to 10<sup>14</sup>/mm<sup>2</sup>) of interpenetrating nanoscale

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

24

Martin, Luc. "Méthodes de corrections avancées des effets de proximité en lithographie électronique à écriture directe : Application aux technologies sub-32nm." Thesis, Lyon, INSA, 2011. http://www.theses.fr/2011ISAL0003.

Full text

Abstract:

Pour adresser les nœuds technologiques avancés dans le cadre de la lithographie électronique, une nouvelle stratégie de correction des effets de proximité a été imaginée pour prendre le relai de la technique standard de modulation de dose. Dans ces travaux de thèse, les effets de proximité ont été analysés sur les outils e-beam de dernière génération au sein du LETI. Les limites de la modulation de dose ont aussi été évaluées. Parallèlement, une approche plus fondamentale, basée sur la simulation, a permis de mieux comprendre l'impact des différentes étapes du procédé de lithographie sur les m

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

25

Rognin, Etienne. "Caractérisation et applications des écoulements de polymères en films minces nanoimprimés." Thesis, Grenoble, 2013. http://www.theses.fr/2013GRENI037/document.

Full text

Abstract:

Cette thèse présente des résultats théoriques et expérimentaux portant sur des écoulements à l'échelle nanoscopique de polymères fondus. L'étude analytique et numérique de l'écoulement d'un film de polymère, préalablement nanostructuré par nanoimpression puis recuit au dessus de sa température de transition vitreuse, a permis de dégager différentes dynamiques de nivellement selon la topographie initiale du film. Certaines ont été appliquées à l'élaboration d'éléments optiques par recuit de nanostructures complexes. Une méthode de mesure de la viscosité Newtonienne et du temps terminal de relax

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

26

Geving, Brad David. "Enhancement of stereolithography technology to support building around inserts." Thesis, Georgia Institute of Technology, 2000. http://hdl.handle.net/1853/16799.

Full text

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

27

Pavlova, Anastasia. "Préparation et études des propriétés des films magnétiques nanostructures pour des applications en dispositifs magnéto-acoustiques et spintroniques." Thesis, Ecole centrale de Lille, 2014. http://www.theses.fr/2014ECLI0010/document.

Full text

Abstract:

Aujourd'hui, les structures basées sur les matériaux ferromagnétiques sont largement utilisées pour différentes applications: mémoires magnéto-résistives à accès non séquentiel, capteurs magnétiques et également nouveaux composants électroniques et dipositifs spintroniques. La tendance générale de l'électronique moderne est une réduction de la dimension des éléments à l'échelle submicronique. Ainsi, les nanostructures magnétiques sont d'un grand intérêt et leurs méthodes de fabrication et propriétés sont étudiées activement.Le but principal de ce travail est la préparation et la recherche expé

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

28

Knauer, Joachim Norbert. "Diffraction by nanostructures : applications to imaging and lithography." Thesis, University of Cambridge, 1998. http://ethos.bl.uk/OrderDetails.do?uin=uk.bl.ethos.624945.

Full text

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

29

Young, Aaron Cody. "Optical applications of two-photon and microexplosion lithography /." Thesis, Connect to this title online; UW restricted, 2007. http://hdl.handle.net/1773/9780.

Full text

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

30

Salut, Roland. "Etude des moyens de lithographie haute résolution pour la fabrication de résonateurs à ondes élastiques de surface : application aux sources embarquées." Phd thesis, Université de Franche-Comté, 2011. http://tel.archives-ouvertes.fr/tel-00839967.

Full text

Abstract:

Le but de ce travail de thèse est d'étudier les moyens de lithographie haute résolution pour la fabrication de résonateurs à ondes élastiques de surface, et de l'illustrer à travers la réalisation de sources de fréquences fonctionnant au-delà du GigaHertz. Dans un premier temps nous abordons les différents dispositifs fondés sur les ondes élastiques de surface puis les sources de fréquence (instabilités caractéristiques) et fixons les objectifs de l'étude au travers notamment d'un état de l'art. Dans un second temps, nous présentons les moyens de lithographie étudiés dans le cadre de ce travai

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

31

Yao, Peng. "Developing three-dimensional lithography and chemical lithography for applications on micro/nano photonics and electronics." Access to citation, abstract and download form provided by ProQuest Information and Learning Company; downloadable PDF file, 206 p, 2007. http://proquest.umi.com/pqdweb?did=1397913021&sid=11&Fmt=2&clientId=8331&RQT=309&VName=PQD.

Full text

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

32

Edely, Mathieu. "Etudes de surfaces métalliques nanolithographiées : application à la diffusion Raman exaltée de surface." Thesis, Le Mans, 2016. http://www.theses.fr/2016LEMA1020.

Full text

Abstract:

Depuis la première observation du phénomène de Diffusion Raman Exaltée de Surface (DRES) en 1974 de nombreuses méthodes ont été développées pour contrôler l'arrangement de nanostructures métalliques sur une surface dans le but d'augmenter le signal de diffusion Raman. La valeur du facteur d'amplification de la DRES résulte principalement de l’accroissement localisé du champ électromagnétique pour des surfaces métalliques nanostructurées. Des études antérieures ont révélé que l'espacement nanométrique entre les nanoparticules constituait des zones de forte exaltation appelées «points chauds». N

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

33

Dillon, Thomas. "Grayscale lithography with applications to chip-scale optical interconnects." Access to citation, abstract and download form provided by ProQuest Information and Learning Company; downloadable PDF file, 261 p, 2009. http://proquest.umi.com/pqdweb?did=1891590571&sid=5&Fmt=2&clientId=8331&RQT=309&VName=PQD.

Full text

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

34

Demir, Pinar. "Theoretical Investigation And Design For X-ray Lasers And Their Lithographic Application." Phd thesis, METU, 2008. http://etd.lib.metu.edu.tr/upload/12609743/index.pdf.

Full text

Abstract:

Grazing incidence pumping (GRIP) is a scheme to produce x-ray lasers and extreme ultraviolet lithography is a means of lithographic production which requires soft x-rays with a bandwidth of 2% centred at 13,5 nm. In this work firstly a grazing incidence pumping of Ni-like Mo and Ne-like Ti x-ray laser media were simulated by using EHYBRID and a post-processor code coupled to it. The required atomic data were obtained from the Cowan code. Besides, the timing issue needed for amplification purpose in a Ti:Sapphire laser system has been described theoretically. Afterwards, in order to produce sof

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

35

Thugu, Mahesh. "Development of Colloid Displacement Lithography Platforms for Sensor Applications." TopSCHOLAR®, 2013. http://digitalcommons.wku.edu/theses/1287.

Full text

Abstract:

In this work, Poly (diallyldimethylammonium) chloride - (PDDA) was used as a base layer for developing colloid displacement lithography platforms for sensor applications. Previous work shows that glass coated with PDDA and exposed to gold acts as a good platform for colloid displacement lithography. However, for actual sensor applications, electrical isolation of individual sensor sections must be achieved. This is attempted by laying down a 40 μm stripe of PDDA on a cleaned substrate and coating that stripe with gold colloid. The size of 40 μm or less in width is set as the target to fit with

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

36

Arias, zapata Javier. "Lithographie à très haute résolution par l'auto-assemblage du PS-b-PDMS et les gravures plasma associées : application à la fabrication de matrices de nanorubans de graphène." Thesis, Université Grenoble Alpes (ComUE), 2018. http://www.theses.fr/2018GREAT011/document.

Full text

Abstract:

Les copolymères à bloc (BCP) ont la propriété particulière de s’auto-assembler en structures périodiques. Ces macromolécules en association avec la photolithographie est un candidat prometteur à utiliser comme technique alternative pour les patterning avancé de très haute résolution. De cette façon, la réduction des circuits intégrés peut être maintenue. Les BCPs avec une forte incompatibilité chimique entre les deux blocs présentent une valeur élevée du paramètre d’interaction de Flory-Huggins χ. La théorie des BCPs prédit des caractéristiques périodiques de seulement quelques nanomètres avec

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

37

Yeh, Chun-Cheng. "ZnO micro- and nanostructures from Deep-UV photosensitive solutions for electronic and magnetic applications." Thesis, Mulhouse, 2017. http://www.theses.fr/2017MULH1359/document.

Full text

Abstract:

Ce travail a consisté à mettre au point et étudier des formulations à base d’un précurseur photosensible de Zn (Zinc méthacrylate, ZnMAA). Déposé sous forme de film mince, ce précurseur peut être réticulé par une irradiation dans l’UV profond (193 nm). Il est montré que la réticulation est la conséquence d’une décomposition photoinduite partielle des précurseurs, qui provoque des réactions de condensations, conduisant à la formation du réseau Zn-O-Zn. Cette réaction a été caractérisée par spectroscopie FTIR, XPS et ellipsométrie (chapitre III). Il est montré qu’elle est partielle mais efficace

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

38

Witkowska, Malgorzata Danuta. "Interrogation of the manufacturing route of aluminium AA 1050 used in lithographic application." Thesis, University of Manchester, 2013. https://www.research.manchester.ac.uk/portal/en/theses/interogation-of-the-manufacturing-route-of-aluminium-aa-1050-used-in-lithographic-application(57658930-cb45-470e-b6ab-626781f1c8a2).html.

Full text

Abstract:

The aluminium AA1050 alloy, known as commercially pure aluminium, contains 99.5% Al, together with Fe and Si as major alloying elements. During fabrication of aluminium substrates for lithographic printing plates in Bridgnorth Aluminium Ltd, the AA 1050 aluminium alloy proceeds through various stages of thermomechanical processing, with the conditions at each processing stage influencing the microstructure of the final coil. Because of its specific gravity, tensile strength, surface performance and coating adhesion behaviour, the AA 1050 aluminium alloy is one of the preferred materials for of

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

39

Thibault, Christophe. "Impression de biomolécules par lithographie douce, applications pour les biopuces, de l’échelle micrométrique à nanométrique." Toulouse, INSA, 2007. http://eprint.insa-toulouse.fr/archive/00000160/.

Full text

Abstract:

L’objectif des travaux est de démontrer que la lithographie douce, quelquefois baptisée « Micro-Contcat Printing (μCP)», constitue une méthode de dépôt de biomolécules présentant de nombreux avantages pour des applications de type Biopuces. Pour la fabrication de puces à ADN, nous démontrons que le μCP est une technique compétitive par rapport au dépôt robotisé de gouttes traditionnellement utilisé. Le coût est inférieur, la densité des puces est augmentée et la qualité et la définition des motifs biomoléculaires sont supérieures. Une étude complète des mécanismes d’encrage des timbres élastom

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

40

Davis, G. M. "Application of phase conjugate imaging to excimer laser lithography." Thesis, University of Oxford, 1987. http://ethos.bl.uk/OrderDetails.do?uin=uk.bl.ethos.233468.

Full text

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

41

Chen, Mo Ph D. Massachusetts Institute of Technology. "Stop-flow lithography and its application to graphical encoding." Thesis, Massachusetts Institute of Technology, 2015. http://hdl.handle.net/1721.1/97847.

Full text

Abstract:

Thesis: S.M., Massachusetts Institute of Technology, Department of Mechanical Engineering, 2015.<br>Cataloged from PDF version of thesis.<br>Includes bibliographical references (pages 72-77).<br>Colloids of a few to tens of microns have shown great promise in various applications. For practical purposes, colloidal building blocks which self-assemble into operational device are sometimes desired. This preprogrammed assembly requires large quantities of colloidal building blocks with well-defined shape, size and composition, which cannot be provided with existing techniques. In this thesis, a ne

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

42

Hastings, Jeffrey Todd 1975. "Nanometer-precision electron-beam lithography with applications in integrated optics." Thesis, Massachusetts Institute of Technology, 2003. http://hdl.handle.net/1721.1/29949.

Full text

Abstract:

Thesis (Ph. D.)--Massachusetts Institute of Technology, Dept. of Electrical Engineering and Computer Science, 2003.<br>Includes bibliographical references (p. 179-185).<br>Scanning electron-beam lithography (SEBL) provides sub-10-nm resolution and arbitrary-pattern generation; however, SEBL's pattern-placement accuracy remains inadequate for future integrated-circuits and integrated-optical devices. Environmental disturbances, system imperfections, charging, and a variety of other factors contribute to pattern-placement inaccuracy. To overcome these limitations, spatial-phase locked electron-b

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

43

Sassolas, Benoît. "Étude et réalisation d'empilements multicouches sur des optiques asphériques de grandes dimensions pour des applications en lithographie extrême U. V." Lyon 1, 2008. http://tel.archives-ouvertes.fr/docs/00/37/16/57/PDF/These_Benoit_SASSOLAS_11_sept.pdf.

Full text

Abstract:

La réalisation d’optiques de grandes dimensions est un élément clé à la réussite de la lithographie Extrême-Ultraviolet à 13,5 nm. Leur intégration dans les appareils de production doit permettre d’acheminer un flux lumineux intense de la source jusqu’au wafer et ainsi d’augmenter la productivité. Nous avons étudié et développé des systèmes multicouches à base de molybdène et silicium. Leurs structures ont été étudiées par réflectométrie des rayons X et leurs performances mesurées à 13,5 nm sous rayonnement synchrotron. Les résultats ont révélé une réflectivité à 13,5 nm limitée principalement

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

44

Vaurette, Francois. "Fabrication top-down, caractérisation et applications de nanofils silicium." Phd thesis, Université des Sciences et Technologie de Lille - Lille I, 2008. http://tel.archives-ouvertes.fr/tel-00342294.

Full text

Abstract:

Cette thèse porte sur l'étude de nanofils silicium réalisés par approche top-down. Elle s'inscrit dans le contexte de la miniaturisation des composants et la compréhension du transport dans les systèmes 1D.<br /><br />Deux voies de fabrication sont envisagées : la lithographie par AFM (Microscope à Force Atomique) et la lithographie électronique. Cette dernière étant plus reproductible, les dispositifs finaux sont fabriqués par cette technique, à partir d'un substrat SOI et plusieurs étapes de gravure et métallisation.<br /><br />L'étude des nanofils par mesures I(V) nous permet de mettre en é

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

45

Thibault, Christophe. "Impression de biomolécules par lithographie douce, applications pour les biopuces, de l'échelle micrométrique." Phd thesis, INSA de Toulouse, 2007. http://tel.archives-ouvertes.fr/tel-00200042.

Full text

Abstract:

L'objectif des travaux est de démontrer que la lithographie douce, quelquefois baptisée " Micro-Contcat Printing (µCP)", constitue une méthode de dépôt de biomolécules présentant de nombreux avantages pour des applications de type Biopuces. Pour la fabrication de puces à ADN, nous démontrons que le µCP est une technique compétitive par rapport au dépôt robotisé de gouttes traditionnellement utilisé. Le coût est inférieur, la densité des puces est augmentée et la qualité et la définition des motifs biomoléculaires sont supérieures. Une étude complète des mécanismes d'encrage des timbres élastom

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

46

Hoole, Andrew Charles Frederick. "Nanolithography and its application to the fabrication of electron devices." Thesis, University of Cambridge, 1993. http://ethos.bl.uk/OrderDetails.do?uin=uk.bl.ethos.308358.

Full text

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

47

May, Michael Julian. "Etude des résines à amplification chimique 193 nm de tonalité positive ou négative pour une application microélectronique sub65 nm." Strasbourg, 2008. https://publication-theses.unistra.fr/public/theses_doctorat/2008/MAY_Michael_2008_ED182.pdf.

Full text

Abstract:

Ce travail vise l’étude des résines utilisées en microélectonique. Le procédé de fabrication des circuits intégrés nécessite en effet l’utilisation d’un polymère photosensible qui permet de définir des motifs sur le substrat silicium lors d’une étape d’insolation. Ces motifs servent ensuite de masque lors d’une étape de gravure plasma qui permet d’obtenir le tracé du circuit intégré. L’objectif principal a donc été d’étudier la résistance à la gravure des résines pour une chimie de gravure oxyde donnée. L’analyse de l’ensemble des résines met en évidence des modifications chimiques liées à l’u

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

48

Zankovych, Sergiy. "Nanoimprint lithography as an alternative fabrication technique: towards applications in optics." [S.l.] : [s.n.], 2004. http://deposit.ddb.de/cgi-bin/dokserv?idn=973072911.

Full text

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

49

Choi, Jinsub. "Fabrication of monodomain porous alumina using nanoimprint lithography and its applications." [S.l. : s.n.], 2004. http://deposit.ddb.de/cgi-bin/dokserv?idn=970954050.

Full text

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

50

Fairley, Kurtis. "Development and Applications of Thin Film Resists for Electron Beam Lithography." Thesis, University of Oregon, 2016. http://hdl.handle.net/1794/19703.

Full text

Abstract:

Throughout this work several thin film resists have been studied with substantial focus on HafSOx and SU-8. The study of HafSOx has granted more insight into how inorganic, spin coated films form and react under the electron beam. These films have been shown to form a thin dense crust at the surface that could have interesting implications in the interaction of the electrons. Continuing to further understand the electron interactions within the resist, low voltage patterns were created allowing the accelerating voltage to be matched to the film. With this general knowledge, higher resolution f

APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles

We offer discounts on all premium plans for authors whose works are included in thematic literature selections. Contact us to get a unique promo code!