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Academic literature on the topic 'Litografi'

Author: Grafiati

Published: 4 June 2021

Last updated: 1 February 2022

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Journal articles on the topic "Litografi"

ÖZGÜR KARAALAN, Suna. "Susuz Litografi." Researcher Social Science Studies 7, Cilt 7 Sayı 1 (January 1, 2019): 259–70. http://dx.doi.org/10.18301/rss.832.

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ÖZGÜR KARAALAN, Suna. "NATİF LİTOGRAFİ UYGULAMALARI." Journal of Academic Social Sciences 89, no. 89 (January 1, 2019): 335–49. http://dx.doi.org/10.16992/asos.14816.

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Özgür KARAALAN, Suna. "POLYESTER LEVHA/ PRONTO PALET LİTOGRAFİ." Journal of Social Sciences 35, no. 35 (January 1, 2019): 548–61. http://dx.doi.org/10.16990/sobider.4905.

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KARAALAN-, Suna Özgür. "EMİLLE AİZER VE MUTFAK LİTOGRAFİ." Journal of Turk-Islam World Social Studies 25, no. 25 (2020): 136–47. http://dx.doi.org/10.29228/tidsad.43899.

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Bahar, Tezcan. "NATİF BİR BASKIRESİM TEKNİĞİ OLARAK SUSUZ LİTOGRAFİ." Journal of Social Sciences 33, no. 33 (January 1, 2019): 115–30. http://dx.doi.org/10.16990/sobider.4756.

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Subhan, Ahmad. "Percetakan Al-Qur’an Palembang 1848 dalam Lintasan Budaya Cetak Abad ke-19." SUHUF 14, no. 1 (June 30, 2021): 201–21. http://dx.doi.org/10.22548/shf.v14i1.621.

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Abstract:

Artikel ini menguraikan beberapa aspek yang melatarbelakangi kemunculan percetakan Kemas Muhammad Azhari yang mencetak Al-Qur'an menggunakan alat cetak batu atau litografi. Fenomena percetakan bumiputra di Palembang era kolonial yang muncul pada tahun 1848 ini penulis kaji dengan pendekatan Sejarah Buku, Budaya Cetak, serta penjelasan tentang keberterimaan teknologi cetak bagi kalangan muslim. Sebagai teknologi ciptaan Eropa, litografi lebih berterima bagi kalangan muslim. Penerimaan itu terjadi secara massif pada pertengahan abad XIX seiring menguatnya kolonialisme dan meluasnya jangkauan para rohaniwan musafir sebagai agen budaya cetak dalam misi penginjilan. Kontak budaya berupa alih teknologi antara agen budaya cetak berkebangsaan Eropa dengan kalangan muslim India dan Asia Tenggara memunculkan industri cetak di kawasan koloni Inggris dan Hindia Belanda. Percetakan Kemas Muhammad Azhari merupakan resultan dari trajektori perjalanan ibadah haji dan misi dakwah Kristen yang melintasi Selat Malaka sebagai jalur pelayaran di mana Singapura menjadi titik persilangan.

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Prastyo, Wahyu Eko, Budi Purnama, and Nuryani Nuryani. "Efek Magneto-Impedansi Frekuensi Rendah pada Non Litografi Multilayer [NiFe/Cu]4." Jurnal Fisika Flux: Jurnal Ilmiah Fisika FMIPA Universitas Lambung Mangkurat 16, no. 1 (May 5, 2019): 23. http://dx.doi.org/10.20527/flux.v16i1.5004.

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Banindro, Baskoro Suryo, Arif Agung Swasono, and Rikhana Widya Ardila. "Socio-Historical Media Tourism Promotion Study during the Dutch East Indies Period of 1930 - 1940." Paramita: Historical Studies Journal 30, no. 2 (September 1, 2020): 157–69. http://dx.doi.org/10.15294/paramita.v30i2.20890.

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Abstract:

This study discusses the media of tourism promotion in the Dutch East Indies period, in the form of lithographic print art images. The purpose of this research is to determine the meaning of visual language in the promotional media images. Promotional objects in question are pictures of lodging, photos of exotic cultural and natural products of the colonies insulinde printed between 1930 and 1940. With socio-historical methods consisting of social and historical studies, data obtained from literature studies, literature studies, and field observations will be analyzed using Teun A. van Dijk’s critical discourse approach. Furthermore, the results of the study will be interpreted descriptive qualitatively and presented with a historiographic approach. The findings of this study are there had been a process of Westernization in visual culture in the colonial period. The conclusion of this research is the portrayal of media promotion tourism during the Dutch East Indies of 1930-1940, which has given birth to traces of art deco style lithographic print as an effort of modernization in supporting modernity and developing a modernistic Dutch colonialist tourism aimed at European travelers. Penelitian ini membahas tentang media promosi wisata di masa kolonial Belanda, berupa gambar seni cetak litografi. Tujuan penelitian untuk mengetahui makna bahasa rupa yang ada dalam gambar media promosi tersebut. Objek promosi yang dimaksud adalah gambar penginapan, gambar hasil budaya dan alam eksotik pedalaman tanah jajahan insulinde yang dicetak antara tahun 1930 hingga 1940. Dengan metode sosio historis yang terdiri dari kajian sosial dan sejarah, data yang diperoleh dari studi literatur, kajian pustaka dan observasi lapangan akan dianalisis dengan pendekatan wacana kritis Teun A. van Dijk. Selanjutnya berdasarkan data yang ada, hasil penelitian akan diintepretasikan secara deskriptif kualitatif dan dipaparkan dengan pendekatan historiografi. Hasil temuan dari penelitian ini adalah bahwa telah terjadi proses pembaratan dalam budaya visual di masa kolonial. Adapun kesimpulan penelitian ini yaitu penggambaran media promosi wisata masa Hindia Belanda 1930 - 1940, telah melahirkan jejak seni cetak litografi bergaya art deco sebagai upaya modernisasi dalam mendukung modernitas dan memajukan pariwisata kolonialis Belanda yang modernistik di Hindia Belanda yang ditujukan bagi pelancong orang-orang Eropa.

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Pektaş, Hasip. "Görsel İletişim Tasarımı Olarak Ekslibris ve Dijital Dönüşümü." Etkileşim 2, no. 4 (October 2019): 34–42. http://dx.doi.org/10.32739/etkilesim.2019.4.62.

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Abstract:

Bu araştırmayla, toplum tarafından çok da bilinmeyen ekslibris konusunda bilgilendirme yapılacaktır. Kitap sahibini tanıtan ve o kitabı ödünç alan kişiye sahibini hatırlatan eklibrisin diğer işlevleri, tasarım süreci, baskı teknikleri, görsel iletişim tasarımındaki yeri ve önemi, bir tasarım disiplini olarak ekslibrisin ülkemizdeki gelişimi açıklanacaktır. 500 yıldır gravür, ağaç baskı, linolyum baskı, litografi gibi geleneksel baskı teknikleriyle çoğaltılmakta olan ekslibrisin son yıllarda serigrafi, ofset, fotograf, bilgisayarla oluşturulan tasarım (CGD) gibi modern teknikler kullanılarak çoğaltılması, yaygınlaşmasını artırmışır. Sürekli kendini yenileyen ve güncelleyen dijital sanat, yeni görsel değerlerin yaratılmasına fırsat vermektedir. Günümüzde kalem, fırça ve kalıp yerine fare, tablet kalemi ve bilgisayar da kullanılabilmekte; elle yapılan taslak veya fotoğraflar üzerine dijital işlemler uygulanarak, değişiklik, küçültme, büyültme, ekleme, çıkarma yapılabilmektedir. Bu makale ile teknolojinin yaratıcılığa engel olmadığı, bilgiye ulaşmada, teknik zenginliğe kavuşmada ve zamanı ekonomik kullanmada geniş fırsatlar verdiği tartışılacaktır. Tasarımcının nasıl yarattığı değil, neyi yarattığı önemlidir. Yaratımının taşıdığı estetik değerler, kazandırdığı duygu yoğunluğu ve heyecanın önemi vurgulanacaktır.

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Nowakowska, Monika. "Cmentarz w malarstwie i grafice Józefa Czajkowskiego." TECHNE. Seria Nowa, no. 4 (December 30, 2019): 179–88. http://dx.doi.org/10.18778/2084-851x.08.09.

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Abstract:

Cmentarz to temat wręcz stworzony do snucia dekadenckich rozważań nad ulotnością i kruchością ludzkiego życia, nic zatem dziwnego, że chętnie podejmowali go młodopolscy moderniści. Jednym z nich był Józef Czajkowski (1872–1947) – twórca niezwykle wszechstronny i zasłużony dla rozwoju polskiej architektury, rzemiosła i edukacji, a przy tym grafik i malarz eksperymentujący z kompozycją, kolorem i warsztatem. Świadczy o tym litografia barwna z 1903 roku jego autorstwa, zatytułowana Cmentarz klasztorny w Krakowie, oraz obraz olejny na płótnie z 1910 roku Ogród zimą, będący powtórzeniem, ale i rozwinięciem graficznej kompozycji. Czajkowski, dla którego zima ze swoim krajobrazem była ulubioną do uwieczniania porą roku (czego potwierdzeniem są dwa wybitne płótna: Sad w zimie z 1900 roku ze zbiorów Muzeum Narodowego w Krakowie oraz namalowane rok później Zima. Paw w ogrodzie z Lwowskiej Galerii Sztuki), zarówno w litografii, jak i w obrazie olejnym dał popis maestrii w syntetyzowaniu kompozycji, budowaniu przestrzeni za pomocą kontrastów walorowych i barwnych i oddawaniu atmosfery miejsca. Zwłaszcza wysmakowane niuanse w obrębie wąskiej gamy bieli, czerni i brązów, zastosowane w Ogrodzie zimą, pokazują malarską klasę Czajkowskiego, jak się okazuje – równie wybitnego pejzażystę, jak jego młodszy brat Stanisław Czajkowski. Obaj bracia byli uczniami Jana Stanisławskiego. Józef wydaje się jednak być bardziej oryginalnym i wytrawnym kolorystą i symbolistą, choć nie poświęcił się malarstwu. W swojej dojrzałej twórczości dążył do syntezy sztuk, każde dzieło traktując wielopłaszczyznowo, pod względem poszukiwań tak warsztatowych, jak i treściowych. Dlatego wątek sepulkralny, pojawiający się także w obrazie Kirkut z 1900 roku, nie wydaje się być przypadkowy i zasługuje na wnikliwą analizę – także w kontekście badań nad grafiką i malarstwem młodopolskiego modernizmu.

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Dissertations / Theses on the topic "Litografi"

Gómez, Castaño Mayte. "Optical metamaterials: design, up-scalable fabrication and characterization." Doctoral thesis, Universitat Autònoma de Barcelona, 2020. http://hdl.handle.net/10803/670539.

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Abstract:

Els metamaterials són materials artificialment estructurats, minuciosament dissenyats per a l’obtenció de propietats electromagnètiques no observables en la natura, com l’índex de refracció negatiu. L’objectiu d’aquesta tesi és el desenvolupament de metamaterials òptics a gran escala que puguin ser fàcilment incorporats en dispositius reals. Combinant la litografia col·loïdal i el electrodeposició, vam presentar un disseny bottom-up de metamaterials tipus fishnet fets de capes d’or i aire. L’adequat disseny experimental i teòric dóna lloc a índexs de refracció fàcilment variables en l’infraroig proper. Aquesta estructura és duta a metamaterials tipus fishnet multicapes fets a partir de litografia per nanoimpressió i electrodeposició. Analitzem en detall la resposta òptica de les estructures, que donen lloc a grans índexs negatius des del visible fins a l’infraroig. Estudiem la seva aplicació com a sensors òptics infiltrant diferents líquids en les cavitats d’aire. Aquestes tècniques són igualment utilitzades per al desenvolupament de plataformes metàl·liques nanoestructurades per a l’observació de l’emissió espontània col·lectiva.
Los metamateriales son materiales artificialmente estructurados, minuciosamente diseñados para la obtención de propiedades electromagnéticas no observables en la naturaleza, como el índice de refracción negativo. El objetivo de esta tesis es el desarrollo de metamateriales ópticos a gran escala que puedan ser fácilmente incorporados en dispositivos reales. Combinando la litografía coloidal y el electrodepósito, presentamos un diseño bottom-up de metamateriales tipo fishnet hechos de capas de oro y aire. El adecuado diseño experimental y teórico da lugar a índices de refracción fácilmente variables en el infrarrojo cercano. Esta estructura es llevada a metamateriales tipo fishnet multicapas hechos a partir de litografía por nanoimpresión y electrodepósito. Analizamos en detalle la respuesta óptica de las estructuras, que dan lugar a grandes índices negativos desde el visible hasta el infrarrojo. Estudiamos su aplicación como sensores ópticos al infiltrar diferentes líquidos en las cavidades de aire. Estas técnicas son igualmente utilizadas para el desarrollo de plataformas metálicas nanoestructuradas para la observación de emisión espontánea colectiva.
Metamaterials are artificially structured materials, thoroughly designed for achieving electromagnetic properties not observed in nature such as the negative refractive index. The purpose of this thesis is the development of up-scalable optical metamaterials that can be easily incorporated into actual devices. By combining colloidal lithography and electrodeposition, we report an entirely bottom-up fishnet metamaterial made of gold and air layers. A proper theoretical and experimental design gives rise to tunable refractive index, from positive to negative values in the near infrared. This structure is extended to multilayered fishnet metamaterials made by nanoimprint lithography and electrodeposition. We thoroughly analyze the optical response of the structures, which lead to strong negative index from the visible to near infrared. Their performance as optical sensors is studied when infiltrating different liquids through the air cavities. These techniques are used to fabricate nanostructured metallic substrates for studying the collective spontaneous emission of fluorescent molecules.

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Krátký, Stanislav. "Kombinovaná elektronová litografie." Doctoral thesis, Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií, 2021. http://www.nusl.cz/ntk/nusl-438584.

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Abstract:

This thesis deals with grayscale e-beam lithography and diffractive optical elements fabrication. Three topics are addressed. The first topic is combined grayscale e-beam lithography. The goal of this task is combining exposures performed by two systems with various beam energies. This combined technique leads to a better usage of both systems because various structures can be more easily prepared by one electron beam energy than by the other. The next topic is the optimization of shape borders of exposing structures that are defined by image input. The influence of such optimization on exposure data preparation is evaluated, as well as the exposure time and the change of optical properties of testing structures. The possibility of deep multilevel diffractive optical element fabrication in plexiglass blocks is researched as the third topic. Plexiglass can replace the system of a resist and a substrate. A new approach to writing down the structures by electron beam is presented, minimizing thermal stress on the plexiglass block during the exposure. The writing method also improves the homogeneity of exposed motifs. A method for computing the exposure dose for specific multilevel structures was designed. This method is based on the existing model of proximity effect computation and it minimizes the computing time necessary to obtain the exposure doses.

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Licheri, Susanna. "Offline study of next generation EUV pellicle materials and performances : From experimental design to material characterization." Thesis, KTH, Skolan för elektroteknik och datavetenskap (EECS), 2019. http://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:kth:diva-254554.

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Abstract:

Lithography is the most crucial step in the semiconductor microfabrication workflow. Continuous features size shrinking co-occurs with the reduction of the exposure wavelength: a move from 193 nm light to extreme ultra-violet (EUV) at 13.5 nm is performed. The change poses a vast number of challenges that have been overcome in the past years. Among the others, the protection of the reticle front side from defects is crucial. Shielding can be achieved by means of EUV pellicles: large area (~150 cm2), freestanding, ultra-thin (~50 nm) membranes that prevent particles from landing on the reticle surface. Defects fall on the pellicle membrane, which is out-of-focus with respect to the reticle. During operation, the pellicle has to endure mechanical movements (>100 m/s2) and withstand the EUV scanner environment. With increasing source power (resulting in temperatures >500 ºC) structural and chemical integrity must be guaranteed. With multiple semiconductor manufacturers introducing EUV in HVM, an urgent need for a mass volume production-ready pellicle solution is present.In this thesis project, new generation pellicle materials are exposed to EUV light and gas atmosphere at BESSY II synchrotron beamline. The purpose is to investigate the performances of the new membrane samples in terms of the HVM production specifications. Two sets of 10x10 mm2 samples Type (A – B) with different core thickness are tested. Samples are characterized by using the following techniques: EUV transmittance and reflectance measurements, RBS, XPS, and FTIR. After exposure, all the samples undergo degradation. The main root causes are the atmosphere environment and the temperature. On the other hand, EUV light itself plays a marginal role in the process. The material etching mechanism must be further investigated through additional pellicle tests. This is a necessary step to make towards the high-volume manufacturing standards required for mass production.
Litografi är det mest avgörande steget i arbets flödet för halvledar mikrotillverkning. Kontinuerliga funktioner storlek krympande co-sker med minskning av exponeringen våglängd: en över gången från 193 nm ljus till extrem ultraviolett (EUV) vid 13.5 nm utförs. Förändringen innebär ett stort antal utmaningar som har övervunnits under de senaste åren. Bland de andra, är skyddet av rikt medel fram sidan från defekter avgörande. Avskärmning kan åstadkommas med hjälp av EUV-pellicles: stort område (~ 150 cm2), fristående, ultratunna (~ 50 nm) membran som hindrar partiklar från att landa på rikt medlet ytan. Defekter faller på denna tunna membranet, som är out-of-fokus med avseende på rikt medlet. Under drift har denna tunna att uthärda mekaniska rörelser (> 100 m/s2) och motstå EUV skanner miljö. Med ökande käll effekt (vilket resulterar i temperaturer > 500 º C) måste strukturell och kemisk integritet garanteras. Med flera halvledar tillverkare införa EUV i HVM, ett brådskande behov av en massa volym produktions klara denna tunna lösning är närvarande.I detta arbete, exponeras nya generationens denna tunna material för EUV ljus-och gasatmosfär på BESSY II Synchrotron beamline. Syftet är att undersöka prestandan hos de nya membranproverna i form av HVM-produktionsspecifikationer. Två uppsättningar av 10x10 mm2 prover typ (A – B) med olika kärna tjocklek testas. Proverna kännetecknas av att använda följande tekniker: EUV-transmission och reflektansmätningar, RBS, XPS och FTIR. Efter exponering genomgår alla prover nedbrytning. De viktigaste bakomliggande orsakerna är atmosfären miljö och temperaturen. Å andra sidan spelar EUV-ljuset självt en marginell roll i processen. Materialetsnings mekanismen måste undersökas ytterligare genom ytterligare denna tunna-tester. Detta är ett nödvändigt steg för att göra mot de höga volymer tillverknings standarder som krävs för Mass produktion.

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Daněk, Lukáš. "Reliéfní difraktivní struktury pro optické elementy realizované pomocí elektronové litografie." Doctoral thesis, Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií, 2009. http://www.nusl.cz/ntk/nusl-233484.

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Abstract:

This thesis describes several techniques for the optimization of the manufacturing of relief diffractive structures used as optical elements by Electron beam lithograph BS600 in the Electron beam laboratory of the Institute of Scientific Instruments of the Academy of Sciences of the Czech Republic. The Electron beam lithograph BS600 was originally developed and constructed in the Institute of Scientific Instruments of the Academy of Sciences of the Czech Republic for Tesla in 1983, but is still developing, which was published. The Electron been lithograph BS600 is specific in these days because of its accelerating potential and is unique in the world because of the possibility to shape the beam. The optimization of manufacturing of relief diffractive structures, used as optical elements, was mostly reached by analysis, bringing optimal solution for the required effect. Moreover, an algorithm was developed for driving the electron beam position, shape, size and the time of each elementary exposition. The analysis showed that is convenient to use mathematical description of separate lines of diffractive structures. A separate subject was carried out for the calibration of the exposition field of the Electron beam lithograph BS600.

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Liu, Yandi. "Block Copolymer Lithographyfor Nano-porous Oxide Thin Films." Thesis, KTH, Skolan för elektroteknik och datavetenskap (EECS), 2018. http://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:kth:diva-254331.

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Abstract:

This thesis focuses on employing a new patterning technique called block copolymer lithography to transfer the nano-porous pattern from the polymer template to the underlying oxide thin film. Nano-porous block copolymer films are produced by spin-coating polymer solution on wafers followed by annealing, UV exposure and development processes. Reactive-ion etching is then used to etch the oxide films based on the pattern of polymer template and the polymer is then removed. The obtained oxide microstructure is characterized by SEM, showing a nanomesh of microdomains with the same hole size and density as the initial block copolymer layer. The advantages of block copolymer lithography include uniform nanopatterning, cost efficiency and simple processing. The nano-porous oxide thin films could be used as hard mask for nanopatterning in microelectronics and for energy storage applications.
Denna avhandling fokuserar på användningen av en ny mönstringsteknik som kallas block-sampolymerlitografi som används för att överföra nano-porösa mönster från polymermaller till en underliggande oxidtunnfilm. Nano-porösa blocksampolymerfilmer framställs genom spinbeläggningspolymerlösning på skivor följt av glödgning, UV-exponering och utvecklingsprocesser. Reaktionjon etsning används sedan för att etsa oxidfilmerna baserat på mönstret av polymermaller och därefter blir polymeren avlägsnad. Den erhållna oxidmikrostrukturen karakteriseras av SEM, som visar en nanomesh av mikrodomäner med samma hålstorlek och densitet som det ursprungliga blocksampolymerskiktet. Fördelarna med block-sampolymerlitografi innefattar likformig nanomönstring, kostnadseffektivitet och enkel bearbetning. De nanoporösa oxidtunnfilmerna kan användas som en hard mask för nanomönstring i mikroelektronik och för energilagringsapplikationer.

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Pinto, Gómez Christian. "Directed self-assembly of block copolymers for the fabrication of nanomechanical structures." Doctoral thesis, Universitat Autònoma de Barcelona, 2021. http://hdl.handle.net/10803/671972.

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Abstract:

El principal objectiu d'aquesta tesi, titulada "autoensamblatge dirigit de copolímers de bloc per a la fabricació d'estructures nanomecàniques", és demostrar la possibilitat de fabricar estructures nanomecàniques funcionals mitjançant el autoensamblatge dirigit (DSA) de copolímers de bloc (BCPs) com a tècnica de nanoestructuració . El DSA és una tècnica de nanolitografía bottom-up basada en la capacitat que tenen els BCPs de segregar en dominis d'escala micro / nanomètrica. Gràcies a la seva alta resolució, alt rendiment i baix cost, aquesta tècnica ha estat molt estudiada per la indústria de semiconductors per nanoelectrònica, però també ha estat aplicada en altres camps que requereixen d'una alta densitat d'elements a escala nanomètrica. En aquesta tesi presentem un procés innovador basat en DSA que demostra ser apte per a la fabricació de sistemes nanomecànics. Vam demostrar la fabricació de membranes de silici suspeses ancorades per matrius de gran nombre de nanofils de silici emprant la grafoepitaxia de poliestirè-b-polimetilmetacrilat (PS-b-PMMA), un dels BCP més estesos. Els dispositius obtinguts poden desenvolupar-se per construir sensors de massa d'alta sensibilitat basats en ressonadors nanomecànics.
El principal objetivo de esta tesis, titulada "Autoensamblaje dirigido de copolímeros de bloque para la fabricación de estructuras nanomecánicas", es demostrar la posibilidad de fabricar estructuras nanomecánicas funcionales mediante el autoensamblaje dirigido (DSA) de copolímeros de bloque (BCPs) como técnica de nanoestructuración. El DSA es una técnica de nanolitografía bottom-up basada en la capacidad que tienen los BCPs de segregarse en dominios de escala micro/nanométrica. Gracias a su alta resolución, alto rendimiento y bajo coste, esta técnica ha sido muy estudiada por la industria de semiconductores para nanoelectrónica, pero también ha sido aplicada en otros campos que requieren de una alta densidad de elementos a escala nanométrica. En esta tesis presentamos un proceso novedoso basado en DSA que demuestra ser apto para la fabricación de sistemas nanomecánicos. Demostramos la fabricación de membranas de silicio suspendidas ancladas por matrices de gran número de nanohilos de silicio empleando la grafoepitaxia de poliestireno-b-polimetilmetacrilato (PS-b-PMMA), uno de los BCP más extendidos. Los dispositivos obtenidos pueden desarrollarse para construir sensores de masa de alta sensibilidad basados en resonadores nanomecánicos.
The main goal of this dissertation, entitled "irected self-assembly of block copolymers for the fabrication of nanomechanical structures", is to demonstrate the possibility of fabricating nanomechanical functional structures by employing the directed self-assembly (DSA) of block copolymers (BCPs) as a nanopatterning tool. DSA is a bottom-up nanolithography technique based on the ability of BCPs to segregate into domains at the micro/nanoscale, and it has attracted high interest due to its inherent simplicity, high throughput, low cost and potential for sub-10 nm resolution. Thanks to these characteristics, the technique has been heavily studied by the semiconductor industry for nanoelectronics, and also applied to alternate fields that might require from the definition of high-density nanoscale features. In this thesis we present a novel fabrication route based on DSA that proves to be suitable for the fabrication of nanomechanical systems. Here, we demonstrate the fabrication of suspended silicon membranes clamped by high-density arrays of silicon nanowires by using a DSA approach based on the graphoepitaxy of polystyrene-b-poly(methyl methacrylate) (PS-b-PMMA), a well-known diblock copolymer. Obtained devices can be further developed for building up high-sensitive mass sensors based on nanomechanical resonators.
Universitat Autònoma de Barcelona. Programa de Doctorat en Enginyeria Electrònica i de Telecomunicació

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Carvalho, Edson Jose de. "Projeto e fabricação de nao-estruturas por litografa interferometrica." [s.n.], 2008. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/260706.

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Abstract:

Orientadores: Edmundo da Silva Braga, Lucila Helena D. Cescato
Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica e de Computação
Made available in DSpace on 2018-08-11T12:33:55Z (GMT). No. of bitstreams: 1 Carvalho_EdsonJosede_D.pdf: 5686598 bytes, checksum: e418bbf5ce5f022ecbe9cf631af20b3d (MD5) Previous issue date: 2008
Resumo: Neste trabalho foi desenvolvida a técnica de Litografia Interferométrica para a gravação de nano-estruturas periódicas em relevo, uni e bidimensionais, sobre substratos de vidro e de silício. Em particular, o trabalho se concentrou em duas frentes: no estudo no perfil das estruturas gravadas em fotorresina, através da superposição de padrões interferométricos, e na integração desta técnica com as demais tecnologias usuais de processamento do Si para microeletrônica. A partir dos padrões luminosos, gerados pela superposição de franjas de interferência, o perfil em relevo das estruturas gravadas em fotorresina foi simulado para estudar a influência de alguns dos parâmetros do processo de exposição e revelação. Para a associação desta técnica de litografia interferométrica com as demais tecnologias de processamento de Si foi necessário desenvolver um processo para gravação sobre substratos de Si. Para isto foi preciso reduzir o efeito das ondas estacionárias na litografia. A solução encontrada foi crescer termicamente uma camada de SiO2, com espessura apropriada sobre o substrato de Si, antes da aplicação da fotorresina. Para demonstrar o potencial dos processos desenvolvidos para fabricação de componentes e dispositivos baseados em nano-estruturas, foram realizadas duas aplicações: gravação de arranjos de nano-ponteiras de Si e gravação de matrizes em relevo para moldagem de elementos difrativos de alta freqüência espacial. Utilizando a técnica de litografia interferométrica associada à corrosão por plasma RIE foram fabricados arranjos de alta densidade de nano-ponteiras de Si, com cerca de 106 pontas/mm2 e raio de curvatura da ordem de 20nm. O desempenho elétrico do arranjo de ponteiras fabricadas, como dispositivo de emissão de elétrons por efeito de campo, foi caracterizado através das medidas da curva I x V e da estabilidade temporal da corrente de elétrons emitidos. Por outro lado, foram fabricadas matrizes em relevo de elementos ópticos difrativos com propriedades de polarização. Estas estruturas foram utilizadas num processo de replicação que envolveu também etapas de moldagem por eletroformação de níquel e geração de réplicas por injeção de plástico. A caracterização óptica, tanto das matrizes quanto réplicas, foi realizada através da medida do espectro de difração para os estados ortogonais de polarização
Abstract: In this work the interferometric lithography technique was developed for recording periodic relief nano-structures, one and bi-dimensional, on silicon and glass substrates. In particular, the work is focused in two directions: the study of the profile of the structures recorded in photorresist, through the superimposition of interference light patterns, and the association of this technique with the usually microelectronics techniques for the silicon processing. Starting from the light patterns, generated by the superimposition of interference fringes, the photoresist relief profile was simulated in order to study the influence of some exposure and development parameters on it. For combining the interferometric lithography with the silicon technologies it was necessary to record the nano-structures on Si substrates. For this, it was necessary to deduct the Standing Wave effect in the lithography. The solution was to grow thermally a layer of SiO2, with a proper thickness, on the silicon substrate, before the application of the photorresist. To demonstrate the applicability of the developed processes for fabrication of components and devices based on nano-structures, two applications have been realized: the recording of arrays of silicon nano-tips and the recording of a master relief structure for molding a diffractive optical element of high spatial frequency. Using the interferometric lithography technique associated with the silicon corrosion for plasma RIE, high-density arrays of silicon nano-tips were fabricated, with about 106 tips/mm2 and ray of curvature of about 20nm. The electric performance of the nano-tips array as a Field Emission Device was characterized through the I x V curves measurement as well as the temporal stability of the emitted electron current. By the other side, a master of a Diffractive Optical Elements (DOE), with polarizing properties, was realized. This master structure was used in a replication process involving the nickel electroformed shim and the generation of the replicas by plastic injection molding. The optical characterization of both master and replicas were performed through the measurement of the diffraction spectrum for the two orthogonal polarization states
Doutorado
Eletrônica, Microeletrônica e Optoeletrônica
Doutor em Engenharia Elétrica

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Gorino, Vitor Hugo 1982. "Litografia artística brasileira : Lotus Lobo e Darel Valença Lins." [s.n.], 2014. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/285253.

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Abstract:

Orientador: Maria de Fátima Morethy Couto
Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Artes
Made available in DSpace on 2018-08-26T02:09:23Z (GMT). No. of bitstreams: 1 Gorino_VitorHugo_D.pdf: 11718785 bytes, checksum: e51fc99d7027464b8bea5a8af7ad9e28 (MD5) Previous issue date: 2014
Resumo: O presente trabalho analisa a produção litográfica de Darel Valença Lins (1924 -) e Lotus Lobo (1948 - ) das décadas de 1970 e 1980. Estes artistas desempenharam papeis de destaque na produção e no fomento da litografia artística no Brasil a partir de contextos e referenciais distintos, no Rio de Janeiro e em Minas Gerais, respectivamente. Suas produções autorais apresentam novas direções ao passo que incorporam imagens apropriadas em suas gravuras e, ao mesmo tempo trabalham com novas soluções processuais para as impressões, de forma que suas obras enquadrem-se dentro do grupo de artistas que investigam a gravura como meio expressivo ambivalente, caracterizado pela reprodução e pela multiplicação da imagem. Suas litografias se apresentam de tal forma, que reajustam e recompõem as imagens apropriadas recodificando-as, gerando uma nova construção na qual o registro original não mais as representa, mas também não se apaga por completo, semelhantemente ao que fazem os processos cognitivos de memória
Abstract: This work analyses the artwork of Darel Valença Lins (1924 -) and Lotus Lobo (1948- ) through the 1970's and 1980's. These artists played top roles in the artistic application and teaching of the lithographic printing process in Brazil, specifically in Rio de Janeiro and Minas Gerais respectively. Their personal work show new artistic investigation, placing them among the group of artists that investigate their medium technically and conceptually
Doutorado
Artes Visuais
Doutor em Artes Visuais

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Mayagoitia, Penagos Laura del Carmen. "TABACO Y LITOGRAFÍA. LA LITOGRAFÍA COMERCIAL EN MÉXICO DURANTE EL SIGLO XIX. LAS ETIQUETAS DE CIGARROS PUROS." Doctoral thesis, Universitat Politècnica de València, 2013. http://hdl.handle.net/10251/19160.

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Abstract:

Durante el último tercio del Siglo XIX, las empresas tabacaleras mexicanas imprimían sus etiquetas a partir de la litografía, técnica que había introducido al país Claudio Linati en la Escuela de Bellas Artes de San Carlos de México y posteriormente con la cromolitografía. Los talleres litográficos fueron desarrollándose poco a poco, siendo cada vez más los litógrafos que se dedicaban a dibujar o imprimir las etiquetas y algunas industrias, como la tabacalera que estaba en auge, tenían sus propios talleres. La Secretaría de Instrucción Pública y Bellas Artes instaló el registro autoral para etiquetas de cigarros y puros para asegurar los derechos de propiedad artística y evitar la falsificación como las que se colocaban en productos que no correspondían a las firmas de productos originales. La Universidad Nacional Autónoma de México conserva más de 1000 piedras litográficas en su acervo de la Escuela Nacional de Artes Plásticas en el plantel Academia de San Carlos de México y también tiene resguardadas en el Acervo "Lino Picaseño" de la Facultad de Arquitectura un impresionante acervo en el que se conservan más de doscientas etiquetas impresas de tabacos y sus expedientes. Los derechos autorales se tramitaban en la Academia de San Carlos y luego se remitían a la Secretaría de Instrucción Pública y Bellas Artes para su registro razón por la cual el acervo se conservó. Como el tabaco es un producto originario de Meso América en esta tesis se presenta la historia del tabaco en México y su representación en algunos Códices prehispánicos y la evolución de la industria tabacalera hasta el final del profiriato. Aborda principalmente la relación de la litografía como medio publicitario a través de etiquetas y habilitaciones con los productos derivados del tabaco: cigarros y
Mayagoitia Penagos, LDC. (2013). TABACO Y LITOGRAFÍA. LA LITOGRAFÍA COMERCIAL EN MÉXICO DURANTE EL SIGLO XIX. LAS ETIQUETAS DE CIGARROS PUROS [Tesis doctoral no publicada]. Universitat Politècnica de València. https://doi.org/10.4995/Thesis/10251/19160
Palancia

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Lidman, Charlotte. "Litografiskt Allehanda 1859-1865 : Konsten att skapa ett album för svensk konst." Thesis, Uppsala universitet, Konstvetenskapliga institutionen, 2016. http://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:uu:diva-295744.

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Abstract:

The aim of my thesis is to study the release and the project of Litografiskt Allehanda, an art magazine covering contemporary Swedish art and artists, published from 1859 to 1865. My purpose is to look at the choice of the published material for Litografiskt Allehanda, the influence the contributing artists, how the work with advertisement and subscriptions was made and if it fulfilled its own purpose. Through a social and communicative perspective I am studying the relations between the different actors like the publicists, the artists, the subscribers and also the interaction between the lithographs and the texts. Litografiskt Allehanda was the first successful lithographic work produced in Sweden, and the release lasted for six years. The printer and lithographer Axel Jacob Salmson, who was the founder of the magazine, led the printing work for two years before Sigfrid Flodin, a bookseller, took over and continued the work for another four years. The idea with Litografiskt Allehanda was to reach out to people all over Sweden and give everyone an opportunity to enjoy art, something that usually was exclusively for the upper class in the big cities. The analysis shows that there were people in smaller cities that subscribed to the magazine and also that the amount increased every year. Every volume contained 48 lithographic posters with a diversity of genres, from portraits and landscapes to some with more ethnographic character and ancient Nordic motives. The content became more Swedish with every year and letters show that the participating artists had quite a big influence over the published material. Every poster was accompanied by a text, which didn’t necessary had anything to do with the image, but was meant to create some entertainment for the reader. Some of these essays were written by special authors, while some were written by the artists themselves. Even if Litografiskt Allehanda is mentioned in almost every reference as being of great importance for the development of lithography and its proliferation in Sweden, there is nothing written that is just about the magazine.

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Books on the topic "Litografi"

Valerio, Vladimiro. Costruttori di immagini: Disegnatori, incisori e litografi nell'Officio topografico di Napoli, 1781-1879. Napoli: Paparo, 2002.

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Pierini, Benedetta. Una famiglia di litografi a Perugia: Da Girolamo a Brenno Tilli tra Otto e Novecento. Perugia: Futura, 2004.

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1853-1937, Tilli Girolamo, Tilli Brenno 1911-1990, and Rossi Raffaele 1923-, eds. Una famiglia di litografi a Perugia: Da Girolamo a Brenno Tilli tra Otto e Novecento. Perugia: Futura, 2004.

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Dizionario della stampa d'arte: Calcografi, silografi, litografi, stampatori, editori, movimenti artistici, scuole regionali e nazionali, riviste illustrate, tecniche. [Milan?]: A. Vallardi, 1995.

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Micieli, Nicola. Viviani litografo. Pontedera [Italy]: B & V, 1988.

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Podróż po Syberii Wschodniej Leopolda Niemirowskiego: Rysunki, akwarele, litografie = Puteshestvie po Vostochnoĭ Sibiri Leopolʹda Nemirovskogo : risunki, litografii, akvareli. Irkutsk: Artizdat, 2010.

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Fizika submikronnoĭ litografii. Moskva: "Nauka," Glav. red. fiziko-matematicheskoĭ lit-ry, 1990.

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Rouault, Georges. Georges Rouault, incisore e litografo. [Italy]: Edizioni della Laguna, 1988.

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Sívori, Museo Municipal de Artes Plásticas Eduardo. Litografía argentina contemporánea. 4th ed. Buenos Aires: Museo Eduardo Sivori, 1999.

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1837-1841, Troh Mihael fl, and Društvo istoričara umetnosti Srbije, eds. Litografije fruškogorskih manastira. Beograd: Društvo istoričara umetnosti Srbije, 1986.

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Book chapters on the topic "Litografi"

"Beneficios de la implementación de ACV en las empresas de impresión y litografía." In Guía para el análisis de ciclo de vida en el sector industrial de impresión y litografía. El caso de Legis S. A., 12–13. Universidad Central, 2019. http://dx.doi.org/10.2307/j.ctv1m0kh29.6.

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Mendes, Raul de Queiroz, and Arlindo Neto Montagnoli. "IMPLEMENTAÇÃO DE UMA MESA DE VARREDURA XY E APRIMORAMENTO DO SISTEMA FOCAL DE UM APARELHO DE LITOGRAFIA." In Estudos Transdisciplinares nas Engenharias 3, 106–19. Atena Editora, 2019. http://dx.doi.org/10.22533/at.ed.82919071010.

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"Por qué una guía de ACV en el sector industrial de impresión y litografía." In Guía para el análisis de ciclo de vida en el sector industrial de impresión y litografía. El caso de Legis S. A., 11–12. Universidad Central, 2019. http://dx.doi.org/10.2307/j.ctv1m0kh29.5.

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"Introducción." In Guía para el análisis de ciclo de vida en el sector industrial de impresión y litografía. El caso de Legis S. A., 9–10. Universidad Central, 2019. http://dx.doi.org/10.2307/j.ctv1m0kh29.4.

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"Referencias." In Guía para el análisis de ciclo de vida en el sector industrial de impresión y litografía. El caso de Legis S. A., 45–47. Universidad Central, 2019. http://dx.doi.org/10.2307/j.ctv1m0kh29.10.

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"Conclusiones." In Guía para el análisis de ciclo de vida en el sector industrial de impresión y litografía. El caso de Legis S. A., 43–44. Universidad Central, 2019. http://dx.doi.org/10.2307/j.ctv1m0kh29.9.

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"Estudio de caso en la empresa Legis S.A." In Guía para el análisis de ciclo de vida en el sector industrial de impresión y litografía. El caso de Legis S. A., 27–42. Universidad Central, 2019. http://dx.doi.org/10.2307/j.ctv1m0kh29.8.

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"Table of Contents." In Guía para el análisis de ciclo de vida en el sector industrial de impresión y litografía. El caso de Legis S. A., 5–6. Universidad Central, 2019. http://dx.doi.org/10.2307/j.ctv1m0kh29.2.

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RODRÍGUEZ, SANDRA CECILIA BAUTISTA. "Presentación." In Guía para el análisis de ciclo de vida en el sector industrial de impresión y litografía. El caso de Legis S. A., 7–8. Universidad Central, 2019. http://dx.doi.org/10.2307/j.ctv1m0kh29.3.

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"Back Matter." In Guía para el análisis de ciclo de vida en el sector industrial de impresión y litografía. El caso de Legis S. A., 48. Universidad Central, 2019. http://dx.doi.org/10.2307/j.ctv1m0kh29.11.

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Conference papers on the topic "Litografi"

MARTINS, Fernanda de Oliveira, Edna Lucia O. de Cunha LIMA, and Guilherme de Cunha LIMA. "Hans-Karl Wiegandt e a introdução da litografia na Província do Gram-Pará em 1870." In 13º Congresso Pesquisa e Desenvolvimento em Design. São Paulo: Editora Blucher, 2019. http://dx.doi.org/10.5151/ped2018-http://dx.doi.org/10.5433/2236-2207.2018v9n2suplp11.

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Tosi, Mauricio, Jeffry H. Martinez, Alejandro Fasciszewski, Laureano A. Bulus Rossini, and Pablo A. Costanzo Caso. "Fabricación de PICs basados en SiN utilizando litografía por escritura directa con láser UV." In 2020 IEEE Congreso Bienal de Argentina (ARGENCON). IEEE, 2020. http://dx.doi.org/10.1109/argencon49523.2020.9505469.

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PEREIRA, TATIANE RODRIGUES, MICHELLY SANTANA SOARES, WILSON DE CASTRO HILSDORF, and DARIO HENRIQUE ALLIPRANDINI. "MAPEAMENTO DO FLUXO DE VALOR PARA MELHORIA DO PROCESSO PRODUTIVO NO SETOR DE LITOGRAFIA DE UMA EMPRESA DE EMBALAGENS METÁLICAS." In ENEGEP 2017 - Encontro Nacional de Engenharia de Produção. ENEGEP 2017 - Encontro Nacional de Engenharia de Produção, 2017. http://dx.doi.org/10.14488/enegep2017_tn_sto_238_376_32878.

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Strappa, Giuseppe, and Marta Crognale. "The forming process of Fiumicino." In 24th ISUF 2017 - City and Territory in the Globalization Age. Valencia: Universitat Politècnica València, 2017. http://dx.doi.org/10.4995/isuf2017.2017.6474.

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Abstract:

This analysis, carried out within the Lettura e Progetto Laboratory of "Sapienza" University of Rome and based on the “processual” method, proposes the reconstruction, through the reading and interpretation of the formative process, of the urban settlement of Fiumicino, on the east coast of Rome . The area was formed by a set of fragmented interventions developed in different phases, with heterogeneous destinations and, apparently, no relation of necessity. The site appears mainly linked to the development of illegal buildings that date back to the second postwar period. However, a deeper analysis based on the reading and interpretation of the character of the building fabric, shows the existence of a clear relation of historical continuity between the today town and the territorial structures developed starting from the ancient city of Portus. Through this reading emerges the plan of a town connected to the activities of Porto Canale (Channel Port) in function since XVI Century. From the analysis of the historical cartography appears as a matrix route based on the continuation of the ancient via Portuense was formed in time and developed on the building routes that have resulted. We believe that this is a remarkable case study that exemplifies the formation of local identity at the edge of the metropolis as over time the area has developed a complex structure, connected to port activities, that is now forming its own urban character and individuality, so that recently it was constituted in autonomous municipality. References Ciano, A. (1936) Il Porto urbano di Roma (Soc. Tipo-Litografica Ligure, Genova) Strappa,G. (2014) L’architettura come processo (Franco Angeli, Milano 2014) Strappa, G., Carlotti, P., Camiz, A. (2016) Urban Morphology and Historical Fabrics. Contemporary Design of Small Towns in Latium (Gangemi, Roma)

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SÁNCHEZ TORIJA, BEATRIZ. "LA RAÍZ FOTOGRÁFICA DE LA TARJETA POSTAL." In I Congreso Internacional sobre Fotografia: Nuevas propuestas en Investigacion y Docencia de la Fotografia. Valencia: Universitat Politècnica València, 2017. http://dx.doi.org/10.4995/cifo17.2017.6805.

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Abstract:

La tarjeta postal es un fenómeno directamente relacionado con el medio fotográfico. Las vistas monumentales, los panoramas de distintos parajes o las anécdotas más pintorescas son temáticas tratadas por la postal que ya habían sido desarrolladas por el dibujo, el grabado y, posteriormente, por la fotografía… Y es que la tarjeta postal actuó como continuadora de una tradición, pero supuso mucho más de lo que en su momento fueron las colecciones de imágenes monumentales o animadas ya que contó con una difusión mayor. Su manejable tamaño, el uso de técnicas fotomecánicas y la producción en serie contribuyeron a abaratar los costes de un producto que, de otra manera, habría sido nuevamente considerado como un artículo de lujo. Desde la década de los 70 –concretamente desde 1872– estaba permitido el envío de postales en España, y fueron sobre todo los periodistas y las personas relacionadas con el mundo de la impresión quienes más las utilizaron. Hubo que esperar hasta finales de la década de los ochenta para que entraran en circulación las primeras tarjetas postales ilustradas, que eran enviadas sobre todo por extranjeros. La generalización del uso de la postal entendida como una nueva forma de correspondencia entre los españoles llegó con el nuevo siglo, y fue entre 1901 y 1905 cuando esta nueva industria alcanzó su “edad de oro”. Es posible que el gran éxito de la tarjeta postal se deba a que en ella la imagen fotográfica se combina con una nueva dimensión comunicativa. En origen se trataba de un medio a través del que únicamente se compartía una imagen. Fue poco tiempo después cuando se añadió un breve texto, lo que permitía aunar imagen y mensaje en un mismo elemento. La tarjeta postal acerca la imagen fotográfica a distintos públicos y a lugares muy distantes, y contribuye a la democratización de la fotografía y a la transmisión del conocimiento. En este contexto, las casas impresoras se multiplicaron y ofrecieron un producto de mayor calidad; utilizaron fundamentalmente la técnica de la fototipia y, en menor medida, la litografía y el fotograbado. Los editores también aumentaron considerablemente y es que, además de las grandes casas impresoras –como Hauser y Menet, Lacoste o Thomas–, algunas librerías, bazares o incluso los propios fotógrafos se convirtieron en editores de tarjetas postales. La mayoría de las postales son de autores anónimos y solo en contadas ocasiones figura el nombre del fotógrafo en el pie de imprenta. Además de las grandes empresas que contrataban profesionales para este fin, sabemos que fueron muchos los fotógrafos que adaptaron sus imágenes al formato postal y crearon postales ilustradas listas para ser comercializadas. La tarjeta postal fue un fenómeno creado en el siglo XIX y desarrollado a lo largo de todo el siglo XX, que no habría existido sin una fuerte industria fotográfica a sus espaldas. Es un producto editorial pero con una inequívoca raíz fotográfica.

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