Dissertations / Theses: 'Litografi'

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Gómez, Castaño Mayte. "Optical metamaterials: design, up-scalable fabrication and characterization." Doctoral thesis, Universitat Autònoma de Barcelona, 2020. http://hdl.handle.net/10803/670539.

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Abstract:

Els metamaterials són materials artificialment estructurats, minuciosament dissenyats per a l’obtenció de propietats electromagnètiques no observables en la natura, com l’índex de refracció negatiu. L’objectiu d’aquesta tesi és el desenvolupament de metamaterials òptics a gran escala que puguin ser fàcilment incorporats en dispositius reals. Combinant la litografia col·loïdal i el electrodeposició, vam presentar un disseny bottom-up de metamaterials tipus fishnet fets de capes d’or i aire. L’adequat disseny experimental i teòric dóna lloc a índexs de refracció fàcilment variables en l’infraroig proper. Aquesta estructura és duta a metamaterials tipus fishnet multicapes fets a partir de litografia per nanoimpressió i electrodeposició. Analitzem en detall la resposta òptica de les estructures, que donen lloc a grans índexs negatius des del visible fins a l’infraroig. Estudiem la seva aplicació com a sensors òptics infiltrant diferents líquids en les cavitats d’aire. Aquestes tècniques són igualment utilitzades per al desenvolupament de plataformes metàl·liques nanoestructurades per a l’observació de l’emissió espontània col·lectiva.
Los metamateriales son materiales artificialmente estructurados, minuciosamente diseñados para la obtención de propiedades electromagnéticas no observables en la naturaleza, como el índice de refracción negativo. El objetivo de esta tesis es el desarrollo de metamateriales ópticos a gran escala que puedan ser fácilmente incorporados en dispositivos reales. Combinando la litografía coloidal y el electrodepósito, presentamos un diseño bottom-up de metamateriales tipo fishnet hechos de capas de oro y aire. El adecuado diseño experimental y teórico da lugar a índices de refracción fácilmente variables en el infrarrojo cercano. Esta estructura es llevada a metamateriales tipo fishnet multicapas hechos a partir de litografía por nanoimpresión y electrodepósito. Analizamos en detalle la respuesta óptica de las estructuras, que dan lugar a grandes índices negativos desde el visible hasta el infrarrojo. Estudiamos su aplicación como sensores ópticos al infiltrar diferentes líquidos en las cavidades de aire. Estas técnicas son igualmente utilizadas para el desarrollo de plataformas metálicas nanoestructuradas para la observación de emisión espontánea colectiva.
Metamaterials are artificially structured materials, thoroughly designed for achieving electromagnetic properties not observed in nature such as the negative refractive index. The purpose of this thesis is the development of up-scalable optical metamaterials that can be easily incorporated into actual devices. By combining colloidal lithography and electrodeposition, we report an entirely bottom-up fishnet metamaterial made of gold and air layers. A proper theoretical and experimental design gives rise to tunable refractive index, from positive to negative values in the near infrared. This structure is extended to multilayered fishnet metamaterials made by nanoimprint lithography and electrodeposition. We thoroughly analyze the optical response of the structures, which lead to strong negative index from the visible to near infrared. Their performance as optical sensors is studied when infiltrating different liquids through the air cavities. These techniques are used to fabricate nanostructured metallic substrates for studying the collective spontaneous emission of fluorescent molecules.

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Krátký, Stanislav. "Kombinovaná elektronová litografie." Doctoral thesis, Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií, 2021. http://www.nusl.cz/ntk/nusl-438584.

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Abstract:

This thesis deals with grayscale e-beam lithography and diffractive optical elements fabrication. Three topics are addressed. The first topic is combined grayscale e-beam lithography. The goal of this task is combining exposures performed by two systems with various beam energies. This combined technique leads to a better usage of both systems because various structures can be more easily prepared by one electron beam energy than by the other. The next topic is the optimization of shape borders of exposing structures that are defined by image input. The influence of such optimization on exposure data preparation is evaluated, as well as the exposure time and the change of optical properties of testing structures. The possibility of deep multilevel diffractive optical element fabrication in plexiglass blocks is researched as the third topic. Plexiglass can replace the system of a resist and a substrate. A new approach to writing down the structures by electron beam is presented, minimizing thermal stress on the plexiglass block during the exposure. The writing method also improves the homogeneity of exposed motifs. A method for computing the exposure dose for specific multilevel structures was designed. This method is based on the existing model of proximity effect computation and it minimizes the computing time necessary to obtain the exposure doses.

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Licheri, Susanna. "Offline study of next generation EUV pellicle materials and performances : From experimental design to material characterization." Thesis, KTH, Skolan för elektroteknik och datavetenskap (EECS), 2019. http://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:kth:diva-254554.

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Abstract:

Lithography is the most crucial step in the semiconductor microfabrication workflow. Continuous features size shrinking co-occurs with the reduction of the exposure wavelength: a move from 193 nm light to extreme ultra-violet (EUV) at 13.5 nm is performed. The change poses a vast number of challenges that have been overcome in the past years. Among the others, the protection of the reticle front side from defects is crucial. Shielding can be achieved by means of EUV pellicles: large area (~150 cm2), freestanding, ultra-thin (~50 nm) membranes that prevent particles from landing on the reticle surface. Defects fall on the pellicle membrane, which is out-of-focus with respect to the reticle. During operation, the pellicle has to endure mechanical movements (>100 m/s2) and withstand the EUV scanner environment. With increasing source power (resulting in temperatures >500 ºC) structural and chemical integrity must be guaranteed. With multiple semiconductor manufacturers introducing EUV in HVM, an urgent need for a mass volume production-ready pellicle solution is present.In this thesis project, new generation pellicle materials are exposed to EUV light and gas atmosphere at BESSY II synchrotron beamline. The purpose is to investigate the performances of the new membrane samples in terms of the HVM production specifications. Two sets of 10x10 mm2 samples Type (A – B) with different core thickness are tested. Samples are characterized by using the following techniques: EUV transmittance and reflectance measurements, RBS, XPS, and FTIR. After exposure, all the samples undergo degradation. The main root causes are the atmosphere environment and the temperature. On the other hand, EUV light itself plays a marginal role in the process. The material etching mechanism must be further investigated through additional pellicle tests. This is a necessary step to make towards the high-volume manufacturing standards required for mass production.
Litografi är det mest avgörande steget i arbets flödet för halvledar mikrotillverkning. Kontinuerliga funktioner storlek krympande co-sker med minskning av exponeringen våglängd: en över gången från 193 nm ljus till extrem ultraviolett (EUV) vid 13.5 nm utförs. Förändringen innebär ett stort antal utmaningar som har övervunnits under de senaste åren. Bland de andra, är skyddet av rikt medel fram sidan från defekter avgörande. Avskärmning kan åstadkommas med hjälp av EUV-pellicles: stort område (~ 150 cm2), fristående, ultratunna (~ 50 nm) membran som hindrar partiklar från att landa på rikt medlet ytan. Defekter faller på denna tunna membranet, som är out-of-fokus med avseende på rikt medlet. Under drift har denna tunna att uthärda mekaniska rörelser (> 100 m/s2) och motstå EUV skanner miljö. Med ökande käll effekt (vilket resulterar i temperaturer > 500 º C) måste strukturell och kemisk integritet garanteras. Med flera halvledar tillverkare införa EUV i HVM, ett brådskande behov av en massa volym produktions klara denna tunna lösning är närvarande.I detta arbete, exponeras nya generationens denna tunna material för EUV ljus-och gasatmosfär på BESSY II Synchrotron beamline. Syftet är att undersöka prestandan hos de nya membranproverna i form av HVM-produktionsspecifikationer. Två uppsättningar av 10x10 mm2 prover typ (A – B) med olika kärna tjocklek testas. Proverna kännetecknas av att använda följande tekniker: EUV-transmission och reflektansmätningar, RBS, XPS och FTIR. Efter exponering genomgår alla prover nedbrytning. De viktigaste bakomliggande orsakerna är atmosfären miljö och temperaturen. Å andra sidan spelar EUV-ljuset självt en marginell roll i processen. Materialetsnings mekanismen måste undersökas ytterligare genom ytterligare denna tunna-tester. Detta är ett nödvändigt steg för att göra mot de höga volymer tillverknings standarder som krävs för Mass produktion.

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Daněk, Lukáš. "Reliéfní difraktivní struktury pro optické elementy realizované pomocí elektronové litografie." Doctoral thesis, Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií, 2009. http://www.nusl.cz/ntk/nusl-233484.

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Abstract:

This thesis describes several techniques for the optimization of the manufacturing of relief diffractive structures used as optical elements by Electron beam lithograph BS600 in the Electron beam laboratory of the Institute of Scientific Instruments of the Academy of Sciences of the Czech Republic. The Electron beam lithograph BS600 was originally developed and constructed in the Institute of Scientific Instruments of the Academy of Sciences of the Czech Republic for Tesla in 1983, but is still developing, which was published. The Electron been lithograph BS600 is specific in these days because of its accelerating potential and is unique in the world because of the possibility to shape the beam. The optimization of manufacturing of relief diffractive structures, used as optical elements, was mostly reached by analysis, bringing optimal solution for the required effect. Moreover, an algorithm was developed for driving the electron beam position, shape, size and the time of each elementary exposition. The analysis showed that is convenient to use mathematical description of separate lines of diffractive structures. A separate subject was carried out for the calibration of the exposition field of the Electron beam lithograph BS600.

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Liu, Yandi. "Block Copolymer Lithographyfor Nano-porous Oxide Thin Films." Thesis, KTH, Skolan för elektroteknik och datavetenskap (EECS), 2018. http://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:kth:diva-254331.

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Abstract:

This thesis focuses on employing a new patterning technique called block copolymer lithography to transfer the nano-porous pattern from the polymer template to the underlying oxide thin film. Nano-porous block copolymer films are produced by spin-coating polymer solution on wafers followed by annealing, UV exposure and development processes. Reactive-ion etching is then used to etch the oxide films based on the pattern of polymer template and the polymer is then removed. The obtained oxide microstructure is characterized by SEM, showing a nanomesh of microdomains with the same hole size and density as the initial block copolymer layer. The advantages of block copolymer lithography include uniform nanopatterning, cost efficiency and simple processing. The nano-porous oxide thin films could be used as hard mask for nanopatterning in microelectronics and for energy storage applications.
Denna avhandling fokuserar på användningen av en ny mönstringsteknik som kallas block-sampolymerlitografi som används för att överföra nano-porösa mönster från polymermaller till en underliggande oxidtunnfilm. Nano-porösa blocksampolymerfilmer framställs genom spinbeläggningspolymerlösning på skivor följt av glödgning, UV-exponering och utvecklingsprocesser. Reaktionjon etsning används sedan för att etsa oxidfilmerna baserat på mönstret av polymermaller och därefter blir polymeren avlägsnad. Den erhållna oxidmikrostrukturen karakteriseras av SEM, som visar en nanomesh av mikrodomäner med samma hålstorlek och densitet som det ursprungliga blocksampolymerskiktet. Fördelarna med block-sampolymerlitografi innefattar likformig nanomönstring, kostnadseffektivitet och enkel bearbetning. De nanoporösa oxidtunnfilmerna kan användas som en hard mask för nanomönstring i mikroelektronik och för energilagringsapplikationer.

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Pinto, Gómez Christian. "Directed self-assembly of block copolymers for the fabrication of nanomechanical structures." Doctoral thesis, Universitat Autònoma de Barcelona, 2021. http://hdl.handle.net/10803/671972.

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Abstract:

El principal objectiu d'aquesta tesi, titulada "autoensamblatge dirigit de copolímers de bloc per a la fabricació d'estructures nanomecàniques", és demostrar la possibilitat de fabricar estructures nanomecàniques funcionals mitjançant el autoensamblatge dirigit (DSA) de copolímers de bloc (BCPs) com a tècnica de nanoestructuració . El DSA és una tècnica de nanolitografía bottom-up basada en la capacitat que tenen els BCPs de segregar en dominis d'escala micro / nanomètrica. Gràcies a la seva alta resolució, alt rendiment i baix cost, aquesta tècnica ha estat molt estudiada per la indústria de semiconductors per nanoelectrònica, però també ha estat aplicada en altres camps que requereixen d'una alta densitat d'elements a escala nanomètrica. En aquesta tesi presentem un procés innovador basat en DSA que demostra ser apte per a la fabricació de sistemes nanomecànics. Vam demostrar la fabricació de membranes de silici suspeses ancorades per matrius de gran nombre de nanofils de silici emprant la grafoepitaxia de poliestirè-b-polimetilmetacrilat (PS-b-PMMA), un dels BCP més estesos. Els dispositius obtinguts poden desenvolupar-se per construir sensors de massa d'alta sensibilitat basats en ressonadors nanomecànics.
El principal objetivo de esta tesis, titulada "Autoensamblaje dirigido de copolímeros de bloque para la fabricación de estructuras nanomecánicas", es demostrar la posibilidad de fabricar estructuras nanomecánicas funcionales mediante el autoensamblaje dirigido (DSA) de copolímeros de bloque (BCPs) como técnica de nanoestructuración. El DSA es una técnica de nanolitografía bottom-up basada en la capacidad que tienen los BCPs de segregarse en dominios de escala micro/nanométrica. Gracias a su alta resolución, alto rendimiento y bajo coste, esta técnica ha sido muy estudiada por la industria de semiconductores para nanoelectrónica, pero también ha sido aplicada en otros campos que requieren de una alta densidad de elementos a escala nanométrica. En esta tesis presentamos un proceso novedoso basado en DSA que demuestra ser apto para la fabricación de sistemas nanomecánicos. Demostramos la fabricación de membranas de silicio suspendidas ancladas por matrices de gran número de nanohilos de silicio empleando la grafoepitaxia de poliestireno-b-polimetilmetacrilato (PS-b-PMMA), uno de los BCP más extendidos. Los dispositivos obtenidos pueden desarrollarse para construir sensores de masa de alta sensibilidad basados en resonadores nanomecánicos.
The main goal of this dissertation, entitled "irected self-assembly of block copolymers for the fabrication of nanomechanical structures", is to demonstrate the possibility of fabricating nanomechanical functional structures by employing the directed self-assembly (DSA) of block copolymers (BCPs) as a nanopatterning tool. DSA is a bottom-up nanolithography technique based on the ability of BCPs to segregate into domains at the micro/nanoscale, and it has attracted high interest due to its inherent simplicity, high throughput, low cost and potential for sub-10 nm resolution. Thanks to these characteristics, the technique has been heavily studied by the semiconductor industry for nanoelectronics, and also applied to alternate fields that might require from the definition of high-density nanoscale features. In this thesis we present a novel fabrication route based on DSA that proves to be suitable for the fabrication of nanomechanical systems. Here, we demonstrate the fabrication of suspended silicon membranes clamped by high-density arrays of silicon nanowires by using a DSA approach based on the graphoepitaxy of polystyrene-b-poly(methyl methacrylate) (PS-b-PMMA), a well-known diblock copolymer. Obtained devices can be further developed for building up high-sensitive mass sensors based on nanomechanical resonators.
Universitat Autònoma de Barcelona. Programa de Doctorat en Enginyeria Electrònica i de Telecomunicació

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Carvalho, Edson Jose de. "Projeto e fabricação de nao-estruturas por litografa interferometrica." [s.n.], 2008. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/260706.

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Abstract:

Orientadores: Edmundo da Silva Braga, Lucila Helena D. Cescato
Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica e de Computação
Made available in DSpace on 2018-08-11T12:33:55Z (GMT). No. of bitstreams: 1 Carvalho_EdsonJosede_D.pdf: 5686598 bytes, checksum: e418bbf5ce5f022ecbe9cf631af20b3d (MD5) Previous issue date: 2008
Resumo: Neste trabalho foi desenvolvida a técnica de Litografia Interferométrica para a gravação de nano-estruturas periódicas em relevo, uni e bidimensionais, sobre substratos de vidro e de silício. Em particular, o trabalho se concentrou em duas frentes: no estudo no perfil das estruturas gravadas em fotorresina, através da superposição de padrões interferométricos, e na integração desta técnica com as demais tecnologias usuais de processamento do Si para microeletrônica. A partir dos padrões luminosos, gerados pela superposição de franjas de interferência, o perfil em relevo das estruturas gravadas em fotorresina foi simulado para estudar a influência de alguns dos parâmetros do processo de exposição e revelação. Para a associação desta técnica de litografia interferométrica com as demais tecnologias de processamento de Si foi necessário desenvolver um processo para gravação sobre substratos de Si. Para isto foi preciso reduzir o efeito das ondas estacionárias na litografia. A solução encontrada foi crescer termicamente uma camada de SiO2, com espessura apropriada sobre o substrato de Si, antes da aplicação da fotorresina. Para demonstrar o potencial dos processos desenvolvidos para fabricação de componentes e dispositivos baseados em nano-estruturas, foram realizadas duas aplicações: gravação de arranjos de nano-ponteiras de Si e gravação de matrizes em relevo para moldagem de elementos difrativos de alta freqüência espacial. Utilizando a técnica de litografia interferométrica associada à corrosão por plasma RIE foram fabricados arranjos de alta densidade de nano-ponteiras de Si, com cerca de 106 pontas/mm2 e raio de curvatura da ordem de 20nm. O desempenho elétrico do arranjo de ponteiras fabricadas, como dispositivo de emissão de elétrons por efeito de campo, foi caracterizado através das medidas da curva I x V e da estabilidade temporal da corrente de elétrons emitidos. Por outro lado, foram fabricadas matrizes em relevo de elementos ópticos difrativos com propriedades de polarização. Estas estruturas foram utilizadas num processo de replicação que envolveu também etapas de moldagem por eletroformação de níquel e geração de réplicas por injeção de plástico. A caracterização óptica, tanto das matrizes quanto réplicas, foi realizada através da medida do espectro de difração para os estados ortogonais de polarização
Abstract: In this work the interferometric lithography technique was developed for recording periodic relief nano-structures, one and bi-dimensional, on silicon and glass substrates. In particular, the work is focused in two directions: the study of the profile of the structures recorded in photorresist, through the superimposition of interference light patterns, and the association of this technique with the usually microelectronics techniques for the silicon processing. Starting from the light patterns, generated by the superimposition of interference fringes, the photoresist relief profile was simulated in order to study the influence of some exposure and development parameters on it. For combining the interferometric lithography with the silicon technologies it was necessary to record the nano-structures on Si substrates. For this, it was necessary to deduct the Standing Wave effect in the lithography. The solution was to grow thermally a layer of SiO2, with a proper thickness, on the silicon substrate, before the application of the photorresist. To demonstrate the applicability of the developed processes for fabrication of components and devices based on nano-structures, two applications have been realized: the recording of arrays of silicon nano-tips and the recording of a master relief structure for molding a diffractive optical element of high spatial frequency. Using the interferometric lithography technique associated with the silicon corrosion for plasma RIE, high-density arrays of silicon nano-tips were fabricated, with about 106 tips/mm2 and ray of curvature of about 20nm. The electric performance of the nano-tips array as a Field Emission Device was characterized through the I x V curves measurement as well as the temporal stability of the emitted electron current. By the other side, a master of a Diffractive Optical Elements (DOE), with polarizing properties, was realized. This master structure was used in a replication process involving the nickel electroformed shim and the generation of the replicas by plastic injection molding. The optical characterization of both master and replicas were performed through the measurement of the diffraction spectrum for the two orthogonal polarization states
Doutorado
Eletrônica, Microeletrônica e Optoeletrônica
Doutor em Engenharia Elétrica

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Gorino, Vitor Hugo 1982. "Litografia artística brasileira : Lotus Lobo e Darel Valença Lins." [s.n.], 2014. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/285253.

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Abstract:

Orientador: Maria de Fátima Morethy Couto
Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Artes
Made available in DSpace on 2018-08-26T02:09:23Z (GMT). No. of bitstreams: 1 Gorino_VitorHugo_D.pdf: 11718785 bytes, checksum: e51fc99d7027464b8bea5a8af7ad9e28 (MD5) Previous issue date: 2014
Resumo: O presente trabalho analisa a produção litográfica de Darel Valença Lins (1924 -) e Lotus Lobo (1948 - ) das décadas de 1970 e 1980. Estes artistas desempenharam papeis de destaque na produção e no fomento da litografia artística no Brasil a partir de contextos e referenciais distintos, no Rio de Janeiro e em Minas Gerais, respectivamente. Suas produções autorais apresentam novas direções ao passo que incorporam imagens apropriadas em suas gravuras e, ao mesmo tempo trabalham com novas soluções processuais para as impressões, de forma que suas obras enquadrem-se dentro do grupo de artistas que investigam a gravura como meio expressivo ambivalente, caracterizado pela reprodução e pela multiplicação da imagem. Suas litografias se apresentam de tal forma, que reajustam e recompõem as imagens apropriadas recodificando-as, gerando uma nova construção na qual o registro original não mais as representa, mas também não se apaga por completo, semelhantemente ao que fazem os processos cognitivos de memória
Abstract: This work analyses the artwork of Darel Valença Lins (1924 -) and Lotus Lobo (1948- ) through the 1970's and 1980's. These artists played top roles in the artistic application and teaching of the lithographic printing process in Brazil, specifically in Rio de Janeiro and Minas Gerais respectively. Their personal work show new artistic investigation, placing them among the group of artists that investigate their medium technically and conceptually
Doutorado
Artes Visuais
Doutor em Artes Visuais

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Mayagoitia, Penagos Laura del Carmen. "TABACO Y LITOGRAFÍA. LA LITOGRAFÍA COMERCIAL EN MÉXICO DURANTE EL SIGLO XIX. LAS ETIQUETAS DE CIGARROS PUROS." Doctoral thesis, Universitat Politècnica de València, 2013. http://hdl.handle.net/10251/19160.

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Abstract:

Durante el último tercio del Siglo XIX, las empresas tabacaleras mexicanas imprimían sus etiquetas a partir de la litografía, técnica que había introducido al país Claudio Linati en la Escuela de Bellas Artes de San Carlos de México y posteriormente con la cromolitografía. Los talleres litográficos fueron desarrollándose poco a poco, siendo cada vez más los litógrafos que se dedicaban a dibujar o imprimir las etiquetas y algunas industrias, como la tabacalera que estaba en auge, tenían sus propios talleres. La Secretaría de Instrucción Pública y Bellas Artes instaló el registro autoral para etiquetas de cigarros y puros para asegurar los derechos de propiedad artística y evitar la falsificación como las que se colocaban en productos que no correspondían a las firmas de productos originales. La Universidad Nacional Autónoma de México conserva más de 1000 piedras litográficas en su acervo de la Escuela Nacional de Artes Plásticas en el plantel Academia de San Carlos de México y también tiene resguardadas en el Acervo "Lino Picaseño" de la Facultad de Arquitectura un impresionante acervo en el que se conservan más de doscientas etiquetas impresas de tabacos y sus expedientes. Los derechos autorales se tramitaban en la Academia de San Carlos y luego se remitían a la Secretaría de Instrucción Pública y Bellas Artes para su registro razón por la cual el acervo se conservó. Como el tabaco es un producto originario de Meso América en esta tesis se presenta la historia del tabaco en México y su representación en algunos Códices prehispánicos y la evolución de la industria tabacalera hasta el final del profiriato. Aborda principalmente la relación de la litografía como medio publicitario a través de etiquetas y habilitaciones con los productos derivados del tabaco: cigarros y
Mayagoitia Penagos, LDC. (2013). TABACO Y LITOGRAFÍA. LA LITOGRAFÍA COMERCIAL EN MÉXICO DURANTE EL SIGLO XIX. LAS ETIQUETAS DE CIGARROS PUROS [Tesis doctoral no publicada]. Universitat Politècnica de València. https://doi.org/10.4995/Thesis/10251/19160
Palancia

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Lidman, Charlotte. "Litografiskt Allehanda 1859-1865 : Konsten att skapa ett album för svensk konst." Thesis, Uppsala universitet, Konstvetenskapliga institutionen, 2016. http://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:uu:diva-295744.

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Abstract:

The aim of my thesis is to study the release and the project of Litografiskt Allehanda, an art magazine covering contemporary Swedish art and artists, published from 1859 to 1865. My purpose is to look at the choice of the published material for Litografiskt Allehanda, the influence the contributing artists, how the work with advertisement and subscriptions was made and if it fulfilled its own purpose. Through a social and communicative perspective I am studying the relations between the different actors like the publicists, the artists, the subscribers and also the interaction between the lithographs and the texts. Litografiskt Allehanda was the first successful lithographic work produced in Sweden, and the release lasted for six years. The printer and lithographer Axel Jacob Salmson, who was the founder of the magazine, led the printing work for two years before Sigfrid Flodin, a bookseller, took over and continued the work for another four years. The idea with Litografiskt Allehanda was to reach out to people all over Sweden and give everyone an opportunity to enjoy art, something that usually was exclusively for the upper class in the big cities. The analysis shows that there were people in smaller cities that subscribed to the magazine and also that the amount increased every year. Every volume contained 48 lithographic posters with a diversity of genres, from portraits and landscapes to some with more ethnographic character and ancient Nordic motives. The content became more Swedish with every year and letters show that the participating artists had quite a big influence over the published material. Every poster was accompanied by a text, which didn’t necessary had anything to do with the image, but was meant to create some entertainment for the reader. Some of these essays were written by special authors, while some were written by the artists themselves. Even if Litografiskt Allehanda is mentioned in almost every reference as being of great importance for the development of lithography and its proliferation in Sweden, there is nothing written that is just about the magazine.

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Fonseca, Paulo de Tarso. "Projeto e construção de uma linha de luz com um monocromador de grade toroidal para o LNLS." [s.n.], 1993. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/277299.

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Abstract:

Orientador: Antonio Rubens Britto de Castro
Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica Gleb Wataghin
Made available in DSpace on 2018-07-18T10:21:33Z (GMT). No. of bitstreams: 1 Fonseca_PaulodeTarso_M.pdf: 4115401 bytes, checksum: e42f2e11a14e238970cebc7325bbf299 (MD5) Previous issue date: 1993
Resumo: Não informado
Abstract: A TGM beamline for the spectral range 12-310 eV was built at Laboratório Nacional de Luz Síncrotron (LNLS), Campinas SP, Brasil. This beamline consists of safety devices, a condensing mirror, a toroidal grating monochromator (TGM), and a refocussing mirror. This beamline has been assembled at Center for Advanced Microstructures and Devices (CAMD), Baton Rouge LA, U.S.A., and saw first synchrotron light on 19 October 1992. The TGM beamline was commissioned. The photon flux at the sample was measured. TGM spectral resolution estimates, absolute energy calibration and harmonic content, at selected wavelenghts, were obtained from absorption measurements on a thin Aluminun film
Mestrado
Física
Mestre em Física

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Sofiato, Cassia Geciauskas. "Do desenho à litografia = a origem da língua brasileira de sinais." [s.n.], 2011. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/284471.

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Abstract:

Orientador: Lúcia Helena Reily
Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Artes
Made available in DSpace on 2018-08-18T06:22:11Z (GMT). No. of bitstreams: 1 Sofiato_CassiaGeciauskas_D.pdf: 26537479 bytes, checksum: e9ee767f0f3665bcff7c04b1eb691d39 (MD5) Previous issue date: 2011
Resumo: A pesquisa desenvolvida buscou analisar a primeira obra impressa de língua de sinais de que se tem notícia no Brasil, a Iconographia dos Signaes dos Surdos- Mudos, de autoria de Flausino José da Costa Gama. Flausino da Gama era surdo e aluno do Imperial Instituto dos Surdos-Mudos; empreendeu a sua obra, utilizando a técnica da litografia, em 1875. Por meio de pesquisa bibliográfica e documental, foi possível conhecer a obra e também todo o contexto que se apresentava à época em que Flausino decidiu estabelecer uma iconografia para a língua brasileira de sinais. O estudo também revelou que, ao elaborar o seu trabalho, Flausino da Gama reproduziu as pranchas de uma obra intitulada L'Enseignement Primaire des Sourds-Muets mis a la portée de tout le monde avec Une Iconographie des Signes, de autoria de um surdo francês chamado Pierre Pélissier. À luz dos elementos básicos que compõem a linguagem visual, analisamos a obra de Flausino para compreender a forma de constituição da mesma. A Iconographia dos signaes dos surdos-mudos de Flausino da Gama é formada por vinte estampas que apresentam 382 sinais, excetuando-se o alfabeto manual, também presente na obra. Além disso, traz 18 estampas com descrição verbal dos sinais que compõem o trabalho. Por meio dessa empreitada esperamos elucidar a origem da iconografia da língua brasileira de sinais e desmitificar a pessoa de Flausino, importante personagem da história da educação de surdos no Brasil e da língua brasileira de sinais
Abstract: The aim of this study was to analyze the first known sign language publication printed in Brazil, which was the Iconographia dos Signaes dos Surdos-Mudos, designed by Flausino José da Costa Gama. Flausino da Gama was deaf, and studied at the Imperial Institute for Deaf-Mutes. He produced his book in 1875 using lithography. Bibliographic and documentary research methodology enabled us to study the publication and understand the historical context of the period in which Flausino undertook the challenge of producing an iconography of Brazilian sign language. The study revealed that Flausino da Gama reproduced folios from an earlier French work entitled L'Enseignement Primaire des Sourds-Muets mis a la portée de tout le monde avec Une Iconographie des Signes, that was authored by a deaf Frenchman named Pierre Pélissier. Flausino's oeuvre was analyzed according to visual language categories in order to understand the rationale for its constitution. The Iconographia dos signaes dos surdos-mudos of Flausino da Gama is made up of twenty folios with a total of 382 signs, not counting the manual alphabet that is also present in the book. The publication also includes 18 folios with verbal descriptions of the signs that are in the book. By means of this study, we hope to clarify the origin of the iconography of Brazilian sign language, as well as bring to light an understanding of Flausino and his special standing for Brazilian sign language, as he has become a mythical figure in the history of the education of the deaf in Brazil
Doutorado
Artes Visuais
Doutor em Artes

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Alves, Marcos Veríssimo. "Manipulação transversal de feixes atômicos para possível uso em litografia atômica." Universidade de São Paulo, 1997. http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/76/76131/tde-12052014-165027/.

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Abstract:

Desde o desenvolvimento de técnicas para controlar o movimento atômico usando a força de pressão de radiação, muitas aplicações tem sido sugeridas e implementadas. Entre estas, o aprisionamento atômico e o desenvolvimento de estruturas espaciais com átomos frios merece atenção especial devido à sua potencial aplicação em depósitos superficiais como litografia. Realizamos, neste trabalho, um estudo sobre feixes atômicos e sua desaceleração e compressão espacial. Realizamos também estudos numéricos sobre a formação de estruturas em anéis em feixes atômicos, verificando ser factível, e estudando também a compressão destas estruturas espaciais, com vistas a possíveis aplicações em nanolitografia atômica.
From the very beginning of the development of atomic motion control techniques using the radiation pressure force, a variety of applications have been suggested and implemented. Of all these, atomic trapping techniques and the development of spatial structures using cold atoms deserves special attention due to its potential application to surface deposition such as lithography. In the present work, we perform a study on atomic beams and their deceleration and spatial compression. We also perform numerical studies and present experimental observation of the realization of spatial ring structures in atomic beams, verifying its factibility, and we study the compression of such ring-shaped structures with application in atomic nanolithography as the ultimate goal.

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Benetti, Luana Carina. "Desenvolvimento de nano-osciladores utilizando litografia de máscaras duras de TiW." reponame:Repositório Institucional da UFSC, 2016. https://repositorio.ufsc.br/xmlui/handle/123456789/169893.

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Abstract:

Tese (doutorado) - Universidade Federal de Santa Catarina, Centro de Ciências Físicas e Matemáticas, Programa de Pós-Graduação em Física, Florianópolis, 2016.
Made available in DSpace on 2016-10-25T03:09:05Z (GMT). No. of bitstreams: 1 342537.pdf: 18649766 bytes, checksum: 2f9f649f7ff54a923d71adcc1f35b1bc (MD5) Previous issue date: 2016
Nano-osciladores de torque de spin (STNOs) são dispositivos baseados no fenômeno de transferência de torque de spin (STT), que consiste na transferência de momento para magnetização local de camadas magnéticas, a partir de uma corrente elétrica polarizada em spin. A geometria de nanopilar tem sido amplamente utilizada para estudos de STT, devido à sua pequena dimensão lateral e possibilidade de utilização da dimensão vertical para o transporte de elétrons. Normalmente, o processo de fabricação de nanopilares envolve litografia por feixe de elétrons e corrosão por ion milling, que gera redeposição do material ejetado da superfície da amostra e efeito de sombra devido ao ângulo de incidência do feixe de íons. Neste trabalho foram fabricados e caracterizados STNOs, com o uso de máscaras duras (MD) de TiW. Primeiramente, foram estabelecidas condições de corrosão por RIE para o TiW, que proporcionaram obter máscaras duras com bom perfil lateral e sem irregularidades na camada de referência para parar a corrosão (stop layer). As máscaras foram então incorporadas ao processo de fabricação dos STNOs, sendo fabricados dispositivos com dimensão lateral de 50 a 250 nm. As propriedades estruturais, estáticas e dinâmicas foram investigadas para os diferentes tamanhos. Foi possível obter razões de magnetorresistência túnel (TMR) superiores a 100%, com produto resistência x área (RA) entre 2,3 e 4 ?.?m². Não foram observados padrões de redeposição nas medidas de TMR vs. RA ou nas imagens de STEM com perspectiva lateral dos nanopilares. Foi observada uma dependência da TMR e RA com o tamanho dos dispositivos, que foi relacionada a defeitos na estrutura cristalina do MgO, possivelmente causado pela difusão de boro e ou oxigênio. Defeitos na rede cristalina podem dificultar o tunelamento coerente dos elétrons, prejudicando a TMR e reduzindo a RA. A partir de micrografias de HRTEM, foi possível identificar a camada cristalina de MgO, mas não foi possível determinar a distância interplanar e o consequente plano cristalino. As geometrias circular de 150nm de diâmetro e a elíptica de dimensão 100 x 250 nm, foram as que melhor apresentaram emissão de sinal RF, com um único pico bem definido de emissão. A potência de emissão obtida foi na ordem de 23 nW e foi possível atingir valores de largura do pico a meia altura de 54 MHz. Os dispositivos também indicaram ter altos valores de tensão de ruptura de barreira (> 0,8 V).

Abstract : Spin-transfer nano-oscillators (STNOs) are devices based on spin transfer torque phenomenon (STT), which consists in momentum transfer to magnetic layers, from spin polarized currents. The nanopillar geometry has been widely used for STT studies, because of its reduced lateral dimension and possibility of having electron transport in the vertical dimension. Usually, the process of fabrication of nanopillars involves electron beam lithography and ion milling etching, that last process promote the re-deposition on side walls of ejected material from sample surface and shadow effect due to incidence angle of the beam. On the other hand, reactive ion etching (RIE) is anisotropic and the material ejected from surface sample react with gases present in chamber and is removed from it. In this work STNOs produced by TiW hard masks were characterized. Firstly, RIE etching conditions for TiW were established, allowing to have hard masks with good lateral profile and without irregularities in the reference stop layer for corrosion. The masks were then incorporated into the manufacturing process of STNOs and devices were produced with lateral dimension varying from 50 to 250 nm. The structural, static and dynamics properties were investigated for different sizes of the pillars. It was possible to obtain large values of tunnel magnetoresistance (TMR) higher than 100 %, with small resistance x area (RA) between 2.3 and 4 ?.?m². No re-deposition patterns in TMR vs. RA measurements or in STEM cross-section images were observed. A dependence of TMR and RA on the size of devices was observed and assumed to be related to defects in MgO crystalline structure, possibly due to boron or oxygen diffusion. Defects on crystal lattice could difficult the coherent tunneling of electrons, damaging the TMR and reducing RA. From HRTEM micrographs was possible to identified that MgO layer is crystalline, but was not to determine the interplanar distance and consequently the crystal planes. The circular geometries with 150 nm diameter and elliptical with 100 x 250 nm size, were those that present the best results of radio frequency (RF) emission signal, with a single well defined peak with a linewidth of 54 MHz. The emitted output power was about 23 nW for devices with high values of rupture breakdown voltage (> 0.8V). These results were obtained without using synthetic antiferromagnetic layer.

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Jasinski, Éverton Fabian. "Litografia de nanoesferas para obtenção de moldes secundários poliméricos eletrodepositados em sílicio." Florianópolis, SC, 2007. http://repositorio.ufsc.br/xmlui/handle/123456789/89697.

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Abstract:

Dissertação (mestrado) - Universidade Federal de Santa Catarina, Centro de Ciências Físicas e Matemáticas, Programa de Pós-Graduação em Física, Florianópolis, 2007
Made available in DSpace on 2012-10-23T01:42:43Z (GMT). No. of bitstreams: 1 266788.pdf: 5769336 bytes, checksum: 71dfbf5b9adfae95758152e22dd7f3da (MD5)
Este trabalho introduz uma nova técnica de nanoestruturação de materiais baseado em litografia de nanoesferas, que permite a eletrodeposição, em silício, de redes ordenadas de esferas, usando moldes secundários de polipirrol. Embora a viabilidade da técnica já tivesse sido demonstrada para uso em substratos metálicos, foi necessário adaptá-la aos propósitos do grupo, que se utiliza de substratos semicondutores visando a caracterização das propriedades de transporte em nanoestruturas magnéticas. Foi desenvolvida uma metodologia original baseada em spin-coating com confinamento hidrofóbico, que garante a produção de máscaras coloidais de uma ou duas camadas, em grandes áreas e com espessura homogênea. Desenvolveu-se, também, um método de monitoramento da qualidade das máscaras produzidas, que pode ser realizado, in loco e rotineiramente, com o uso de um microscópio ótico. Demonstrou-se que a melhor rota de fabricação envolve o uso de substratos de silício tipo-n, sobre o qual constrói-se a rede de PPy/Cl por fotoeletrooxidação. Verificou-se que a eficiência do processo de polimerização gira em torno de 70% e que a matriz coloidal de poliestireno atua como catalisadora do processo de polimerização, induzindo um crescimento conformacional do pirrol sobre as esferas coloidais. Resultados preliminares de preenchimento do molde secundário por eletrodeposição de cobalto demonstram que esse método se aplica à fabricação de estruturas ordenadas metálicas em silício e sugerem estratégias de otimização do processo para trabalhos futuros.

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Pavani, Filho Aristides. "Estruturas eletricas para avaliação de parametros litograficos em um processo defabricação de circuitos integrados." [s.n.], 1990. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/259116.

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Abstract:

Orientadores: Furio Damiani, Curt Ego Hennies
Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica
Made available in DSpace on 2018-07-14T01:16:22Z (GMT). No. of bitstreams: 1 PavaniFilho_Aristides_M.pdf: 14207916 bytes, checksum: cab5d2cb9b178fff87610b099f513fb5 (MD5) Previous issue date: 1991
Resumo: Neste trabalho apresentamos um conjunto de estruturas elétricas de teste para avaliação de parâmetros litográficos para serem empregadas na avaliação de um processo industrial de fabricação de circuitos integrados. Três foram os parâmetros investigados. A largura de linha, O overlay e a densidade de defeitos. Os circuitos de teste foram produzidos em um fabricante de circuitos integrados no exterior como parte do Projeto Multiusuário PMUCMOS 4. coordenado pelo Centro Tecno1ógico para a Informática. Foram fabricados 50 circuitos de teste composto por 9 estruturas de teste, distribuídos em duas colunas de 26 circuitos, dos quais foram avaliados 20 circuitos por coluna. Os resultados obtidos nos permitiram: 1) Avaliar a precisão do método de medidas de parâmetros litografia através de estruturas elétricas de teste; 2) Avaliar a efetividade das estruturas propostas em revelar através dos parâmetros básicos de litografia, as estratégias empregadas pelo fabricante e os parâmetros do processo litográfico
Abstract: Not informed.
Mestrado
Mestre em Engenharia Elétrica

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Gutierrez, Rivera Luis Enrique. "Fabricação e caracterização de micropeneiras e peneiras submicrometricas." [s.n.], 2004. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/276913.

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Abstract:

Orientador: Lucila Helena Deliesposte Cescato
Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica Gleb Wataghin
Made available in DSpace on 2018-08-03T23:11:18Z (GMT). No. of bitstreams: 1 GutierrezRivera_LuisEnrique_M.pdf: 5173621 bytes, checksum: 99773189b3fa1a4e02692b3a3be45046 (MD5) Previous issue date: 2004
Resumo:Micropeneiras são dispositivos de microfiltração que se diferenciam das membranas filtrantes por apresentarem uma distribuição homogênea de poros e baixa rugosidade na sua superfície. Estas características as tornam uma melhor alternativa para processos de separação que requerem alta seletividade na indústria química, de fármacos e de biotecnologia. Neste trabalho desenvolvemos um processo de fabricação de Micropeneiras e Peneiras Submicrométricas utilizando a associação de técnicas de litografia convencional, litografia holográfica e eletroformação. As Micropeneiras eletroformadas em Níquel foram caracterizadas num sistema de microfiltração utilizando fluxo tangencial. Foram estudadas a seletividade da filtração e a resistência ao fluxo para peneiras com mesma área furada e diferentes geometrias de orifícios. Para as peneiras submicrométricas foi possível apenas realizar uma análise da capacidade de retenção de partículas e da pressão de ruptura. Os resultados das medidas de filtração apresentaram uma excelente seletividade na separação de partículas por tamanho, que demonstra a homogeneidade das dimensões dos orifícios das peneiras, fabricadas com esta técnica. O estudo experimental da resistência ao fluxo demonstrou que os modelos atualmente existentes (elaborados para a condição de fluxo frontal) não são adequados para descrever o comportamento das peneiras em regime de fluxo tangencial
Abstract:Microsieves are filtration devices that present a homogeneous distribution of pores, as well as smoother surface in comparison with filter membranes. Because of these characteristics they represent a better choice in processes of separation in the chemistry and biotechnology industries that require high selectivity. In this work we develop a process for fabrication of Microsieves and Submicrosieves. The process associates conventional litography, holographic litography and electroforming techniques. The fabricated Nickel Microsieves were characterized in a cross filtration system. The selectivity and the flow resistance of the microsieves, with the same perforated area and different geometries of the orifices, were analyzed. For the submicrosieves it was possible only to check the capability of retention of particles and the pressure of rupture. The results of the filtration measurements show high selectivity of particles by size, demonstrating the good homogeneity in the orifices of the microsieves. The analysis of the experimental results of the flow resistance measurements showed that the existing models are not appropriate for describing the behavior of microsieve in cross flow
Mestrado
Física
Mestre em Física

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Ström, Simon, and Ali Qhorbani. "Automation of the design process of printed circuit boards : Determining minimum distance required by auto-routing software." Thesis, KTH, Skolan för elektroteknik och datavetenskap (EECS), 2018. http://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:kth:diva-251925.

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Abstract:

This thesis project aims to create an overview of new technologies in printed circuit board manufacturing which when automated could become part of an Industry 4.0 production flow. Potential design limits imposed by new technologies are then applied in the creation process of a minimum distance estimation function. The intended purpose of this function is to correctly estimate the minimum distance required for the auto-routing software FreeRouting to be able to successfully route between two components. This is achieved by using a brute-force attack to progressively decrease the distance between components using a bisectional approach to find the minimum distance at which the auto-routing software can still successfully route for a specific design. Using the results from this brute-force attack a couple of linear functions based on different base designs are created and then used to implement a minimum distance function. The minimum distance estimation function is then intended to be used to implement limits to how close components can be placed to each other in a printed circuit board design tool which purpose is to enable people with lesser knowledge of printed circuit boards to still be able to realize their design ideas.
Detta examensarbete ämnar skapa en överblick av nya tekniker inom mönsterkorts-tillverkning som när de automatiseras skulle kunna bli en del av ett Industri 4.0 produktionsflöde. Eventuella designbegränsningar som uppstår till följd av dessa tekniker kommer sedan appliceras i skapningsprocessen av en minsta avståndsfunktion. Syftet med denna funktion är att korrekt uppskatta det minimala avståndet som krävs för att auto-routing mjukvaran FreeRouting ska kunna dra ledningar mellan två komponenter. Detta görs genom en brute-force attackvinkel där avståndet mellan komponenter fortsätter minskas med bisektionsmetoden tills ett minsta avstånd hittats där auto-routing mjukvaran fortfarande kan dra ledningar för en specifik design. Genom användande av resultaten från denna brute-force attack skapas sedan ett par linjära funktioner baserade på olika bas-designer och dessa används sedan för att implementera minsta avståndsfunktionen. Denna minsta avståndet-funktion är sedan ämnad att implementeras som begränsningar för hur nära komponenter kan placeras varandra i ett program för design av mönsterkort vars syfte är att möjliggöra folk utan kunskaper inom mönsterkortsdesign att ändå kunna realisera sina designidéer.

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Carvalho, Claudio Roberto Cutrim 1971. "Microfabricação de arcabouços tridimensionais para engenharia de tecidos pelo metodo de litografia macia." [s.n.], 2003. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/265041.

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Abstract:

Orientador: Cecilia Amelia de Carvalho Zavaglia
Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia mecanica
Made available in DSpace on 2018-08-04T05:13:28Z (GMT). No. of bitstreams: 1 Carvalho_ClaudioRobertoCutrim_M.pdf: 4282761 bytes, checksum: ab691d570344037977f1501d694b7a37 (MD5) Previous issue date: 2003
Resumo: Litografia macia tem sido usado recentemente para criar micro e nano estruturas bi e tridimensionais para cultura de células e engenharia de tecidos usando PDMS (poli dimetil-siloxano). PDMS é um elastômero biocompatíveí, opticamente transparente, não tóxica, e barato que pode ser moldado com alta fidelidade. Fabricou-se um arranjo de estruturas quadradas com espaçamento regular e secção transversal variando 100µmx100 µm, 150µmx 150µm, 200µmx200µm, 50µmx250µm com 50 µm de altura e uma linha separando cada uma dessas estruturas de 30µm. A proposta deste arranjo foi implementar a técnica de litografia macia para construção de dispositivos para aplicação em engenharia de tecidos, tais como: estudar o comportamento celular, adesão e espalhamento celular. Fabricaram-se também membranas porosas com diâmetro de 100 µm com altura de 35µm e espaçamento entre os poros de 35um e alguns canais microfluídicos. Estes arcabouços tridimensionais fornecerão o suporte físico para a fixação celular e reconstrução tecidual
Abstract: Soft lithography and microtransfer techniques have been used to create two and three dimensional micro and nanostructures for cells culture and tissue engineering, using PDMS (polydimethylsiloxane). PDMS is a biocompatible elastomer, optically transparent, non-toxic and inexpensive that can be molded with high fidelity. We fabricated three dimensional PDMS structures with regular spaced square arrays with l00µm, 150µm, 200µm and 250µm a side and 30µm line width and 50µ hight. The purpose of these structures is implematation of lithography soft for biomedical research such: study the behavior, adhesion and spreading of the cells.We also fabricated PDMS porous membrane with diameter of 100µm, 30µm height, spaced by 35µm and some microfluidic channels. These three dimensional scaffolds will provide the physical support to cells attachment and tissue reconstruction
Mestrado
Materiais e Processos de Fabricação
Mestre em Engenharia Mecânica

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Fernández, Siles Pablo Roberto. "Litografia por oxidação anódica seletiva de nanodispositivos através de microscopia de força atômica." [s.n.], 2006. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/277825.

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Abstract:

Orientadores: Gilberto Medeiros Ribeiro, Jose A. Brum
Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica Gleb Wataghin
Made available in DSpace on 2018-08-11T11:03:18Z (GMT). No. of bitstreams: 1 FernandezSiles_PabloRoberto_M.pdf: 9728988 bytes, checksum: 0fd358f0e4752f26b8ebfa6e4a5e3c5a (MD5) Previous issue date: 2006
Resumo: A Oxidação anódica local em substratos tanto semicondutores quanto metálicos através do Microscópio de Força Atômica tem surgido ao longo dos últimos anos como uma das técnicas de litografia mais confiáveis e versáteis para a fabricação de dispositivos e estruturas em escala nanométrica. Embora aspectos fundamentais, como a dinâmica envolvida no processo de oxidação anódica em relação a diferentes parâmetros de controle, é ainda objeto de estudo. Pretende-se neste trabalho realizar uma caracterização de diferentes processos de litografia por AFM, com o objetivo de obter um melhor entendimento da cinética envolvida na oxidação assim como também determinar e quantificar a influência dos principais parâmetros de controle envolvidos no processo. Através de um processo de oxidação dinâmico, onde a ponta do microscópio encontra-se em movimento sobre a superfície da amostra durante o processo de oxidação, são determinadas as taxas de formação das estruturas de óxido em relação a parâmetros como a tensão aplicada na interface ponta-amostra, a umidade e a velocidade de varredura do microscópio. Finalmente, implementa-se a técnica para a fabricação de dispositivos em pequena escala. A construção de dispositivos passa por duas etapas de litografia, uma de ajuste grosso de padrões microscópicos, uma de ajuste fino onde linhas e demais geometrias são gravadas em uma escala de dezenas de nanômetros. O objetivo neste trabalho é de se fazer ambos os passos, sendo que a litografia fina será realizada por litografia por oxidação anódica local através do microscópio de força atômica. Para a definição das estruturas em escala nanométrica é proposta aqui, uma estrutura de duas camadas (PMMA-Ge), utilizada como resist. O sistema a ser estudado centra-se primeiramente nos pontos quânticos auto-formados (QDs). Pretende-se, em se integrando esta litografia e o crescimento de QDs, reunir o melhor de cada um destes processos, a precisão da litografia por oxidação anódica local e as propriedades eletrônicas limpas dos QDs, de maneira a estudar as propriedades eletrônicas de um pequeno número de QDs isolados
Abstract: Local Anodic Oxidation of conducting and non-conducting substrates by means of Atomic Force Microscopy has raised in the last years as a solid and versatile lithographic technique for fabrication of devices and structures in a nanometric scale. Although, fundamental aspects, as the kinetics involved during the oxidation, are still under study. The objective of this work is to develop a characterization process of this AFM lithographic technique aiming not only to obtain a better understanding of the kinetics involved in the oxidation process but also be able to determine and quantify the influence of the main processing parameters that control the anodic oxidation reaction in the probe-sample interface. By means of a dynamic oxidation process, where the AFM probe is scanning the sample's surface during the oxidation process, we determine the volumetric growth rates of the oxide patterns as a function of the applied voltage in the probe-sample interface, the humidity and the scanning rate of the microscope. As an example of the potential of this technique, it is implemented for the fabrication of devices in a sub-micrometric scale.The fabrication of nano-scaled devices is developed by means of two stages of lithography, first a course adjustment of microscopic patterns and then a fine adjustment where lines and other geometries are patterned in a scale of dezens of nanometers. The goal of this work is to develop both processes. Fine lithography will be done by means of local anodic oxidation (LAO oxidation) with an Atomic Force Microscopy (AFM). A two-layer (PMMA-Ge) resist structure is proposed here for de½nition of structures in a nanometric scale. The system to be studied is essentially based on the self-assembled quantum dots (QDs). The idea of the implementation of LAO oxidation and growth of QDs is to obtain the best performance of each of these processes, the high precision of local anodic lithography and the clean electronic properties of the QDs, aiming to study electronic properties of a small number of isolated QDs
Mestrado
Física da Matéria Condensada
Mestre em Física

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Spada, Edna Regina. "Eletrodeposição de redes porosas ordenadas de cobalto e NiFe via litografia de nanoesferas." Florianopolis, SC, 2007. http://repositorio.ufsc.br/xmlui/handle/123456789/90319.

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Abstract:

Dissertação (mestrado) - Universidade Federal de Santa Catarina, Centro de Ciências Físicas e Matemáticas. Programa de Pós-Graduação em Física.
Made available in DSpace on 2012-10-23T08:33:19Z (GMT). No. of bitstreams: 1 267164.pdf: 8400261 bytes, checksum: 68942b39126c15aa0036d598bfe0d318 (MD5)
Este trabalho visou à fabricação de nanoestruturas ordenadas magnéticas, e a caracterização de suas propriedades magnetorresistivas. Redes porosas ordenadas de cobalto e de NiFe foram fabricadas por eletrodeposição associada ao uso de litografia de nanoesferas, diretamente em substratos de silício, sem o uso de camada semente. Para tanto, máscaras coloidais bidimensionais foram produzidas por spin-coating, com homogeneidade de espessura em áreas da ordem de cm2, usando esferas monodispersas de poliestireno com diâmetros de 165, 496 e 600 nm. A etapa de fabricação das nanoestruturas foi precedida de uma caracterização estrutural e magnética de filmes finos compactos de cobalto e de FeNi eletrodepositados.

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Cunha, Fábio Emanuel Silva. "Implementação de um processo de melhoria contínua na área da litografia da Colep." Master's thesis, Universidade de Aveiro, 2017. http://hdl.handle.net/10773/22860.

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Abstract:

Mestrado em Engenharia e Gestão Industrial
A competitividade no mercado atual é cada vez maior e a preocupação por parte das empresas em satisfazer as necessidades dos seus clientes aumenta de forma exponencial, obrigando-as a traçar estratégias que primam pela diferença, que sejam incrementais de forma a destacarem-se da concorrência. Assim surge o modelo de melhoria contínua da Colep, que tem como intuito o alinhamento de toda a organização com a consecução dos objetivos estratégicos e a responsabilização de todos os colaboradores pela melhoria incremental ou disruptiva, para que a organização melhore de dia para dia, todos os dias. O projeto apresentado surge então em torno do modelo de melhoria contínua, CPBS – Colep Packaging Business System, e tem como objetivo a implementação e a exploração de dois dos seus pilares, o CPBS Diário e o CPBS Projeto. O CPBS Diário está dividido em quatro níveis: organização da equipa, organização do espaço de trabalho, normalização e melhoria dos processos. O CPBS Projeto tem como base a gestão e desenvolvimento de um projeto que transforme para melhor os processos e os equipamentos O fator diferenciador deste modelo é que este baseia-se nas pessoas da organização e o sucesso do mesmo depende do seu envolvimento. Contudo, como se trata de uma criação de cultura de melhoria, de mudança de hábitos e formas de trabalhar, deparou-se com bastante resistência por parte das pessoas em mudar. No CPBS Diário teve como intuito a criação da cultura de melhoria de uma forma estruturada, isto é, divido em quatro fases, utilizando um leque de ferramentas como apoio aos mesmos. No âmbito CPBS projeto, foi desenvolvido um projeto de eficiência de uma linha, no qual se analisou a situação atual, definiu a meta a alcançar, analisaram-se as causas para os problemas e os desvios e a partir daí definiuse um conjunto de oportunidades de melhoria. De seguida implementaram-se ações de forma a aumentar a eficiência do projeto em causa. No final os resultados revelaram-se positivos, quer a nível do CPBS Diário com a implementação de três níveis dos quatro existentes do modelo, quer do CPBS Projeto com um ganho no OEE de 3,06 %, no entanto é necessário continuar a exploração dos mesmos de forma a tentar obter ganhos maiores.
The level of competitiveness in the current market is increasing exponentially as is the companies’ concern to meet their costumers’ needs, forcing them to draw up strategies that excel for their difference, that are incremental in order to stand out from the competition. Thus arises Colep’s continuous improvement model, which aims to align the entire organization with its strategic goals and to hold all employees accountable for the incremental or disruptive improvements, so that the organization improves day by day, everyday. This project revolves around the continuous improvement model, CPBS – Colep Packaging Business System, and its core goal is to implement and exploit two of its pillars, CPBS Daily and CPBS Project. CPBS Daily is divided in four levels: team organization, work space organization, standardization and process improvement. The CPBS Project consists in managing and developing a project that will transform processes and equipment for the better. This model’s differentiating factor is that it is based on the people of the organization and, its success depends on the people’s involvement. However, since this is about the implementation of an improvement culture, a change of habits and ways of working, there has been a lot of resistance to change on people’s behalf. With the follow-up, it was possible to establish the basis for the creation of this culture. At CPBS Daily, the aim is to create a culture of improvement in a structured way, this meaning, divide into four phases, using a range of tools to support them. Under the CPBS Project, a one-line efficiency project was developed, in which the current situation was analyzed, the goals were set, the causes for the problems and deviations were measured, and from that, a set of improvement opportunities was established. Actions were subsequently implemented in order to increase the efficiency of the project. In the end, the results were positive, both in CPBS Daily, with the implementation of three of the four level’s, and in CPBS Project with the increase on the OEE of 3, 06 %, however, it is necessary to continue to explore them in order to obtain even more appealing results.

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Saboia, André Menezes. "O vulcanismo em Monte do Carmo e litoestratigrafia do grupo Natividade, estado de Tocantins." reponame:Repositório Institucional da UnB, 2009. http://repositorio.unb.br/handle/10482/8052.

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Abstract:

Dissertação (mestrado)–Universidade de Brasília, Instituto de Geociências, 2009.
Submitted by Patrícia Nunes da Silva (patricia@bce.unb.br) on 2011-05-26T19:57:15Z No. of bitstreams: 1 2009_AndreMenezesSaboia.pdf: 23356274 bytes, checksum: 574c115a796dc9ed31c70f7765787ffa (MD5)
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Esta dissertação apresenta a litoestratigrafia do grupo Natividade na Região de Natividade- Pindorama, e dados geológicos, geocronológicos (U-Pb), isotópicos (Sm-Nd) e geoquímicos do vulcanismo na região Monte do Carmo, ambas regiões situadas no Estado de Tocantins. O Grupo Natividade é representado por uma seqüência metassedimentar localizada no segmento norte da Faixa de Dobramentos Brasília, na região de Natividade-Pindorama. O referido grupo tem sido correlacionado ao Grupo Araí, inserindo-se no desenvolvimento do rifteamento na transição do Paleo- Mesoproterozóico. Os trabalhos de campo efetuados na região possibilitaram o reconhecimento de oito unidades litoestratigráficas, que recobrem em discordância erosiva e angular os gnaisses tonalíticos e granitos paleoproterozóicos relacionados ao Ciclo Transamazônico. As principais litologias representativas desta sucessão são, da base para o topo: metadolomitos; quartzitos e metaconglomerados intraformacionais; metadolomitos e metacalcários; metassiltitos com lentes de metadolomitos e níveis de quartzitos; quartzitos; metassiltitos com lentes de metadolomitos; quartzitos intercalados com metassiltitos; e metassiltitos. O ambiente de sedimentação caracteriza deposição de plataforma marinha, afastando a hipótese da presença de uma fase rifte no início da formação do Grupo Natividade na região, sendo mais condizente com a fase pós-rifte de subsidência térmica, que se desenvolve na porção superior do Grupo Araí, na área situada ao sul e sudoeste de Natividade. Todas as unidades do Grupo Natividade foram fortemente afetadas pela deformação induzida pelo Sistema Transbrasiliano de falhamentos transcorrentes dextrais, orientados segundo a direção NNE, desenvolvido no final do Ciclo Brasiliano. O conjunto é recoberto discordantemente pelos sedimentos horizontais paleozóicos da Bacia do Parnaíba (Grupo Serra Grande e Formação Pimenteiras). Na região de Monte do Carmo (TO) são reconhecidos dois episódios de vulcanismo. Um é datado do Paleoproterozóico (~2,1 Ga) e denominado de Suíte Vulcânica Santa Rosa, que representa vulcanismo ácido correlacionado ao Granito do Carmo da Suíte Intrusiva Ipueiras. Outro é da Formação Monte do Carmo que constitui uma seqüência vulcano-sedimentar neoproterozóica. Para a Suíte Vulcânica Santa Rosa e Granito do Carmo obtiveram-se idades U-Pb de 2086 ± 10 e 2048 ± 13 Ma, respectivamente. Idades modelo TDM entre 2,11 e 2,17 Ga e valores de εNd (2,08 Ga) entre +2,3 e +2,9 são relativos à Suíte Vulcânica Santa Rosa. O Granito do Carmo possui idade modelo TDM de 2,13 Ga e valor de εNd (2,04 Ga) de +2,05. Os resultados sugerem que o magmatismo responsável pela geração destas duas unidades relaciona-se a fusão de uma fonte mantélica durante o ciclo Transamazônico. O magmatismo da Suíte Vulcânica Santa Rosa possui composição dacítica a riolítica e caráter calcialcalino de arco vulcânico maduro. O padrão de elementos traços e ETR é semelhante ao do Granito do Carmo, o que favorece a hipótese destas unidades constituírem uma associação vulcano-plutônica cogenética. A Formação Monte do Carmo apresenta idades modelo TDM variando entre 0,86 e 1,91 Ga. Os valores de idade modelo TDM de ~0,8 Ga das rochas máficas indica que a formação é do Neoproterozóico. Quimicamente os basaltos alcalinos da Formação Monte do Carmo sugerem magmatismo intraplaca continental relacionado à implantação de um gráben extensional no final do ciclo Brasiliano. ______________________________________________________________________________ ABSTRACT
This dissertation presents the lithostratigraphic of the Natividade Group in the Natividade- Pindorama region, and geological, geochronological (U-Pb), isotopic (Sm-Nd) and geochesmetry data of the volcanism in the Monte do Carmo region, both regions are situated in the Tocantins state. The Natividade Group represents a metassedimentary sequence in the north segment of Brazilian Fold Belt, in the region of Natividade-Pindorama. That Group has been correlated to the Araí Group, associated to the rifting event developed in the transition of the Paleo-Mesoproterozoic. The field work allowed the recognition of eight lithostratigraphic units overlaying by angular unconformity the gneiss and granites related to the Transamazonian Cycle. The main rock types of the succession are represented from base to top by: metadolomites; quartzites and intraformational metaconglomerates; metadolomites and metalimestones; metasiltstones with lenses of metadolomites and levels of quartzites; quartzites; metasiltstones with lenses of metadolomites; quartzites intercalated with metasiltstones; and metasiltstones. The sedimentary environment characterizes a deposition on a marine platform. These observations do not agree with the hypothesis of a rift phase at the beginning of the Natividade sedimentation in the region, but they are more consistent with the thermal subsidence that occurs in the upper part of the Araí Group at south and southwest of Natividade. All the units of the Natividade Group have been affected by the strong deformation of the Transbrasiliano System, characterized by regional transcurrent dextral faults oriented along a north-northeast direction, and developed at the end of the Brasiliano Cycle. The Precambrian lithologies are unconformably recovered by the horizontal Paleozoic sediments of the Parnaíba basin. In the Monte do Carmo region (TO) two episodes of volcanism are recognized. One is Paleoproterozoic (~2,1 Ga) in age and called Santa Rosa Volcanic Suite that represents acid volcanism correlated to the Do Carmo Granite of Intrusive Ipueiras Suite. The other one is related to the Monte do Carmo Formation that constitutes a Neoproterozoic volcano-sedimentary sequence. The Santa Rosa Volcanic Suite and Do Carmo Granite yield U-Pb ages of 2086 ± 10 and 2048 ± 13 Ma respectively. The Santa Rosa Volcanic Suite gives TDM model ages of ca. 2,11-2,17 Ga and εNd (2,08 Ga) values ranging from +2,3 to +2,9 Ga. The Do Carmo Granite has TDM model age of 2,1 Ga and εNd (2,04 Ga) value of + 2,05 Ga. These results suggest that magmatic events of this two units are related to derivation of mantle sources. The magmatism of Santa Rosa Volcanic Suite is dacitic to riolitic and shows affinity of calc-alkaline mature volcanic arc. The ETR and trace elements patterns are similar to the Do Carmo Granite wich implies a cogenetic volcanic-plutonic association. TDM model ages of The Monte do Carmo Formation vary between 0,86 and 1,91 Ga. The TDM model ages of ca. 0,8 Ga of mafic rocks indicate that the formation is Neoproterozoic in age. Geochemical signatures of the alkaline basalts suggest a within-plate setting related to an extensional graben in the final stage of Brasiliano collisional event.

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Rocha, Alexsandro Silvestre da. "Magnetotransporte em sistemas nanoestruturados de Co/Cu." Florianópolis, SC, 2006. http://repositorio.ufsc.br/xmlui/handle/123456789/89530.

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Abstract:

Tese (doutorado) - Universidade Federal de Santa Catarina, Centro de Ciências Físicas e Matemáticas. Programa de Pós-Graduação em Física.
Made available in DSpace on 2012-10-22T22:39:24Z (GMT). No. of bitstreams: 1 266729.pdf: 5006152 bytes, checksum: 58db8c50fcedd27d96ab88bf92c3705f (MD5)
As propriedades magnetorresistivas de nanoestruturas de Co/Cu eletrodepositadas é investigada para diferentes geometrias. Na primeira parte, multicamadas de Co/Cu estruturadas na forma de válvulas de spin são investigadas em termos da magnetorresistência gigante (GMR). Apresenta-se um processo de otimização do efeito GMR em função do potencial de deposição, espessura das camadas e uso de surfactantes. Na segunda parte, uma técnica de nanoestruturação baseada em litografia de nanoesferas é apresentada e usada na fabricação de multicamadas porosas lamelares de Co/Cu. Suas propriedades magnéticas e de magnetotransporte são apresentadas e interpretadas qualitativamente.

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FRANÇA, Claudio Abreu de. "Preparação e Caracterização de Arranjos Magnéticos Extensos Obtidos por Litografia Óptica de Escrita Direta." Universidade Federal de Pernambuco, 2013. https://repositorio.ufpe.br/handle/123456789/12084.

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Abstract:

Submitted by Etelvina Domingos (etelvina.domingos@ufpe.br) on 2015-03-11T19:31:40Z No. of bitstreams: 2 Dissertação Claudio Abreu de França.pdf: 3819638 bytes, checksum: 413f5bcc9410ea751cef2da4d08b9966 (MD5) license_rdf: 1232 bytes, checksum: 66e71c371cc565284e70f40736c94386 (MD5)
Made available in DSpace on 2015-03-11T19:31:40Z (GMT). No. of bitstreams: 2 Dissertação Claudio Abreu de França.pdf: 3819638 bytes, checksum: 413f5bcc9410ea751cef2da4d08b9966 (MD5) license_rdf: 1232 bytes, checksum: 66e71c371cc565284e70f40736c94386 (MD5) Previous issue date: 2013
CNPq
Este trabalho teve como principais objetivos a exploração e o controle da técnica de Litografia Óptica de Escrita Direta na preparação de arranjos magnéticos extensos e de boa qualidade. Foram preparadas microestruturas à base de Permalloy e realizamos a caracterização morfologia e magnética desses sistemas. Os objetos obtidos pela técnica de microlitografia foram círculos e elipsóides cujas dimensões se restringiram a alguns micrômetros e foram dispostos em uma matriz quadrada contendo milhares destes elementos. Além de utilizar o DWL66 da HEIDELBERG instruments para a fabricação das máscaras de fotoresina, também foi utilizado o plasma etching para a limpeza do substrato antes e depois do processo de escrita. A deposição do material magnético foi utilizando magnetron sputtering DC. Ainda na preparação, foi confeccionada uma câmara para iluminação das amostras, com o intuito de aperfeiçoar o processo de sensibilização da fotoresina e assim minimizar a presença de resíduos decorrentes da etapa de remoção pelo revelador. Para a caracterização estrutural das amostras foram feitas análises por microscopia óptica, microscopia de Força Atômica e microscopia eletrônica de varredura. As imagens obtidas por essas técnicas revelaram arranjos extensos de boa qualidade e estruturas cujas dimensões e formas obedeciam à regularidade desejada, indicando a aplicabilidade da técnica e a confiabilidade em reproduzir estruturas. No que diz respeito à caracterização magnética, utilizou-se um Magnetômetro de Amostra Vibrante para obtenção de curvas de magnetização em função do campo aplicado.

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Corbella, Domènec 1946. "Anàlisi del sistema idiolectal de la sèrie Barcelona de Joan Miró (morfogènia i composició)." Doctoral thesis, Universitat de Barcelona, 1986. http://hdl.handle.net/10803/586008.

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Abstract:

El títol que hem seleccionat com a sinopsi d'aquesta investigació és: "Anàlisi del Sistema idiolectal de la Sèrie Barcelona de Joan Miró (Morfogènia i composició)". Amb ell volem sintetitzar els conceptes més importants del treball que hem desenvolupat en els diferents capítols. Anàlisi perquè hem examinat totes les parts constituents, separadament i globalment del sistema, entenent-lo aquest com un conjunt de parts· o tot orgànic, organitzades segons unes lleis, regles o un mètode. El nostre treball s'ha centrat en ANALITZAR, CLASSIFICAR I EXPLICAR les estratègies compositives del sistema gràfic de Joan Miró. El concepte idiolecte implica un caràcter o una manera pròpia de dir o expressar les coses o les idees. Umberto Eco el defineix com: "el codi privat i individual del qui parla" En aquesta investigació el subjecte que parla és en Joan Miró, i el suport objecte de la investigació on desenvolupa el codi, és la Sèrie Barcelona, nom que pren el conjunt de les cinquanta litografies en blanc i negre, realitzades a l'any 1939. La morfogènia es refereix a l'estudi de l'oríigen de les formes i el seu desenvolupament estructural, així com també, la producció i l'evolució dels caràcters morfològics. I amb la composició ressaltem cadascun dels factors que contribueixen a la coordinació i disposició de les diverses parts que abracen la totalitat, segons una idea directriu, obtenint-se uns resultats estètics i com a conseqüència uns efectes comunicatius.

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Longaresi, Rafael Henriques. "Formação de estruturas submicrométricas auto-organizadas de copolímeros sobre substratos sólidos e aplicações em litografia." Universidade de São Paulo, 2008. http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/88/88131/tde-04042008-105854/.

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Abstract:

Processos de nanofabricação baseado na auto-montagem de estruturas de copolímeros em bloco tem se tornado importantes ferramentas na nanotecnologia devido a formação de estruturas altamente regulares e ordenadas. Nesse trabalho, apresentaremos resultados experimentais de estruturas sub-micrométricas do copolímero tribloco poliestireno-b-poli(etileno-co-butileno)-b-poliestireno (SEBS), com 15:70:15 de taxa de peso com Mw = 112.000 gmol-1e Mw/Mn = 1,15, que são formadas durante processos de evaporação de sua solução seguidas de dewetting. Foi observado nanoestruturas ordenadas na forma de tiras e pontos, fortemente dependentes da concentração polimérica da solução. Todo o processo engloba uma seqüência de eventos, envolvendo ondulações devido a fluxos termocapilares, dewetting e instabilidade de Rayleigh, assim como a contribuição da segregação de fase entre os componentes do copolímero. Imagens de AFM claramente mostram que a instabilidades das nanoestruturas formadas por tiras decaem em pontos. Também, o fenômeno da separação de microfase do copolímero em bloco desempenha um processo importante, estabelecendo a espessura da estrutura final. Modelos sub-micrométricos obtidos em silicone a partir das estruturas de SEBS mostram que esta é uma técnica promissora de litografia para a nanoeletrônica.
Nanofabrication processes based on self-assembling block copolymers are coming important tools in nanotechnology owing to its properties that provide high regular and ordered patterns. Here, we report experimental results, and a theoretical discussion, of self-organized submicrometric structures of a poly(styrene)-b-poly(ethene-co-butene-1)-b-poly(styrene) triblock copolymer (SEBS) - 15:70:15 weight ratio with Mw= 112,000 gmol-1 and Mw/Mn = 1.15 - which are formed during evaporation of its solution followed by dewetting process. We observed regular nanostructures with long-range order in the form of periodic ribbons and dots, which strongly depend on the critical polymer concentrations. The whole process comprised a sequence of events, involving undulations due to thermocapillary flow, dewetting and Rayleigh instability, as well as the contribution of phase segregation among the components of the copolymer. After the complete drying, two different patterns were observed: the parallel oriented ribbons and a hexagonal array of dots. AFM pictures clearly show that the instability of the ribbons decays into dots. Also, the microphase separation phenomenon of the block copolymer played an important role in this process, establishing the thickness of the final nanostructures. Submicrometric templates in silicone obtained from such structures shows that this is promising lithographic technique for nanoelectronics.

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Basson, Eunice Lenore. "Die lewe en werk van Bettie Cilliers-Barnard met besondere verwysing na haar steendrukke (litografie)." Diss., University of Pretoria, 1985. http://hdl.handle.net/2263/59090.

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Abstract:

Uiteraard moes 'n studie van hierdie omvang beperk word tot 'n breedvoerige verslag van die kunstenares se lewe waaruit enkele aspekte uitgelig is. Die volgende punte word deur middel van die verhandeling bekendgestel: 'n lewensoorsig tot 1983; die kunstenares se stylontwikkeling aan die hand van sekere invloede en fases waardeur haar skeppende werk ontwikkel het; haar bydrae tot en bevordering van die kunslewe in Suid-Afrika. Dit dien ook om die een enkele aspek van haar oeuvre, naamlik steendruk of litografie, van naderby te bekyk jius omdat dit 'n belangrike rol gespeel het in die totale opbrengs van haar skeppende werk.
Dissertation (MA)--University of Pretoria, 1985.
Visual Arts
MA
Unrestricted

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Spada, Edna Regina. "Viabilidade do uso de redes porosas ordenadas magnéticas em microdispositivos magnetocalóricos." Florianópolis, SC, 2011. http://repositorio.ufsc.br/xmlui/handle/123456789/95761.

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Abstract:

Tese (doutorado) - Universidade Federal de Santa Catarina, Centro de Ciências Físicas e Matemáticas, Programa de Pós-Graduação em Física, Florianópolis, 2011
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A crescente miniaturização de dispositivos eletro-eletrônicos gera uma demanda por dispositivos microrrefrigeradores de alto desempenho a fim de evitar perda de desempenho de componentes eletrônicos devido ao aumento excessivo de sua temperatura. Propomos o desenvolvimento de um microdispositivo refrigerador magnetocalórico, baseados na convicção de que seja esta a aplicação mais nobre e adequada da tecnologia magnetocalórica, uma vez que as maiores dificuldades de sua implantação em larga escala deixam simplesmente de existir: o pequeno volume do dispositivo exige quantidades irrisórias de material magnetocalórico, que são facilmente submetidas a campos de 1-2 Teslas com o uso de imãs permanentes em contato próximo. A realização do dispositivo baseia-se no uso da litografia de nanoesferas associada à eletrodeposição para gerar matrizes magnéticas porosas que formarão o corpo de um regenerador magnético ativo. Na primeira parte do trabalho estudamos, a partir de redes porosas de cobalto e permalloy, a anisotropia induzida pela nanoestruturação, sua evolução com a espessura do depósito e como a mesma afeta propriedades magnéticas extrínsecas do material, tais como campo coercivo e magnetização remanente, que estão relacionadas com perdas histeréticas que devem ser minimizadas, a fim de que a proposta seja viável. Verificamos que as perdas histeréticas diminuem com o aumento da periodicidade da rede e a espessura do depósito poroso. Ademais, verificamos que a nanestruturação reduz em 40% a energia necessária para magnetizar a rede porosa na direção perpendicular ao plano em relação a filmes compactos de mesma espessura. Portanto a geometria proposta se apresenta como uma alternativa viável, que pode ser inclusive estendida a dispositivos macroscópicos. Na segunda parte do trabalho procedemos às primeiras tentativas de eletrodeposição de Gd a partir de eletrólitos orgânicos. Os resultados mostram que a eletrodeposição de Gd é inibida pela presença de água residual presente no eletrólito. A utilização de câmaras secas anaeróbicas será essencial para a continuidade desta frente de investigação no futuro.

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Barbosa, Luiz Gustavo de Moura da Silva. "Processamento de moldes micro- e nanoestruturados para o crescimento de nanofios por meio de litografia de varredura por sonda." Pontifícia Universidade Católica do Rio Grande do Sul, 2009. http://hdl.handle.net/10923/3296.

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Abstract:

Made available in DSpace on 2013-08-07T18:54:20Z (GMT). No. of bitstreams: 1 000417720-Texto+Completo-0.pdf: 1390502 bytes, checksum: 24dc3fc58b5b1a3eea87451e0318eafe (MD5) Previous issue date: 2009
In this work, were established reproducible routines for the processing of regular patterns in sub micrometric scale in polymers thin films by used of the scanning probe lithography (one mode of operation of a scanning probe microscope - SPM). Were used silicon probes to perform the matrices of holes in dynamic plowing mode. After, the tip was changed for the visualization of the matrices in tapping mode. The routines of patterning were applied in PMMA thin films of different molecular weights and thicknesses, deposited by spin coating, optimizing these two parameters for the formation of masks in the form of grating of holes. The diameter and the depth of the holes and also the height and width of the deformations to its outskirts were investigated in function of the force interaction and the time action of the probe, well as of the thickness of the films and molecular weight of polymers. A time optimized the basic procedures, the routines developed were applied in the processing of molds for the growth of regular arrangements of ZnO nanowires.
Neste trabalho, foram estabelecidas rotinas reprodutíveis para o processamento de padrões regulares em escala submicrométrica em filmes finos poliméricos utilizando a litografia de varredura por sonda (um dos modos de operação de um microscópio de varredura por sonda – SPM). Foram utilizadas sondas de silício para realizar as matrizes de furos no modo de aragem dinâmica (dynamic plowing). Após, a ponta foi trocada para a visualização das matrizes no modo de contato intermitente. As rotinas de padronização foram aplicadas em filmes finos de PMMA de diferentes pesos moleculares e espessuras, depositados por spin coating, otimizando estes dois parâmetros para a formação de máscaras na forma de grade de furos. O diâmetro e a profundidade dos furos e também a altura e largura das deformações aos seus arredores foram investigados em função da força de interação e do tempo de ação da sonda, bem como da espessura dos filmes e peso molecular dos polímeros. Uma vez otimizados os procedimentos básicos, as rotinas desenvolvidas foram aplicadas no processamento de moldes para o crescimento de arranjos regulares de nanofios de ZnO.

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Barros, Mucio Leite de. "Estudo, desenvolvimento e obtenção de peças plasticas tridimensionais atraves da litografia termica, utilizando laser de CO2." [s.n.], 1993. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/263452.

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Orientadores: Marco A. F. Scarparo, Edgardo Gerck
Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Mecanica
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Resumo: Este trabalho de tese apresenta uma nova técnica denominada litografia térmica 3D, destinada ao estudo e confecção de peças tridimensionais de plástico com geometria desejada, através da interação entre o laser de C02 (10,6pm) e resinas liquidas termosensiveis de alta viscosidade, do tipo epóxi e poliester insaturado. Nesta técnica é utilizada o laser de C02 com potência da ordem de 20 watt na confecção de peças (anéis), com resolução da ordem de 0,20 mm e 0,10 mm respectivamente para as resina epóxi e poliester. Para a obtenção das peças foi desenvolvido um modelo de interação laser-resina e usadas cinco formulações quimicas, duas das quais foram utilizadas na confecção das peças tridimensionais, com a utilização do processo de litografia térmica 3D, enquanto que as outras três foram viáveis apenas para a confecção de peças com uma única camada. Convencionalmente, o processo de litografia a laser ou estereolitografia tem sido desenvolvido com a utilização de resinas fotosensiveis com a aplicação do laser operando na região espectral do ultra violeta (325 nm), portanto, em região espectral distante da que é utilizada neste trabalho
Abstract: This work presents a new technique called thermal-3DLithography, which is able to produce tri-dimensional plastic structures through the interaction between a C02 laser (10,6pm), and high viscosity liquid resins, of the epoxy and unsaturated polyester type. The technique uses a C02 laser with a 20 watt power leveI and obtains parts with a resolution of 0.2 mm for epoxi and 0.1 mm for polyester resin. Five chemical formulation were obtained through the application of a laser-resin interaction model. Two formulations led to tri-dimensional structures and three formulations to one-layer structures. Usually, laser lithography, or estereolithography, was used with photo-sensitive resins cured by a UV-Iaser, whereas this work uses a IR-laser
Mestrado
Mestre em Engenharia Mecânica

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Silva, Marcelo de Assumpcao Pereira da. "Estudo de Litografia por Feixe de Elétrons para a Produção de Padrões Sobre Substratos de Eletroestruturas." Universidade de São Paulo, 1996. http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/88/88131/tde-11092008-165630/.

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Abstract:

Este trabalho trata do estudo das condições para a produção de padrões em escala nano e micrométricas, utilizando o processo de litografia eletrônica. A parte inicial refere-se ao estudo do elétron-resiste de PMMA incluindo a preparação da solução, o recobrimento do substrato e a secagem. Em seguida, são apresentados estudos sobre o funcionamento do sistema de litografia por feixe de elétrons em detalhe. São tratados problemas com o resiste, o substrato e a interação com a amostra. São apresentados os aspectos mais importantes dos substratos utilizados, sendo dado um enfoque a heteroestruturas semicondutoras com gás de elétrons bidimensionais. As condições para revelação do resiste e das etapas de processamento para que seja feita a replicação para o substrato do padrão gerado no resiste são também abordadas. Diversos estudos foram realizados para mostrar a influência de alguns efeitos comuns na litografia como a influência da espessura do filme de resiste e os efeitos de proximidade. Também trata da produção de padrões sobre substratos diversos como GaAs, VIDRO, ALUMINA e PRATA. A última etapa estuda a utilização de um resiste híbrido PMMA-Sílica como um método de conformação cerâmica. Finalmente é apresentado um estudo relativo a produção de diversos padrões diferentes sobre heteroestruturas semicondutoras de AlGaAs/GaAs.
The work describe the conditions for pattern production at nano and micrometric scale using the electronic lithographic process. In the first part many types of lithographic technics are compared and the aim why the electron beam lithographic nanostructured production was chosen. Detailed results about operation with the lithographic system and some problems related to electron resist, substrate and interaction between electron beam and sample are presented. The most important substrate aspects are shown. The two dimensional electron gas (2DEG) semiconductors heterostrutures and the M B E process to grow samples are discussed too. The conditions to develop electron resist and steps for pattern transfer over the substrate are discussed. Many experimental studies were realized to show the influence and some effects, common to the lithographic process, such as electron resist thickness and the proximity effect. A production of pattern on some kind of substrate like GaAs, Glass, Aluminum, Silver can also be observed. In the last part of this work some discussion about utilisation of hybrid electron resist composite PMMA-Silica was done, as well as very important technics for ceramic conformation. Finally, the main goal of this work is presented: the production of different nanostructure samples using AlGaAs/GaAs substrates.

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Rigon, Elso Luiz. "Gravação e caracterização de nanoestruturas bidimensionais em relevo." [s.n.], 2003. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/278218.

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Abstract:

Orientador: Lucila Helena Deliesposte Cescato
Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica Gleb Wataghin
Made available in DSpace on 2018-08-03T08:00:45Z (GMT). No. of bitstreams: 1 Rigon_ElsoLuiz_M.pdf: 13216425 bytes, checksum: 2d13f697f6dab3233fec1bdf1d18571a (MD5) Previous issue date: 2003
Resumo: Nesta tese foram desenvolvidos processos para gravação de nanoestruturas bidimensionais em relevo, utilizando-se exposições holográficas e litografia. São descritas as condições experimentais para a gravação de máscaras em fotorresina com diferentes perfis, assim como para a litografia do padrão bidimensional em três diferentes materiais: alumínio, níquel e carbono amorfo hidrogenado. Para a litografia foram utilizadas técnicas de lift off, evaporação térmica, eletrodeposição seletiva, deposição química na fase vapor assistida por plasma (PECVD), e corrosão por plasma reativo (RIE). Foram estudadas três propriedades ópticas apresentadas pelas nanoestruturas bidimensionais fabricadas em materiais dielétricos e metálicos: efeito anti-refletor, existência de bandas proibidas de propagação para fótons, e efeito de transmitância extraordinária. Além do estudo teórico, foram realizadas medidas experimentais do efeito anti-refletor em estruturas gravadas em fotorresina sobre vidro, e da transmitância extraordinária de nanofuros em filmes metálicos
Abstract: This thesis describes the recording of two dimensional surface-relief nano structures, using double holographic exposures and lithography. The experimental conditions for recording photoresist masks are described, as well as for the lithography of the two dimensional pattern in three different materials: aluminum, nickel and hydrogenated amorphous carbon. For the lithography, techniques of lift off, thermal evaporation, selective eletrodeposition, plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD), and reactive ion etching (RIE) were used. Three optical properties, presented by dielectric and metallic two dimensional nano structures were studied: the anti-reflective effect, the photonic band gap and the extraordinary transmittance effect. Besides the theoretical study, experimental measurements of the anti-reflective effect in structures recorded in photoresist on glass were performed, as well as those of the extraordinary transmittance of nano holes in metallic films
Mestrado
Física
Mestre em Física

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Alves, Marcus Vinícius. "Estudo de técnicas de nanofabricação aplicada à filmes semicondutores." Universidade de São Paulo, 1999. http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/76/76132/tde-01042014-171353/.

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Abstract:

Este trabalho teve como objetivo principal o estudo de técnicas de nanofabricação aplicadas a filmes semicondutores do grupo 111-V, crescidos pela técnica de epitaxia por feixe molecular. Padrões, visando o domínio da técnica e a produção de nano-estruturas foram criados em filmes de GaAs utilizando-se a técnica de litografia por feixe de elétrons e ataques químicos. Os padrões foram gerados a partir de um software especial de controle que, acoplado ao microscópio eletrônico de varredura, através de uma interface, permite o controle externo da varredura x-y do feixe de elétrons. Estudamos o comportamento da espessura do filme de elétron-resiste poli (metacrilato de metila) (PMMA) em função da temperatura, aplicando soluções com pesos moleculares variados sobre filmes semicondutores, dissolvidos em Xileno, Monoclorobenzeno e Acetona. Investigamos o uso do ultra-som nos processos de revelação do PMMA e no ataque químico de superfícies de GaAs. Através da análise do ataque químico empregando várias formulações a base de ácidos em GaAs (100) e (3 1 l)A e B, determinamos a velocidade de ataque em cada caso, classificando as propriedades obtidas para a superfície. Em GaAs (100) avaliamos a dependência entre a rugosidade da face atacada e o tempo de ataque para uma solução de NH4OH:H2O (pH=7). Os resultados por nós obtidos formam um conjunto de dados que servirão de apoio a trabalhos futuros, desenvolvidos em nano-fabricação aplicada a filmes de GaAs, crescido em planos diferentes do (100).
This work had as main objective the study of nanofabrication techniques applied to thin semiconductor 111-V films, grown by molecular beam epitaxy. Patterns were generated to verifying the domain of the technique in the production of nanostructures in GaAs films, by means of chemical attack and electro-lithography. The patterns were generated with special software that connects the electronic microscope(Leo 440), through an interface that allows the externa1 control of the x-y sweeping for the electron beam. We studied the behaviour of the thickness of the electron-resists films of poly-methyl-metacrilate in hnction of the Spinner rotation, applying solutions with varied molecular weights on semiconductor films, dissolved in Xilene, Monoclorobenzene and Acetone. We investigated the use of the ultra-sound in the processes of revelation of PMMA and in the chemical attack of surfaces of GaAs. Through the analysis of the chemical attack using severa1 formulations of acids in GaAs (100) and (311)A and B, we determined the attack rate in each case, classifying the properties obtained for the surface. In GaAs (100) we evaluated the dependence between the nano-rugosity of the attacked face with the time of attack for a solution of NH4OH:H2O2 (pH=7). The results obtained by us form a group of data that will support future works, to be developed in nanofabrication applied to GaAs thin films grown in plans different from the (100).

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Tolpolar, Miriam Galbinsky. "Meus mortos, meus vivos : diálogos com a gravura e a memória." reponame:Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da UFRGS, 2003. http://hdl.handle.net/10183/4533.

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Abstract:

Dividida em dois capítulos, a presente dissertação propõe uma reflexão sobre questões pertinentes à gravura, mais especificamente à litografia, a partir da produção de obras realizadas entre os anos 2000 e 2002 e de seu processo criativo. Gravura, nesta pesquisa, refere-se à linguagem e ao conceito de impressão, deslocando-se de sua função reprodutora em direção ao lugar de obra singular, única. Partindo deste eixo, os conceitos de impressão, memória, aura e sagrado, e as diversas ações que se relacionam à prática da gravura, dialogam com o conceito de identidade vinculado ao retrato e auto-retrato. Neste diálogo, são apresentados aspectos referentes à cultura judaica, seus costumes e rituais. A utilização da fotografia como apropriação, produzindo relações de aproximação e afastamento com a litografia, construíram obras que suscitaram indagações e reflexões a partir de sua instauração, enriquecendo o processo de construção deste texto, que tem como fio condutor o constante interrogar.

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Eravuchira, Pinkie Jacob. "Lithographic Micro- and Nanostructuring of SU-8 for Biotechnological Applications." Doctoral thesis, Universitat Rovira i Virgili, 2015. http://hdl.handle.net/10803/292245.

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Abstract:

En aquesta tesi doctoral s’ha dut a terme recerca en mètodes de fabricació d’estructures micromètriques i nanomètriques de SU-8. La recerca ha partit de la base d’una anàlisi dels treballs anteriors en estructuració de SU-8 i ha tingut com a principal objectiu el d’obtenir noves estructures per a aplicació en biotecnologia. Un dels resultats més importants de la recerca ha estat la proposta d’una tècnica híbrida que combina fotolitografia i litografia per pressió per obtenir superfícies de SU-8 amb estructura jerarquitzada. Les investigacions també han portat a proposar un mecanisme de sensat basat en la fotoluminescència del SU-8. Els experiments demostren que la fotoluminescència es redueix a cada pas de modificació de la química de superfície. Aquesta característica es produeix de forma repetible també quan s’adhereix un antigen (IgG) a una superfície de SU-8 modificada amb l’anticòs corresponent (aIgG). Gràcies a aquest efecte, s’ha proposat un inmunosensor basat en la reducció de fotoluminescència i se n’ha avaluat la seva sensibilitat. El resultat més rellevant demostra que estructures jeràrquicament organitzades mostren una reducció de fotoluminescència major i per tant una millor sensibilitat.
En esta tesis doctoral se ha llevado a cabo investigación sobre métodos de fabricación de estructuras micrométricas y nanométricas de SU-8. La investigación ha partido de la base de un análisis de los trabajos anteriores en estructuración de SU-8 y ha tenido como principal objetivo el de obtener nuevas estructuras para la aplicación en biotecnología. Uno de los resultados más relevantes de la investigación ha sido la propuesta de una técnica híbrida que combina fotolitografía con litografía por presión para obtener superficies de SU-8 con una estructura jerarquizada. Las investigaciones también han llevado a proponer un mecanismo de sentado basado en la fotoluminiscencia del SU-8. Los experimentos demuestran que la fotoluminiscencia se reduce a cada paso de modificación de la química de superficie. Esta característica se produce de forma repetible también cuando se adhiere un antigen (IgG) a una superficie de SU-8 modificada con el anticuerpo correspondiente (aIgG). Gracia a este efecto se ha propuesto un inmunosensor basado en la reducción de fotoluminiscencia i se ha evaluado su sensibilidad. El resultado más relevante demuestra que las estructuras jerárquicamente organizadas muestran una reducción de fotoluminiscencia mayor, y por tanto una mejor sensibilidad
n this Ph. D. Dissertation research on lithographic methods for the fabrication of micrometric and nanometric SU-8 structures has been carried out. The research has been based on a survey of existing techniques to structure the SU-8 with the main objective of obtaining novel structures for biotechnology applications. One of the main results of the research has been the proposal of an hybrid technique that combines photolithography and soft lithography to obtain hierarchically structured SU-8 surfaces. The investigations have also led to the proposal of a sensing mechanism based on the photoluminescence of SU-8. The experiments show that photoluminescence is reduced with every step of surface chemistry modification. This is a repeatable feature that is observed also upon attachment of an antigen (IgG) onto a SU-8 surface grafted with antibody (aIgG). Thanks to this effect, an immunosensor based on the reduction of photoluminescence has been proposed and its sensitivity has been evaluated. The results show that the hierarchically patterned structures offer a higher photoluminescence reduction and thus a better sensitivity.

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Albuquerque, André Luis de Castro. "Imagem, tinta e papel: uma leitura da litografia "Negras livres vivendo de suas atividades", de Jean Baptiste Debret." Universidade Presbiteriana Mackenzie, 2013. http://tede.mackenzie.br/jspui/handle/tede/1872.

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Abstract:

Made available in DSpace on 2016-03-15T19:42:29Z (GMT). No. of bitstreams: 1 Andre Luis de Castro Albuquerque.pdf: 3512166 bytes, checksum: 8d0cd135db2b69987d345b350a8e6563 (MD5) Previous issue date: 2013-06-18
Coordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior
Jean Baptiste Debret (1768-1848), the French painter from the Neoclassical school, came to Rio de Janeiro city in 1816, to help creating an academy of fine arts, in the molds of the one in France, during the Dom João VI government in Brazil. Developing paintings and drawings in the streets of the empire s capital, Debret carried out a detailed study about the Portuguese court s life, as well as of the black men and women lives who worked in a wide range of services; this study will create his great work Historical and Picturesque Voyage to Brazil . This research analyzed one of his litographies, entitled Free Negresses Earning a Living From their Works , from Historical and Picturesque Voyage... , trying to understand the painter s purpose to elaborate his discourse about how the free negresses that worked in Rio de Janeiro City lived.
Jean Baptiste Debret (1768-1848), pintor francês pertencente à Escola Neoclássica francesa, veio para a cidade do Rio de Janeiro no ano de 1816, ajudar na criação de uma Academia de Belas Artes, nos moldes franceses, durante o governo de Dom João VI no Brasil. Desenvolvendo trabalhos de pintura e desenho nas ruas da capital do Império, Debret realizou um estudo minucioso sobre a vida da corte portuguesa nos trópicos, bem como as vidas de negros e negras de ganho que trabalhavam nos mais variados serviços; esse estudo vai dar origem à sua grande obra Viagem Pitoresca e Histórica ao Brasil . Esta pesquisa analisou uma de suas litografias, intitulada Negras livres vivendo de sua atividades , que se encontra no segundo tomo da Viagem Pitoresca... , buscando compreender a intenção deste pintor ao elaborar um discurso sobre como viviam as negras livres que trabalhavam na cidade do Rio de Janeiro.

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Pereira, Estéfani Marchiori. "Interação entre ferromagnetos e supercondutores em nanoestruturas fabricadas por ablação a laser e litografia por feixe de elétrons." Niterói, 2017. https://app.uff.br/riuff/handle/1/3949.

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Abstract:

Submitted by Biblioteca do Instituto de Física (bif@ndc.uff.br) on 2017-07-04T18:17:13Z No. of bitstreams: 1 Estéfani M Pereira (Mestrado).pdf: 29753105 bytes, checksum: 975117286ae941fc4c80d8fb96a32de5 (MD5)
Made available in DSpace on 2017-07-04T18:17:13Z (GMT). No. of bitstreams: 1 Estéfani M Pereira (Mestrado).pdf: 29753105 bytes, checksum: 975117286ae941fc4c80d8fb96a32de5 (MD5)
Coordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior
Conselho Nacional de Desenvolvimento Científico e Tecnológico
Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado do Rio de Janeiro
Dois fenômenos de natureza antagônica juntos em um sistema híbrido podem apresentar propriedades muito diferentes, e um exemplo é o sistema híbrido de supercondutividade e ferromagnetismo, onde diversos novos fenômenos podem ser observados, como vórtices espontâneos. Aqui, dois sistemas híbridos supercondutor-ferromagneto foram estudados: Um consistindo de uma camada de Nb(200 nm) entre duas camadas de nanopartículas ferromagnéticas de Ni( ∼5 nm), preparadas por ablação a laser, com os gases Ar e O2 para produção das nanopartículas; O outro consiste de uma primeira camada feita de nanodiscos ferromagnéticos de Py( ∼1 m) desenvolvidos com litografia por feixe de elétrons, com uma disposição de rede quadrada com determinadas distâncias entre nanodiscos adjacentes, cobertos por uma segunda camada de Al2O3, ambos depositados por pulverização catódica, e por fim uma terceira camada supercondutora de Nb(200 nm) preparada por ablação a laser. As nanopartículas de Ni no primeiro sistema estão em contato direto com a camada de Nb e como resultado, o efeito de proximidade está presente no sistema. Diferentemente, os nanodiscos de Py no segundo sistema estão eletricamente isolados da camada de Nb, que pode eliminar o efeito de proximidade, assim a interação entre nanodiscos magnéticos e o Nb supercondutor ocorre somente através dos campos magnéticos remanescentes dos nanodiscos de Ni. A microestrutura estudada mostra que as nanopartículas feitas em gás Ar e O2 possuem formatos muito diferentes: uma (preparada em Ar) é cubica e a outra (preparada em O2) é esférica. Os diferentes formatos das nanopartículas de Ni apresentam influência muito diferente sobre as propriedades supercondutoras da camada de Nb: a amostra com nanopartículas de Ni(Ar) não apresenta uma transição de vortex vidro e a amostra com nanopartículas de Ni(O2) mostra um estado de vortex vidro bem claro sem qualquer campo magnético externo aplicado, indicado pelas medidas V(I). No segundo sistema, as medidas de transporte indicam a formação de clusters de vórtices na camada supercondutora sobre os nanodiscos magnéticos devido aos momentos magnéticos deles, e os vórtices induzidos por um único nanodisco podem formar uma fase de vortex vidro. A dimensão do espaçamento entre discos desempenha também um papel muito importante. A amostra com uma distância muito grande entre nanodiscos não mostrou uma curva V(I) com formato ’S’ mas possui uma fase vortex vidro; quando diminui a distância entre discos, as curvas V(I) próximas à temperatura de transição vortex vidro deformaram para um formato ’S’, indicando que os vórtices induzidos pelos diferentes nanodiscos estão interagindo uns com os outros quando as distâncias entre discos são menores do que um valor crítico.
Two phenomena with antagonistic nature together in a hybrid system can have very different properties and one of the samples is the hybrid of superconductivity and ferromagnetism in which many new phenomena can be observed, such as spontaneous vortices. Here two superconducting-ferromagnetic hybrid systems have been studied: one consists of a Nb layer(200 nm) between two layers of ferromagnetic Ni nanoparticles( ∼5 nm), which is prepared by pulsed laser deposition(PLD) with Ar and O2 for the production of Ni nanoparticles; the other consists of a first layer made of ferromagnetic permalloy (Py) nanodisks( ∼1 m)developed by e-beam lithography, with the arrangement of square lattice with certain distances between two adjacent nanodisks, covered by a second layer of Al2O3, both deposited by magnetron sputtering, and finally a third layer of superconducting Nb(200 nm) prepared by PLD. The Ni nanoparticles in the first system are in direct contact with the Nb layer and as a result, the proximity effect in the system is presented. In contrast, the Py nanodisks in the second system are electrically insulated from the Nb layer which can eliminate the proximity effect, thus the interaction between the magnetic nanodisks and superconducting Nb is through the magnetic stray fields of Ni nanodisks only. The microstructure study shows that the nanoparticles made in Ar and O2 gases have very different shapes: one (prepare in Ar) is cubic and the other (prepared in O2) is spherical. The different shapes of the Ni nanoparticles have very different influence on the superconducting properties of the Nb layer: the sample with Ni (Ar) nanoparticles does not show a vortex glass transition and the sample with Ni (O2) nanoparticles shows a very clear votex glass state without any external magnetic field applied, indicated by the V(I) measurements. In the second studied system, the transport measurements indicate the formation of vortex clusters in the superconducting layer on the top of the magnetic nanodisks due to the magnetic moments of them and the vortices induced by a single nanodisk may form a vortex glass phase. The spacing dimension between the disks plays a very important role as well. The sample with very large distance between the nanodisks does not show an ’S’ shape V(I) curve but has a vortex glass phase; when decrease the distance between the disks, the V(I) curves near the vortex glass transition temperature deformed to a ’S’ shape, indicating that the vortices induced by different nanodisks are interacting with each other when the distance between the disks are smaller then an critical value.

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Mesquita, João Carlos de Vilhena e. César. "A ilustração nas publicações periódicas portuguesas : 1820-1850." Dissertação, Porto : [Edição de Autor], 1997. http://aleph.letras.up.pt/F?func=find-b&find_code=SYS&request=000171127.

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Abstract:

Esta dissertação reune um levantamento exaustivo das publicações periódicas portuguesas no espaço cronológico compreendido entre 1820 e 1850, onde se estudou a ilustração, respectivas temáticas, artistas, locais de produção e distribuição geográfica. As publicações periódicas que mais ilustração apresentam são as de caracter literário. Os processos de gravar mais comuns são a litografia e a xilogravura. Constata-se grande disparidade entre Lisboa, que se assumiu como principal centro produtor e de criação artística, e o resto do país.

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Barbaroto, Pedro Ricardo. "Projeto, microfabricação e caracterização de defletor de luz de silicio acionado por indução." [s.n.], 2002. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/258984.

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Abstract:

Orientadores : Ioshiaki Doi, Luiz Otavio Saraiva Ferreira
Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica e de Computação
Made available in DSpace on 2018-08-02T00:54:41Z (GMT). No. of bitstreams: 1 Barbaroto_PedroRicardo_M.pdf: 3440594 bytes, checksum: 877325661cb0da7cfa412f86b247b558 (MD5) Previous issue date: 2002
Mestrado

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Menezes, Jacson Weber de. "Fabricação e caracterização de estruturas periódicas utilizando superposição de padrões de interferência para aplicações em fotônica e plasmônica." [s.n.], 2010. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/260707.

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Abstract:

Orientadores: Edmundo da Silva Braga, Lucila Helena Deliesposte Cescato
Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Elétrica e de Computação
Made available in DSpace on 2018-08-16T22:14:56Z (GMT). No. of bitstreams: 1 Menezes_JacsonWeberde_D.pdf: 5102435 bytes, checksum: 8671ed8cf6b070b06a3270b5e81fde66 (MD5) Previous issue date: 2010
Resumo: Esta tese tem como objetivo demonstrar a viabilidade e o potencial da técnica de superposição de padrões de interferência para fabricação de estruturas periódicas 2D e 3D para aplicações em cristais fotônicos e estruturas plasmônicas. A superposição de padrões consiste em expor a mesma amostra a padrões de interferência, produzidos por duas ondas planas, girando-se a amostra apropriadamente entre as exposições. A simulação do padrão de intensidade resultante, em função do número de exposições e do ângulo de rotação entre elas, foi feita utilizando o software MATHEMATICA. Estas simulações demonstraram que com apenas 3 exposições, girando-se apropriadamente a amostra, é possível obtermos padrões com periodicidade tridimensional. As estruturas gravadas na fotorresina positiva SC 1827, utilizando esta técnica, mostraram uma excelente concordância com os padrões simulados. Embora estas estruturas não apresentem um gap fotônico completo devido ao baixo índice de refração da fotorresina, foi possível medir o gap fotônico para determinadas direções de simetria da estrutura. Camadas Finas de Cristais Fotônicos 2D com simetria triangular foram fabricadas em vidros calcogenetos a base de antimônio. As medidas da transmitância espectral em função do ângulo de incidência da luz nas diferentes direções de simetria permitiram a medida experimental do diagrama de bandas. Para os modos mais baixos as medidas experimentais mostraram uma excelente concordância com os diagramas de bandas calculados utilizando o Método dos elementos finitos (FEM). Estruturas plasmônicas, compostas por arranjos quadrados de furos em filmes de ouro foram fabricadas e caracterizadas através de medidas de transmitância à incidência normal. Devido à grande sensibilidade da posição dos picos de ressonância de plasmons com o meio, foi realizado um estudo visando a otimização dos parâmetros destas estruturas para uso como sensores de índice de refração
Abstract: The purpose of this thesis is to demonstrate the feasibility and the potential of the technique of superposition of interference patterns to generate 2D and 3D periodic structures for applications in photonic crystals and plasmonic structures. This technique consists in to expose the same sample to interference patterns produced by two plane waves, rotating properly the sample between exposures. The simulation of the resulting intensity pattern, as a function of the number of exposures and rotation angle between them, is done using the software MATHEMATICA. These simulations showed that only 3 exposures are enough to obtain three-dimensional periodic patterns. The structures recorded in SC 1827 positive photoresist, using this technique, showed excellent agreement with the simulated patterns. Although these structures do not show a complete photonic band gap because of the low refractive index of the photoresist, it was possible to measure the photonic band gap photonic for certain directions of symmetry of the structure. Thin layers of 2D Photonic Crystals with triangular symmetry were fabricated in chalcogenide glasses based on antimony. Measurements of spectral transmittance, at different incident angles in the directions of symmetry of the 2D crystal, allow obtaining the experimental band diagrams. For the lowest modes the experimental measurements agree very well with the diagrams calculated using the FEM. Plasmonic structures, composed of squared arrays of holes in gold films were fabricated and characterized through transmittance measurements at normal incidence. Due to the high sensitivity of the peak wavelength positions of plasmon resonances with the surrounding media, a study was conducted in order to optimize the parameters of these structures for refractive index sensing
Doutorado
Eletrônica, Microeletrônica e Optoeletrônica
Doutor em Engenharia Elétrica

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Oliveira, Gilderlon Fernandes. "Caracterização magnética de filmes finos e micro objetos baseados em metais de transição e terras raras." Universidade de São Paulo, 2014. http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/43/43134/tde-02042015-143732/.

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Abstract:

O uso de magnetismo em sensores, transdutores e, principalmente, em mídias de gravação magnética, atinge uma escala de investimento no mercado global de bilhões de dólares anualmente. Essas aplicações tecnologicas, atualmente, apontam para usos do magnetismo na escala nanoscópica, por meio da miniaturização de dispositivos magnéticos sensores e transdutores; em gravação magnética através da nanoestruturação das unidades básicas de armazenamento; ou, ainda, na medicina pelo uso de nanopartículas magnéticas como carregadores de drogas medicinais ou como elementos aquecedores por meio da radiação em radiofrequência. Neste trabalho, adotamos uma abordagem top-down. Partimos de objetos magnéticos microscópicos e buscamos progressivamente reduzir a sua escala espacial visando atingir a escala nanoscópica. Produzindo objetos com formato regular e simples, como quadrados, discos e triângulos produzidos por litografia de feixe de elétrons e método lift-off, a partir de filmes finos produzidos por Magnetron Sputtering. Utilizando como elemento de estudo Metais de Transição (MT) e Terras Raras (TR). A estequiometria e espessura dos filmes finos de Tb-Fe foram obtidas com análise de RBS. Já a análise magnética dos filmes finos de Tb-Fe foram obtidas por técnicas de VSM e SQUID. O que possibilitou averiguar que as amostra com a proporção de Tb variando entre 22% e 36% possuem uma anisotropia magnética perpendicular bem definida e possuem um ordenamento sperimagnético. Através do microscópio de força magnética observamos a formação de domínios magnéticos do tipo bolha irregular nos filmes finos de Tb-Fe. Utilizando o microscópio eletrônico de varredura e o SNOM-MO foi possível analisar a morfologia dos micro-objetos produzidos. Os resultados mostram uma eficácia na preparação de estruturas com dimensões maiores que 2 µm, com altura de aproximadamente 50 nm. Fazendo-se necessário um estudo mais preciso para obtenção de amostra com dimensões abaixo desta dimensão.
The use of magnetism in sensors, transducers and, mainy, in magnetic recordable media reaches a total investment of billions of dollars annually in the markets worldwide. These applications in technology are currently being focused toward the uses of magnetism in the nanoscopic scale, by shrinking the magnetic sensor devices and transducers. Also, in magnetic recordings by the nanostructuration of basic storage units or - going even further - in the use of nanomagnetic particles in Medicine such as drug delivery or heating elements by radiofrequency radiation. In this paper, we take a \"top-down\" approach. We start with microscopic magnetic objects and seek progressively reduce its spatial scale in order to reach the nanoscale. Producing objects with regular and simple format, such as squares, triangles and discs produced by electron beam lithography and lift-off method, The thin films were based on transition metal and rare earth elements. The thickness and stoichiometry of thin films of Tb-Fe were meadured with RBS analysis. The analysis of the Tb-Fe magnetic thin films were obtained by techniques VSM and SQUID. The sample with the ratio of Tb ranging between 22% and 36% have a well-defined perpendicular magnetic anisotropy and have a sperimagnetic behavior. Through the magnetic force microscopy we observed the formation of magnetic domain structure of the \"irregular bubble\" type. Using scanning electron microscope and the SNOM-MO was possible to analyze the morphology of the produced micro-objects. The results show that efficiency in the preparation of structures with dimensions larger than 2 microns, and a height of approximately 50 nm. This result exposes the need for a more investigation in order to produce samples with smaller dimension.

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Mesquita, João Carlos de Vilhena e. César. "A ilustração nas publicações periódicas portuguesas : 1820-1850." Master's thesis, Porto : [Edição de Autor], 1997. http://hdl.handle.net/10216/19448.

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Abstract:

Esta dissertação reune um levantamento exaustivo das publicações periódicas portuguesas no espaço cronológico compreendido entre 1820 e 1850, onde se estudou a ilustração, respectivas temáticas, artistas, locais de produção e distribuição geográfica. As publicações periódicas que mais ilustração apresentam são as de caracter literário. Os processos de gravar mais comuns são a litografia e a xilogravura. Constata-se grande disparidade entre Lisboa, que se assumiu como principal centro produtor e de criação artística, e o resto do país.

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Solé, Boladeras Isaura. "Ex fumo dare lucem. La configuració de la indústria gràfica a Barcelona durant la segona meitat del segle XIX (1845-1900)." Doctoral thesis, Universitat de Barcelona, 2020. http://hdl.handle.net/10803/671398.

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Abstract:

Aquesta tesi doctoral analitza l’evolució del sector de les arts gràfiques a Barcelona durant la segona meitat del segle XIX, moment en què va passar de ser una manufactura a ser una indústria, centrant-nos en els seus protagonistes: els establiments d’impremta i de litografia. Es tracta d’una tesi basada fonamentalment en fonts de caràcter primari que estudia l’evolució del sector des de dos vessants. D’una banda, a nivell general com a sector, analitzant el seu desenvolupament i configuració dins del panorama industrial de la ciutat de Barcelona. I de l’altra, a nivell individual, a partir de l’estudi individualitzat de les característiques principals de cada una de les cases impressores de Barcelona que hem pogut identificar i documentar. L’estudi general del sector queda recollit en el bloc II, en el qual es determina i analitza la seva composició, la seva activitat i la seva presència dins del teixit industrial de la ciutat amb l’objectiu de quantificar el creixement experimentat durant la cronologia estudiada. D’una banda, s’estudia el grau de mecanització experimentat pel sector a partir de l’anàlisi i la descripció dels tallers d’arts gràfiques de Barcelona pel que fa a la maquinària existent i a les instal·lacions de les què disposaven les principals cases de la ciutat. Per altra banda, s’estudia als professionals de l’ofici per tal de determinar les seves tasques, la seva posició dins dels tallers i, també, les seves condicions laborals, tant salarials com higièniques i sanitàries. Cal remarcar que dins aquesta anàlisi dels professionals s’hi inclou una aproximació a l’estudi de gènere a partir de l’estudi de la presència de la dona dins del sector de les arts gràfiques, tant en la posició de propietària com en la de treballadora. En darrer terme, s’analitzen les diferents vies per les quals difonien la seva activitat amb l’objectiu de posar de manifest com es mostraven davant de la societat del moment, tant a nivell individual, a partir de de la seva pròpia publicitat impresa –els anuncis a la premsa i els impresos publicitaris–; com a nivell de sector, amb la publicació de revistes especialitzades distribuïdes dins dels cercles professionals i amb la participació a les exposicions tant nacionals com internacionals. Finalment, el bloc III, es centra en l’estudi dels establiments d’arts gràfiques de Barcelona de manera individual a partir de l’elaboració d’un directori descriptiu que recull més de 840 establiments d’impremta i de litografia documentats a Barcelona i actius durant la segona meitat del segle XIX. Cada un està descrit en forma de fitxa que no només recull informació de caràcter identificador com el nom i l’adreça, sinó que inclou altres dades rellevants com el període d’activitat documentat, la maquinària existent al taller, els establiments relacionats, la línia successòria, les guies en les quals apareix documentat, les exposicions en les quals va participar, els serveis que oferia, un apartat d’observacions i, en els casos en que ha esta possible, la reproducció d’un dels seus impresos publicitaris o anuncis.
This doctoral thesis analyses the evolution of the graphic arts industry in Barcelona during the second half of the 19th century, when it evolved from handwork to a mechanical industry, focusing on its protagonists: printing and lithography houses. The thesis is mainly based on primary sources, and studies the evolution of the industry from two perspectives. At the industry level, it offers an overview of the sector’s development and configuration as part of Barcelona’s industrial landscape. At an individual level, this work studies the main characteristics of each printing and lithography workshop in Barcelona that have been identified and documented. The general study of the industry is detailed in Chapter 2. This chapter determines its composition, activity, and presence within Barcelona’s industrial network in order to quantify the growth experienced during the period studied. First, the degree of mechanization of the industry is assessed by analysing the available machinery in the workshops. Second, the professionals in the field are studied to determine their tasks, their position within the workshop, and their working conditions, including a gender-based approach. Last, advertising, professional journals, and exhibitions are investigated with the aim to highlight the dissemination activities at both individual and industry levels. Lastly, Part III focuses on studying individual workshops by creating a descriptive directory of over 840 printing houses and lithography workshops which can be documented as active in Barcelona during the second half of the 19th century. Every workshop is described in file format, including not only identification data such as name and address, but also information regarding activity period, machinery and equipment owned, relationship with other workshops, succession line, references in guides, exhibitions where they participated, available services, etc.

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Lacerda, Ligia Maria Alves de. "Pietro Biancovilli: imagens da industrialização no álbum de litografias do Museu Mariano Procópio (1888-1914)." Universidade Federal de Juiz de Fora (UFJF), 2012. https://repositorio.ufjf.br/jspui/handle/ufjf/4978.

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Submitted by Renata Lopes (renatasil82@gmail.com) on 2017-06-19T19:31:47Z No. of bitstreams: 1 ligiamariaalvesdelacerda.pdf: 5069586 bytes, checksum: 1d64230fb2ba63a875f3302b83855cce (MD5)
Approved for entry into archive by Adriana Oliveira (adriana.oliveira@ufjf.edu.br) on 2017-06-29T12:33:33Z (GMT) No. of bitstreams: 1 ligiamariaalvesdelacerda.pdf: 5069586 bytes, checksum: 1d64230fb2ba63a875f3302b83855cce (MD5)
Made available in DSpace on 2017-06-29T12:33:33Z (GMT). No. of bitstreams: 1 ligiamariaalvesdelacerda.pdf: 5069586 bytes, checksum: 1d64230fb2ba63a875f3302b83855cce (MD5) Previous issue date: 2012-12-11
Esta pesquisa tem como objetivo analisar as narrativas visuais, vinculadas à memória da indústria gráfica regional, tomando-se como investigação o estudo da implantação da primeira casa litográfica comercial do Estado de Minas Gerais, a Litografia a vapor Pietro Biancovilli. A fonte principal da pesquisa é o Álbum 6 de litografias pertencente ao acervo do Arquivo Histórico da Fundação Museu Mariano Procópio, que contem 130 exemplares de impressos comerciais pertencentes a essa litografia. Buscou-se, também, a análise em fontes documentais encontradas no Setor de Memória da Biblioteca Municipal Murilo Mendes, no Arquivo Histórico de Juiz de Fora e no Arquivo Público Mineiro, onde foram examinados periódicos e documentos relativos à chegada e à produção do litógrafo italiano Pietro Angelo Biancovilli. O recorte temporal se inicia em 1888, quando o emigrante chega ao Brasil, e termina no ano de 1914, quando se encerram suas atividades comerciais. Consoante com as proposições da História Cultural, esta pesquisa concebe o exame das práticas e representações imagéticas, forjadas no âmbito da cidade de Juiz de Fora em fins do século XIX e décadas iniciais do século XX.
This research has the purpose to analize the visual accounts linked to the memory of local graphic industry, studying the settling of the first commercial lithography house in the State of Minas Gerais, the steam litography Pietro Biancovilli. The main source of the research is the “Álbum 6” of lithographies belonging to the collection of the Historical Archive of the Mariano Procópio Museum Foundation, with 130 pieces of commercial prints belonging to this lithography. It has been analized documental sources found in the Memory Department of the Municipal Library Murilo Mendes, in the Historical Archive of Juiz de Fora and in the Public Archive of Minas, where it has been examined periodicals and documents related to the arrival and production of the italian lithographer Pietro Angelo Biancovilli. The time researched begins in 1888, when the foreigner arrives to Brazil, and it ends in the year of 1914, when he closes his commercial activities. Regarding to the propositions of Cultural History, this research conveives the examination of practices and representations of images, forged in the Juiz de Fora life in the end of 19th Century and in the first decades of the 20th Century.

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Santos, Juliana Santiago dos. "Silica vitrea de alto desempenho optico produzida por metodo de aerosol em chama para componentes fotonicos." [s.n.], 2009. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/264836.

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Abstract:

Orientador: Carlos Kenichi Suzuki
Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Mecanica
Made available in DSpace on 2018-08-14T07:35:33Z (GMT). No. of bitstreams: 1 Santos_JulianaSantiagodos_D.pdf: 5083498 bytes, checksum: a60b455d6e9c947ecbd7491e564b8f10 (MD5) Previous issue date: 2009
Resumo: Neste trabalho estudou-se o efeito da variação dos parâmetros do processo VAD (Vaporphase Axial Deposition) sobre as propriedades estruturais e ópticas da sílica vítrea visando o desenvolvimento de um material de alto desempenho óptico empregado no sistema óptico de equipamentos litográficos. As propriedades estruturais das preformas foram caracterizadas por microscopia eletrônica de varredura (MEV), espalhamento de raios-X a baixo ângulo (SAXS) e espectroscopia de absorção de estrutura fina de raios-X (XAFS). Absorção de raios-X (ARX) e tratamento de imagem digital foram utilizados para a obtenção da distribuição radial da densidade e da densidade média da sílica porosa, respectivamente. As propriedades ópticas foram determinadas por interferometria, espectroscopia óptica, espectrometria de polarização, espectroscopia Raman, espectroscopia no infravermelho e espectrofotometria de absorção óptica. Como principal resultado, obteve-se sílica vítrea com homogeneidade radial da estrutura, ?n = 3 ppm, birrefringência = 2 nm/cm e transmitância de 87 % em ? = 400 nm quando consolidada em atmosfera de He podendo superar 90 % quando consolidadas em vácuo. Este desempenho óptico foi obtido em até 95 % do diâmetro da preforma sem a necessidade de etapas adicionais, como o recozimento e a extração da região do diâmetro externo da preforma (geralmente a parte heterogênea) através de corte, reduzindo significativamente o tempo e custo de fabricação da sílica.
Abstract: This research reports the study of the effect of processing parameters of VAD (Vapor-phase Axial Deposition) method on structural and optical properties of silica glass aiming the development of an optically homogeneous material for use on lithographic equipments. The structural properties were characterized by the scanning electron microscopy (SEM), small-angle X-ray scattering (SAXS), and X-ray absorption fine structure (XAFS). X-ray absorption (XRA) and digital image processing were used to obtain the density radial distribution and average density of silica soot, respectively. The optical properties were determined by interferometry, optical spectroscopy, polarization spectrometry, Raman spectroscopy, infrared spectroscopy, and optical absorption spectrophotometry. As a main result, silica glass was produced with structural radial homogeneity, ?n = 3 ppm, birefringence = 2 nm/cm, and transmittance of 87 % at ? = 400 nm when it was consolidated with He atmosphere and higher than 90 % in vacuum. This optical performance was obtained in 95 % of preform diameter without additional steps, such as annealing and cutting of preform outer diameter region (usually the heterogeneous part) which significantly reduces the time and cost of silica fabrication.
Doutorado
Materiais e Processos de Fabricação
Doutor em Engenharia Mecânica

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Melo, Antônio Francisco Arcanjo de Araújo. "Nanopartículas de magnetita aplicadas no controle comutável da transferência de elétrons de proteínas redox e na construção de padrões de litografia magnética." Universidade de São Paulo, 2016. http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/75/75134/tde-01022017-152628/.

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Abstract:

Atualmente, aplicações de nanopartículas de magnetita (NPs-Fe3O4) têm sido comumente reportadas em inúmeros trabalhos descritos na literatura. Catálise, ferrofluidos e dispositivos de armazenamento de dados são algumas delas. Além disso, aplicações biomédicas têm sido demonstradas. Para esse último, têm-se os exemplos de magneto-hipertermia, liberação controlada de fármacos, agente de contraste em imagens de ressonância magnética e o controle de reações bioeletrocatalíticas envolvendo enzimas redox. Nesta tese, NPs-Fe3O4 foram aplicadas em duas vertentes inéditas. Dessa forma, tendo em vista uma melhor compreensão, a sua escrita foi dividida em dois capítulos, nos quais abordam separadamente cada uma dessas vertentes. O primeiro capítulo descreve a obtenção, modificação e funcionalização de NPs-Fe3O4 a afim de usá-las como uma plataforma para a imobilização do citocromo c (Cyt c); uma proteína redox de comportamento modelo dotada de um grupo prostético heme em sua estrutura terciária. Em seguida, após um efetivo processo de imobilização do Cyt c sobre as NPs-Fe3O4 com superfície modificada, o uso de um campo magnético externo possibilitou a deposição do mesmo na interface eletródica, estabelecendo a reação de transferência direta de elétrons entre o grupo heme e a superfície metálica do eletrodo de trabalho. Além disso, por meio da permuta entre os estados comutáveis switch on e switch off, obteve-se o controle magnético comutável da reação de transferência direta de elétrons do Cyt c quando imobilizado na superfície das NPs-Fe3O4 com superfície modificada. Já para o segundo capítulo, NPs-Fe3O4 foram utilizadas como adesivo magnético a fim de capturar nanoestruturas metálicas hollow (nanocages bimetálicos de Au/Ag) dispersas em suspensão aquosa. Dessa forma, por meio da influência de um campo magnético constante, os aglomerados formados entre esses dois nanomateriais foram depositados sobre uma máscara litográfica, levando a formação de padrões de litografia magnética dispostos sobre a superfície de um substrato de ITO (vidro recoberto com óxido de estanho dopado com índio). Imagens de microscopia eletrônica de varredura (MEV) comprovaram que a metodologia utilizada para o preparo dos padrões litográficos foi eficaz, apresentando um alto rendimento na obtenção dos mesmos. Além disso, realizou-se com sucesso o mapeamento químico de infravermelho dos padrões litográficos dispostos sobre o ITO. Para isso, empregou-se como alvo os modos vibracionais do polímero polivinilpirrolidona (PVP) utilizado na funcionalização dos nanocages bimetálicos de Au/Ag. Por fim, acredita-se que os padrões litográficos arranjados em macroescala, juntamente com os aglomerados de nanocages bimetálicos alinhados na forma de microfios, possuem potencial aplicação em estudos de espectroscopia de absorção no infravermelho intensificado por superfície (SEIRA).
Currently, applications of magnetite nanoparticles (Fe3O4-NPs) have been commonly reported in many studies in the literature. Catalysis, ferrofluids and data storage devices are some of them. Moreover, biomedical applications have been demonstrated. For the latter, there are the following examples, such as magneto-hyperthermia, controlled release of drugs and the control of bioelectrocatalysis of the enzymatic reactions. In this thesis, Fe3O4-NPs were used in two new applications. Therefore, towards a better understanding its writing was divided into two chapters, which each one of them reports separately these two applications. The first chapter describes the synthesis, modification and functionalization of Fe3O4-NPs in order to use them as a platform for the immobilization of cytochrome c (Cyt c); model redox protein which possess a heme prosthetic group in its tertiary structure. Then, after an effective immobilization of Cyt c on surface-modified Fe3O4-NPs, the use of an external magnetic field permitted the deposition of this redox protein on the electrode interface, establishing the reaction of direct electron transfer between heme prosthetic group and the metallic surface of the working electrode. Furthermore, by the exchange between ON and OFF switch modes was obtained the magnetic control of the direct electron transfer of Cyt c when immobilized on the surface-modified Fe3O4-NPs. For the second chapter, Fe3O4-NPs were used as magnetic adhesive to capture hollow metallic nanostructures (Au-Ag bimetallic nanocages) dispersed in aqueous suspension. Thus, by use of a constant magnetic field, the agglomerates formed between these two nanomaterials were deposited on a lithographic mask, leading to formation of magnetolithograph patterns on the surface of ITO substrate (glass coated with oxide tin-doped indium). Scanning electron microscopy images (SEM) showed that the methodology used for the high-yield preparation of lithographicpatterns was effective. Furthermore, the FTIR chemical mapping of the lithographic patterns arranged on the ITO\'s surface was successfully performed. For this, the CH2 and C-N, C=O vibrational modes of the polyvinylpyrrolidone polymer (PVP) used for the functionalization of Au-Ag bimetallic nanocages were employed as target. Finally, we believed that magnetolithograph patterns arranged in microscale on the ITO surface, and also the clusters of the bimetallic nanocages aligned as micro-wires show potential application in surface-enhanced infrared absorption (SEIRA).

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Xavier, Martins Rodrigo. "Um modelo para estruturação do problema das perdas e retrabalhos no processo de litografia em uma indústria de embalagens metálicas em Pernambuco." Universidade Federal de Pernambuco, 2011. https://repositorio.ufpe.br/handle/123456789/4988.

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Abstract:

Made available in DSpace on 2014-06-12T17:35:19Z (GMT). No. of bitstreams: 2 arquivo2628_1.pdf: 1513230 bytes, checksum: bf696db0415eae85c755e69c9d19c90a (MD5) license.txt: 1748 bytes, checksum: 8a4605be74aa9ea9d79846c1fba20a33 (MD5) Previous issue date: 2011
Diante da competitividade cada dia mais perceptiva no mercado, e na busca de ganhos financeiros maiores, o foco das empresas na redução de perdas e retrabalhos tem se tornado uma das prioridades dos gestores modernos. No entanto, identificar, analisar e solucionar este problema é um processo bastante complexo e que deve envolver várias equipes de trabalho. O objetivo desse estudo é propor um modelo para estruturação do problema das perdas e retrabalhos, em particular em uma fábrica de embalagens. O modelo consiste em uma sistemática baseada no Soft Systems Methodology (SSM) e na aplicação de ferramentas da qualidade como o fluxograma, Pareto, Curva ABC, histograma, diagrama de causa e efeito que são de vital importância para a elaboração do modelo proposto, além de ter como alicerce a formação das equipes multidisciplinares. O modelo proposto foi aplicado dentro da unidade fabril da empresa Indústrias Reunida Renda, que partindo do problema inicial que é o elevado grau de perdas no processo produtivo, chega-se na análise de solução de problemas dentro da unidade de impressão, cuja função é a litografia de aço em formato de folha em suas quatro unidades de produção. Alcançando no final uma redução de 66% das perdas no processo de impressão

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Menezes, Jacson Weber de. "Projetos de camadas fotônicas 2D e fabricação utilizando múltiplas exposições holográficas." [s.n.], 2006. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/278201.

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Abstract:

Orientador: Lucia Helena Deliesposte Cescato
Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica Gleb Wataghin
Made available in DSpace on 2018-08-08T11:13:35Z (GMT). No. of bitstreams: 1 Menezes_JacsonWeberde_M.pdf: 5177344 bytes, checksum: 63bfde864e58f6813890fced4db8f389 (MD5) Previous issue date: 2006
Resumo: Nesta dissertação foi desenvolvido um novo método de gravação de estruturas bidimensionais em fotorresina, baseado na superposição de três exposições holográficas. Utilizando esta técnica, foi possível gravar estruturas de seção transversal circular. Isso resolve o problema da redução da área do gap fotonico que ocorre com as estruturas cilíndricas de seção transversal elíptica, obtida quando são utilizadas apenas duas exposições. Controlando-se a fase entre a terceira exposição e as duas anteriores é possível também gerar padrões hexagonais com diferentes formas de cilindros, que correspondem aos "átomos" do cristal fotonico, que podem apresentar novas propriedades fotonicas. Para projetar cristais fotonicos que apresentam gap fotonico na região de interesse do espectro eletromagnético, foi utilizado um programa baseado no método dos elementos finitos. Nestes projetos foram consideradas as dimensões e formas que podem ser fabricadas utilizando a técnica de dupla exposição holográfica assim como foi utilizada a aproximação de índice de refração equivalente para levar em conta a espessura da camada fotonica. Utilizando a superposição de duas exposições holográficas, associadas à litografia por corrosão por íon reativo, foram feitas tentativas de fabricação das camadas fotonicas projetadas em três materiais diferentes: silício policristalino, silício amorfo hidrogenado e silício cristalino
Abstract: In this work, it was developed a new recording method of the 2D structures in photoresist, based on the superimposition of three holographic expositions. This technique solves the problem of asymmetry of hexagonal structures, arising from the superimposition of only two expositions, which causes a strong reduction of the photonic band gap area. By controlling the phase-shift between the third exposition and the former two exposures, it is possible to generate new hexagonal patterns that can present different properties. In the design of the 2D photonic layers that present Photonic Band Gaps in the near infra-red region of the electromagnetic spectrum, it was used a software based on finite elements method. To consider the thickness of the photonic layer it was used the approach of equivalent refractive index. In the design we take into account the dimensions and shapes that can be fabricated using the technique of holographic lithography associated with RIE (Reactive Ion Etching). For fabrication of the structures we used double holographic exposures followed by RIE lithography in three different materials: poly-silicon, amorphous silicon and crystalline silicon
Mestrado
Física da Matéria Condensada
Mestre em Física

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Rosa, Wagner de Oliveira da. "Estudo de sistemas magnéticos em estruturas periódicas." [s.n.], 2005. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/278295.

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Abstract:

Orientadores: Marcelo Knobel, Lucila Helena Deliesposte Cescato
Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica Gleb Wataghin.
Made available in DSpace on 2018-08-12T12:21:48Z (GMT). No. of bitstreams: 1 Rosa_WagnerdeOliveirada_M.pdf: 19528973 bytes, checksum: 7a1e2008a2b3dee6576a7022583102ab (MD5) Previous issue date: 2005
Resumo: Nesta dissertação utilizamos a técnica de litografia holográfica para reproduzir padrões periódicos em fotorresinas, depositadas em substratos de quartzo e vidro, que posteriormente foram utilizados como molde para a deposição de materiais magnéticos, que, portanto reproduzirem a periodicidade da estrutura gravada na fotorresina. Uma vantagem desta técnica é a dimensão pequena das estruturas que podem ser produzidas com uma boa razão de aspecto em áreas da ordem de 1000 cm 2 , assim como o controle do seu espaçamento. A união desta técnica com a deposição de materiais por sputtering foi muito vantajosa, pois usando este tipo de deposição podemos, em princípio, selecionar qualquer tipo de material e reproduzir com grande eficiência os padrões determinados pelas máscaras holográficas. Os sistemas aqui estudados são nanofitas de três tipos de materiais magnéticos: Co, Ni e Ni80Fe20(permalloy). Isto nos dá a liberdade de estudar como varia a interação magnética entre as nanofitas em função da sua separação e também da sua espessura. Comparamos os resultados obtidos das amostras estruturadas com as sem estruturas e foi possível observar que a interação dipolar exerce uma função importante na mudança dos campos coercivos destas. Entretanto, observamos que o campo de troca é praticamente inalterado para as diversas amostras de mesma composição estudadas que possuem a mesma espessura, assinalando que este mecanismo independe da anisotropia de forma e da interação dipolar. Os resultados de ressonância ferromagnética (RFM) mostram que os campos de anisotropia das amostras são menores do que os previstos pelas curvas de magnetização destas, indicando que o campo medido pode ser na verdade um campo efetivo no qual poderíamos ter a contribuição do campo dipolar.
Abstract: In this thesis we employ the holographic lithography (HL) technique to reproduce periodic patterns that were subsequently used as masks for the deposition of magnetic materials by sputtering. The structures present the same periodicity of the previously recorded mask. One advantage of this technique is the very good aspect ratio, even for areas of the order of 1000 cm2, and the low dimensions achieved. Moreover, one has a complete control of the structures¿ periodicity. The combination of the HL with sputtering is very oportune because this kind of deposition allows one to work with any type of material. Then, one can reproduce with great efficiency the patterns introduced by the holographic masks. The studied magnetic systems were formed by three different types of magnetic materials: Co, Ni and Ni80Fe20(permalloy). We studied the variation of the magnetic interactions among the nanostripes both as a function of the separation among them and their thickness. By comparing the results from the structured samples with the continous one it was possible observe the important role of the dipolar interaction on the coercivity. Nevertheless, we noted that the exchange field does not change for different studied samples with the same composition and thickness, indicating that this behavior is independent of the shape anisotropy and the dipolar interactions. The results of ferromagnetic resonance (FMR) showed that the anisotropy fields of the samples are smaller than the ones predicted by the magnetic measurements, indicating that we measured an effective field with the contribution of the dipolar field.
Mestrado
Física da Matéria Condensada
Mestre em Física

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