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Academic literature on the topic 'Plaquettes à gravure en semi-conducteurs'

Author: Grafiati
Published: 28 July 2024
Last updated: 31 July 2025

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Dissertations / Theses on the topic "Plaquettes à gravure en semi-conducteurs"

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Tlili, Sabrine. "Etude des cinétiques et des équilibres d'adsorption des composés organiques volatils et semi-volatils présents dans l'atmosphère des salles blanches sur les composants microélectroniques en cours de fabrication." Thesis, Aix-Marseille, 2012. http://www.theses.fr/2012AIXM4806.

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Abstract:
Du fait de la miniaturisation des composants semi-conducteurs, il est devenu de plus en plus important de réduire les niveaux de contamination. Les salles blanches sont indispensables pour assurer un environnement adéquat pour l'élaboration des composants microélectroniques. Toutefois, jusqu'à présent aucune technologie ne permet le contrôle de la contamination organique volatile, et même dans tels environnements contrôlés, la contamination des surfaces de wafers a souvent lieu. Une nouvelle approche expérimentale a été développée dans notre laboratoire afin de suivre les processus d'adsorptio
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2

Despiau-Pujo, Emilie. "Gravure des semi-conducteurs III-V par plasmas inductifs chlorés." Phd thesis, Ecole Polytechnique X, 2009. http://pastel.archives-ouvertes.fr/pastel-00005582.

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Abstract:
Ce travail de thèse s'inscrit dans un domaine de recherche émergeant : la gravure par plasma pour la photonique et l'opto-électronique. La maîtrise des procédés de gravure passe par la prédiction des énergies et des flux d'espèces produites dans le plasma en fonction des paramètres de la décharge, ainsi que par la compréhension des mécanismes d'interaction plasma-surface. Ce travail aborde ces deux aspects au travers de modélisations fluides et de simulations atomistiques. Nous avons développé des simulations de dynamique moléculaire pour comprendre les mécanismes fondamentaux qui régissent la
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3

Rizquez, Moreno Maria Mercedes. "Characterization and optimization of high density plasma etching processes for advanced memories application." Thesis, Lyon, 2016. http://www.theses.fr/2016LYSEM024.

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Abstract:
Parmi d’autres caractéristiques, la mémoire électronique idéale doit présenter une faible consommation d'énergie, haute densité et de la rapidité en lecture/écriture/effacement. Différents types de mémoires ont été ainsi développées. Un exemple en l’eSTM (Embedded Select Trench Memory). Ce travail de thèse étudie la caractérisation et l'optimisation des procédés de gravure plasma utilisés dans la fabrication de cette nouvelle technologie développée par STMicroelectronics Rousset, l'eSTM. Ce travail a été fortement lié à la caractérisation des parois du réacteur, le plasma lui-même et la surfac
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4

Tutashkonko, Sergii. "Élaboration du Ge mésoporeux et étude de ses propriétés physico-chimiques en vue d'applications photovoltaïques." Thèse, Université de Sherbrooke, 2013. http://hdl.handle.net/11143/6145.

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Abstract:
Le sujet de cette thèse porte sur l'élaboration du nouveau nanomatériau par la gravure électrochimique bipolaire (BEE) -- le Ge mésoporeux et sur l'analyse de ses propriétés physico-chimiques en vue de son utilisation dans des applications photovoltaïques. La formation du Ge mésoporeux par gravure électrochimique a été précédemment rapportée dans la littérature. Cependant, le verrou technologique important des procédés de fabrication existants consistait à obtenir des couches épaisses (supérieure à 500 nm ) du Ge mésoporeux à la morphologie parfaitement contrôlée. En effet, la caractérisation
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Books on the topic "Plaquettes à gravure en semi-conducteurs"

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1925-, Kern Werner, ed. Handbook of semiconductor wafer cleaning technology: Science, technology, and applications. Noyes Publications, 1993.

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2

K, Tanner B., ed. X-ray metrology in semiconductor manufacturing. Taylor & Francis, 2006.

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3

M, Rossnagel Stephen, Cuomo J. J, and Westwood William D. 1937-, eds. Handbook of plasma processing technology: Fundamentals, etching, deposition, and surface interactions. Noyes Publications, 1990.

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4

On-Wafer Calibration Techniques Enabling Accurate Characterization of High-Performance Silicon Devices at the Mm-Wave Range and Beyond. River Publishers, 2019.

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5

Rumiantsev, Andrej. On-Wafer Calibration Techniques Enabling Accurate Characterization of High-Performance Silicon Devices at the Mm-Wave Range and Beyond. River Publishers, 2022.

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6

Kern, Werner. Handbook of Semiconductor Wafer Cleaning Technology: Science, Technology, and Applications (Materials Science and Process Technology Series). Noyes Publications, 1993.

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7

Handbook of Semiconductor Wafer Cleaning Technology: Science, Technology and Applications. Elsevier Science & Technology Books, 1993.

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