Relevant bibliographies by topics / Pulvérisation cathodique en continu / Journal articles
To see the other types of publications on this topic, follow the link: Pulvérisation cathodique en continu.

Journal articles on the topic 'Pulvérisation cathodique en continu'

Author: Grafiati
Published: 4 June 2021
Last updated: 2 February 2022

Create a spot-on reference in APA, MLA, Chicago, Harvard, and other styles

Select a source type:

Consult the top 15 journal articles for your research on the topic 'Pulvérisation cathodique en continu.'

Next to every source in the list of references, there is an 'Add to bibliography' button. Press on it, and we will generate automatically the bibliographic reference to the chosen work in the citation style you need: APA, MLA, Harvard, Chicago, Vancouver, etc.

You can also download the full text of the academic publication as pdf and read online its abstract whenever available in the metadata.

Browse journal articles on a wide variety of disciplines and organise your bibliography correctly.

1

Pauleau, Y., P. Juliet, A. Lefort, N. Maréchal, E. Mounier, E. Quesnel, A. Rouzaud, and P. Monge-Cadet. "Revêtements minces déposés par pulvérisation cathodique pour applications tribologiques." Matériaux & Techniques 84, no. 1-2 (1996): 20–25. http://dx.doi.org/10.1051/mattech/199684010020.

Full text
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
2

Pauleau, Y., P. Juliet, A. Lefort, N. Maréchal, E. Mounier, E. Quesnel, A. Rouzaud, and P. Monge-Cadet. "Revêtements minces déposés par pulvérisation cathodique pour applications tribologiques." Matériaux & Techniques 84, no. 5-6 (1996): 23–32. http://dx.doi.org/10.1051/mattech/199684050023.

Full text
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
3

Carchano, H., F. Lalande, and R. Loussier. "Dépôt de couches minces d'AsGa polycrystallin par pulvérisation cathodique r.f." Thin Solid Films 135, no. 1 (January 1986): 107–13. http://dx.doi.org/10.1016/0040-6090(86)90093-3.

Full text
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
4

Bouteloup, E., B. Mercey, G. Poullain, T. Brousse, H. Murray, and B. Raveau. "Couches minces supraconductrices à base D'YBa2Cu3O(7-x) par pulvérisation cathodique multicible." Revue de Physique Appliquée 25, no. 2 (1990): 183–87. http://dx.doi.org/10.1051/rphysap:01990002502018300.

Full text
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
5

Carin, R. "Qualité diélectrique de couches minces isolantes de GaN obtenues par pulvérisation cathodique réactive." Revue de Physique Appliquée 25, no. 6 (1990): 489–97. http://dx.doi.org/10.1051/rphysap:01990002506048900.

Full text
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
6

Chappé, J. M., N. Martin, J. Lintymer, J. Gavoille, J. Takadoum, and F. Sthal. "Propriétés colorimétriques de couches minces d’oxynitrures de titane élaborées par pulvérisation cathodique réactive." Matériaux & Techniques 94, no. 1 (2006): 31–37. http://dx.doi.org/10.1051/mattech:2006022.

Full text
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
7

Guillon, N., and R. Y. Fillit. "Analyse microstructurale de couches minces de Ti-B-N élaborées par pulvérisation cathodique magnétron." Le Journal de Physique IV 08, PR5 (October 1998): Pr5–303—Pr5–308. http://dx.doi.org/10.1051/jp4:1998538.

Full text
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
8

Debili, M. Y., Tran Huu Loï, and C. Frantz. "Caractérisation chimique et structurale de dépôts métastables aluminium-fer obtenus par pulvérisation cathodique magnétron." Revue de Métallurgie 95, no. 12 (December 1998): 1501–10. http://dx.doi.org/10.1051/metal/199895121501.

Full text
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
9

Boudiar, T., C. Nader, Th Rouiller, M. Le Berre, H. Joisten, M. F. Blanc-Mignon, B. Payet-Gervy, B. Bayard, and J. J. Rousseau. "Élaboration de couches minces YIG par pulvérisation cathodique RF pour la réalisation de composants hyperfréquences intégrés." Journal de Physique IV (Proceedings) 124 (May 2005): 159–63. http://dx.doi.org/10.1051/jp4:2005124024b.

Full text
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
10

Le Priol, A., E. Le Bourhis, P. O. Renault, P. Muller, and H. Sik. "Influence des contraintes résiduelles et de la texture sur les propriétés mécaniques de films minces de Cr élaborés par pulvérisation cathodique RF." Matériaux & Techniques 101, no. 3 (2013): 307. http://dx.doi.org/10.1051/mattech/2013065.

Full text
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
11

Abdesselem, S., A. Ouhab, and M. S. Aida. "Influence de la température de substrat sur la croissance et les propriétés des films minces de silicium amorphe déposés par pulvérisation cathodique." Canadian Journal of Physics 81, no. 11 (November 1, 2003): 1293–302. http://dx.doi.org/10.1139/p03-101.

Full text
Abstract:
We deposit thin films of a-Si:H by RF diode spray on substrate with temperatures varying from 200 to 500 °C. Knowing that this deposition method is violent when compared with the plasma-assisted deposition method, we have used low RF power to limit the energy of the Ar ions bombarding the surface of the growing film. Characterization of the films by UV–visible absorption spectroscopy suggests that the influence of the substrate temperature can be classified into three different regimes: (i) low temperature, Ts < 300 °C: the films show a strong disorder, the hydrogen is bound only in the polyhydric configuration; (ii) intermediate temperature, 300 °C < Ts < 400 °C: film growth is rapid, the films present a lower defect density; this may be the best regime to make good quality a-Si:H films using the spraying method; (iii) high temperature, Ts > 400 °C: the films are more organized, but less hydrogenated. The substrate temperature influences the film properties by modifying the growing mechanism through a control of the reactions taking place at the plasma–substrate interface, where the hydrogen dynamics play a fundamental role.[Journal translation]
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
12

Hafidi, K., M. Azizan, Y. Ijdiyaou, and E. L. Ameziane. "Ètude des interfaces SiO2/TiO2 et TiO2/SiO2 dans la structure SiO2/TiO2/SiO2/c-Si préparée par pulvérisation cathodique radio fréquence." Canadian Journal of Physics 85, no. 7 (July 1, 2007): 763–76. http://dx.doi.org/10.1139/p07-053.

Full text
Abstract:
The atomic structure of the TiO2/SiO2 and SiO2/TiO2 interfaces has been investigated in SiO2/TiO2/SiO2 multilayers deposited by radio frequency reactive sputtering without breaking the vacuum on the crystalline substrate cooled by water. The characterizations of these interfaces have been performed using three complementary techniques sensitive to surface and interface state: X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), grazing incidence X-ray diffraction (GIXD), and specular X-ray reflectometry (GIXR). The concentration profiles and Si2p and O1s core level chemical displacements show that TiO2/SiO2 and SiO2/TiO2 interfaces are very diffuse. The reflectometry measurements confirm this character and indicate that the silicon, titanium, and oxygen atomic concentrations vary gradually at the interfaces. The grazing incidence X-ray spectra indicates that the interfacial layers are not well crystallized and are formed by SiO2-TiO2, TiO, Ti2O3, Ti3O5, Ti5Si3, Ti5Si4, TiSi, and TiSi2 components.
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
13

Benhenda, S., J. M. Guglielmacci, M. Gillet, and T. Pech. "Caracterisation et comportement en diffusion de couches de nickel déposées sur substrat de cuivre par canon à électrons, pulvérisation cathodique et électrodéposition." Applied Surface Science 25, no. 1-2 (February 1986): 53–67. http://dx.doi.org/10.1016/0169-4332(86)90025-5.

Full text
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
14

Gautier-Picard, C., J. L. Lebrun, M. Frainais, and D. Girard. "Détermination par diffraction des rayons X de la texture et des contraintes dans des revêtements de chrome dopé au carbone réalisés par pulvérisation cathodique magnétron." Le Journal de Physique IV 10, PR10 (September 2000): Pr10–185—Pr10–192. http://dx.doi.org/10.1051/jp4:20001020.

Full text
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
15

Sanchette, F., S. Sanchette, A. Billard, J. Lepage, M. Nivoit, and C. Frantz. "Détermination par une méthode vibratoire du module d’Young de revêtements Al-MT-(N) (MT = Cr, Ti) déposés sur des substrats en acier par pulvérisation cathodique magnétron." Revue de Métallurgie 96, no. 2 (February 1999): 259–67. http://dx.doi.org/10.1051/metal/199996020259.

Full text
APA, Harvard, Vancouver, ISO, and other styles
You might also be interested in the bibliographies on the topic 'Pulvérisation cathodique en continu' for other source types:
Dissertations / Theses
We offer discounts on all premium plans for authors whose works are included in thematic literature selections. Contact us to get a unique promo code!

To the bibliography