Academic literature on the topic 'Pulverisation irradiation'

La source d'ions a decharge luminescente en mode continu est utilisee en spectrometrie de masse car elle permet d'obtenir un signal intense, stable et peu discriminatoire. Nous avons etudie les differentes fonctions remplies par cette source (atomisation de l'echantillon et ionisation des produits re-emis) pour analyser son fonctionnement et l'optimiser. L'etude des processus successifs (etablissement et fonctionnement de l'auto-entretien, atomisation par pulverisation de l'echantillon, ionisation des atomes emis dans la decharge) nous a permis de montrer l'importance des parametres suivants: conditions de l'auto-entretien, energie et nature des particules incidentes sur l'echantillon, influence de la pression et de la geometrie de la cellule sur la diffusion des produits de pulverisation. Nous avons developpe des modeles pour simuler le comportement en sensibilite des courants d'ions des especes majeures et definir les conditions d'optimisation du signal. En appliquant ces conclusions, nous avons concu et realise une nouvelle cellule a echantillon plat. Les gains en sensibilite obtenus permettent d'abaisser le seuil des limites de detection de plus d'un ordre de grandeur pour une vitesse d'erosion en profondeur sensiblement reduite, gage d'une meilleure resolution en profondeur pour l'analyse des couches minces. Par ailleurs, nous avons montre l'interet et la faisabilite de la decharge luminescente en mode radiofrequence pour l'analyse des echantillons isolants sur vg9000

Dans l'industrie de la microelectronique, la contamination particulaire est responsable d'une reduction importante des performances des procedes de fabrication. Les procedes assistes plasma, et notamment les procedes de gravure seche sont une source particulierement nefaste de contamination particulaire. Nos travaux nous ont conduit, tout d'abord, a mettre au point et a evaluer des moyens in-situ (diffusion de la lumiere, mesure electriques) pour caracteriser la dimension et la densite des particules. Grace a ces dispositifs, nous avons etudie le transport des particules lors de l'etape critique pour la contamination des substrats en cours de traitement que constitue l'extinction du plasma. Nous avons ensuite analyse la formation des particules dans des plasmas d'argon (pulverisation) et des plasmas de trifluoromethane (gravure ionique reactive). La derniere partie de nos travaux est consacree a l'analyse de l'efficacite des procedes de nettoyage des reacteurs par des plasmas pulses

Les caracteristiques d'une nouvelle source de plasma pour le depot de revetements par pulverisation sur des grandes surfaces ont ete etudiees. Cette source utilise une onde electromagnetique de frequence 2. 45 ghz pour accelerer les electrons qui ionisent les atomes d'argon par impact electronique. Un champ magnetique permet de confiner les electrons pour d'une part optimiser le couplage avec l'onde en tout lieu ou il est egal a 875 gauss et d'autre part transporter le plasma vers une cible de pulverisation polarisee negativement. Une source produisant une nappe de plasma de section rectangulaire de 75 cm2 a ete realisee. La caracterisation du plasma a ete effectuee en termes de densite electronique par interforemetrie, de temperature electronique par mesure de sonde et de courant d'ions recueillis sur la cible en fonction des parametres puissance micro-onde, pression d'argon, champ magnetique. Les valeurs obtenues ont montre que ce plasma est dense, avec une independance entre les parametres de creation du plasma et ceux de la pulverisation. L'usure des cibles de pulverisation est uniforme et correspond a l'intersection entre les lignes de champ magnetique et la surface de la cible. L'etude des couches de chrome deposees par ce procede a montre que la diminution de la pression permet d'obtenir des couches de densite proche de celle du chrome massique, avec des vitesses de depot elevees, et des contraintes residuelles faibles. Sous pression reduite constante, l'incorporation de carbone dans les couches de chrome par pulverisation reactive a permis d'augmenter la durete de ces couches. La morphologie devient plus dense, avec des contraintes residuelles faibles et une resistivite electrique faible. D'autres revetements (fer, oxyde de chrome, oxyde d'aluminium) ont ete realises pour demontrer la potentialite de ce nouveau dispositif a deposer en tension de polarisation negative continue de la cible des materiaux magnetiques et des oxydes

Elaboration par pulverisation cathodique magnetron en faisant varier la tension de polarisation negative appliquee au substrat, de revetements de molybdene presentant differents etats de contraintes de compression. Analyse, en fonction de l'evolution des contraintes, de l'evolution de la texture cristallographique et de la teneur en argon incorpore dans les couches

Etude de l'emission secondaire en fonction de la vitesse en projectile, de l'angle d'incidence du faisceau par rapport a la cible (minerale ou organique) et surtout de l'etat de charge au projectile, par spectrometrie de masse a temps de vol principalement: cette emission depend fortement de la charge du projectile et aussi du changement d'etat de charge a l'interieur du materiau. Interpretation des resultats a l'aide du modele de maynard et al. , en supposant l'existence d'une profondeur d'interaction ion primaire-materiau qui depend du type d'ions secondaires et de la charge de l'ion incident