Щоб переглянути інші типи публікацій з цієї теми, перейдіть за посиланням: Plasma Electronics.

Книги з теми "Plasma Electronics"

Оформте джерело за APA, MLA, Chicago, Harvard та іншими стилями

Оберіть тип джерела:

Ознайомтеся з топ-50 книг для дослідження на тему "Plasma Electronics".

Біля кожної праці в переліку літератури доступна кнопка «Додати до бібліографії». Скористайтеся нею – і ми автоматично оформимо бібліографічне посилання на обрану працю в потрібному вам стилі цитування: APA, MLA, «Гарвард», «Чикаго», «Ванкувер» тощо.

Також ви можете завантажити повний текст наукової публікації у форматі «.pdf» та прочитати онлайн анотацію до роботи, якщо відповідні параметри наявні в метаданих.

Переглядайте книги для різних дисциплін та оформлюйте правильно вашу бібліографію.

1

Makabe, T. Plasma electronics: Applications in microelectronic device fabrication. Taylor&Francis, 2006.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
2

United States. National Aeronautics and Space Administration., ed. Hollow cathode plasma coupling study - 1986: Annual report. National Aeronautics and Space Administration, 1986.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
3

Congresso nazionale di Elettronica quantistica e plasmi (5th 1988 Florence, Italy). Quantum electronics and plasma physics: 5th Italian conference. Società italiana di fisica, 1989.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
4

Cheung, Kin P. Plasma Charging Damage. Springer London, 2001.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
5

W, Crompton R., and Australia-Japan Workshop on Gaseous Electronics and its Applications (2nd : 1990 : Tozanso, Japan), eds. Gaseous electronics and its applications. KTK Scientific Publishers, 1991.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
6

Diran, Apelian, and Szekely Julian 1934-, eds. Plasma processing and synthesis of materials III: Symposium held April 17-19, 1990, San Francisco, California, U.S.A. Materials Research Society, 1991.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
7

W, York Kenneth, Bowers Glen E, and United States. National Aeronautics and Space Administration., eds. Integration issues of a plasma contactor power electronics unit. National Aeronautics and Space Administration, 1995.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
8

I, Ėfendiev K., та S.M. Kirov adyna Azărbaĭjan Dȯvlăt Universiteti., ред. Nekotorye voprosy fizicheskoĭ ėlektroniki: Tematicheskiĭ sbornik nauchnykh trudov = Fiziki elektronikanyn băʼzi măsălălări : elmi ăsărdărin tematik măjmuăsi. Azerbaĭdzhanskiĭ gos. universitet, 1987.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
9

A, Hamley John, and United States. National Aeronautics and Space Administration., eds. Development of a power electronics unit for the space station plasma contactor. National Aeronautics and Space Administration, 1993.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
10

Congresso, nazionale Elettronica quantistica e. plasmi (5th 1988 Florence Italy). Quantum electronics and plasma physics, 5th Italian conference: Firenze, 16-19 November 1988. Italian Physical Society, 1989.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
11

Congresso nazionale Elettronica quantistica e plasmi (6th 1990 Rome, Italy). Quantum Electronics and Plasma Physics: 6th Italian Conference : Roma, 5-7 November 1990. Italian Physical Society, 1991.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
12

E, Harper James M., Materials Research Society, and Symposium on Low Energy Ion Beam and Plasma Modification of Materials (1991 : Anaheim, Calif.), eds. Low energy ion beam and plasma modification of materials: Symposium held April 30-May 2, 1991, Anaheim, California, U.S.A. Materials Research Society, 1991.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
13

M, Rossnagel Stephen, Cuomo J. J, and Westwood William D. 1937-, eds. Handbook of plasma processing technology: Fundamentals, etching, deposition, and surface interactions. Noyes Publications, 1990.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
14

International, University Conference "Electronics and Radiophysics of Ultra-High Frequencies" (1999 St Petersburg Russia). International University Conference "Electronics and Radiophysics of Ultra-High Frequencies": May 24-28, 1999, St. Petersburg, Russia : proceedings. St. Petersburg State Technical University, 1999.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
15

Dimitrios, Charalambidis, Normand Didier, and SpringerLink (Online service), eds. Progress in Ultrafast Intense Laser Science VII. Springer-Verlag Berlin Heidelberg, 2011.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
16

International Symposium on Plasma Process-Induced Damage (2nd 1997 Monterey, Calif.). 1997 2nd International Symposium on Plasma Process-Induced Damage: 13-14 May 1997, Monterey, California, USA. Edited by Cheung Kin P, Nakamura Moritaka, Gabriel Calvin T, IEEE Electron Devices Society, American Vacuum Society, and Ōyō Butsuri Gakkai. Northern California Chapter of the American Vacuum Society, 1997.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
17

Ferdinand, Cap, and International Centre for Mechanical Sciences., eds. Waves and instabilities in plasmas. Springer-Verlag, 1994.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
18

Telegin, G. G. Opticheskie spektry atmosfernykh gazov. "Nauka" Sibirskai͡a︡ izd-i͡a︡ firma RAN, 2000.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
19

V, Khazanov G., Kozyra J. U, and United States. National Aeronautics and Space Administration., eds. Guided plasmaspheric hiss interactions with superthermal electrons. National Aeronautics and Space Administration, 1997.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
20

International Conference on Solid State Lasers for Application to Inertial Confinement Fusion (3rd 1998 Monterey, Calif.). NIF laser system performance ratings: Supplement to Proceedings of SPIE Volume 3492, Third annual International Conference on Solid State Lasers for Applications to Inertial Confinement Fusion. SPIE--The International Society for Optical Engineering, 1998.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
21

Topical Meeting on Microphysics of Surfaces, Beams, and Adsorbates (1989 Salt Lake City, Utah). Microphysics of surfaces, beams, and adsorbates: Summaries of papers presented at the Microphysics of Surfaces, Beams, and Adsorbates Topical Meeting, February 27-March 1, 1989, Salt Lake City, Utah. Optical Society of America, 1989.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
22

Schokker, B. C. Suprathermal electrons in Tokamak plasmas. Eindhoven University, 1996.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
23

Adianto. Plasma polymerized organic thin films applied to electronic devices. University of Salford, 1993.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
24

1955-, Bozhevolnyi Sergey I., ed. Plasmonic nanoguides and circuits. Pan Stanford, 2009.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
25

1955-, Bozhevolnyi Sergey I., ed. Plasmonic nanoguides and circuits. Distributed by World Scientific Pub., 2009.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
26

1955-, Bozhevolnyi Sergey I., ed. Plasmonic nanoguides and circuits. Distributed by World Scientific Pub., 2009.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
27

Jaspers, Roger Jozef Elisabeth. Relativistic runaway electrons in tokamak plasmas. [s.n.], 1995.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
28

Hirose, Akira. Collisional effects of trapped electrons on the anomalous particle and thermal pinches. University of Saskatchewan, Plasma Physics Laboratory, 1992.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
29

Masri, Maha J. Construction of an electronic imaging system for plasma spray processing. National Library of Canada, 1996.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
30

Hubeny, Michael. The Dynamics of Electrons in Linear Plasma Devices and Its Impact on Plasma Surface Interaction. Springer International Publishing, 2019. http://dx.doi.org/10.1007/978-3-030-12536-3.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
31

Entrop, Ingeborg. Confinement of relativistic runaway electrons in tokamak plasmas. University of Eindhoven, 1999.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
32

V, Sklizkov G., ed. Optika moshchnykh lazerov dli͡a︡ issledovaniĭ po lazernomu termoi͡a︡dernomu sintezu. Izd-vo "Nauka", 1985.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
33

V, Korobkin V., ed. Nelineĭnye i͡a︡vlenii͡a︡ v lazernoĭ plazme. "Nauka", 1993.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
34

Herman, Donné Antonius Johannes, and Verhoeven Toon, eds. Proceedings of the Tenth Joint Workshop on Electron Cyclotron Emission and Electron Cyclotron Heating: Ameland, the Netherlands, 6-11 April 1997. World Scientific, 1997.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
35

Chang, R. P. H. 1941-, Abeles B, and Symposium on Plasma Synthesis and Etching of Electronic Materials (1984 : Boston, Mass.), eds. Plasma synthesis and etching of electronic materials: Symposium held November 27-30, 1984, Boston, Massachusetts, U.S.A. Materials Research Society, 1985.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
36

Tang, F. L. On the plane steady flow of an ablating pellet under the impact of plasma electrons. Riso Library, 1989.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
37

Isihara, A. Electron Liquids. Springer Berlin Heidelberg, 1998.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
38

F, Golde Michael, Johnsen Rainer, and United States. National Aeronautics and Space Administration., eds. Electron-ion recombination rate coefficient measurements in a flowing afterglow plasma. Elsevier, 1996.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
39

F, Golde Michael, Johnsen Rainer, and United States. National Aeronautics and Space Administration., eds. Electron-ion recombination rate coefficient measurements in a flowing afterglow plasma. Elsevier, 1996.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
40

F, Golde Michael, Johnsen Rainer, and United States. National Aeronautics and Space Administration., eds. Electron-ion recombination rate coefficient measurements in a flowing afterglow plasma. Elsevier, 1996.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
41

International Conference on Strongly Coupled Coulomb Systems (1999 Saint-Malo, France). The 1999 International Conference on Strongly Coupled Coulomb Systems: 99SccS99 : Palais du Grand Large, Saint-Malo, France, September 4-10, 1999. EDP Sciences, 2000.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
42

International Conference on Strongly Coupled Coulomb Systems (1999 Saint-Malo, France). The 1999 International Conference on Strongly Coupled Coulomb Systems: 99SccS99, Palais du Grand Large, Saint-Malo, France, September 4-10, 1999. EDP Sciences, 2000.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
43

Isihara, Akira. Electron liquids. Springer-Verlag, 1993.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
44

Isihara, A. Electron liquids. 2nd ed. Springer, 1998.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
45

Makabe, T., and Z. Petrovic. Plasma Electronics. Taylor & Francis Group, 2006.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
46

Plasma physics and plasma electronics. Nova Science Publishers, 1989.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
47

Makabe, Toshiaki, and Zoran Lj Petrovic. Plasma Electronics, Second Edition. Taylor & Francis Group, 2014.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
48

Makabe, Toshiaki, and Zoran Lj Petrovic. Plasma Electronics: Applications in Microelectronic Device Fabrication. Taylor & Francis Group, 2014.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
49

Plasma Electronics: Applications in Microelectronic Device Fabrication, Second Edition. Taylor & Francis Group, 2014.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
50

Makabe, Toshiaki, and Zoran Lj Petrovic. Plasma Electronics: Applications in Microelectronic Device Fabrication. Taylor & Francis Group, 2014.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
Ми пропонуємо знижки на всі преміум-плани для авторів, чиї праці увійшли до тематичних добірок літератури. Зв'яжіться з нами, щоб отримати унікальний промокод!