Дисертації з теми "Plasma Electronics"
Оформте джерело за APA, MLA, Chicago, Harvard та іншими стилями
Ознайомтеся з топ-50 дисертацій для дослідження на тему "Plasma Electronics".
Біля кожної праці в переліку літератури доступна кнопка «Додати до бібліографії». Скористайтеся нею – і ми автоматично оформимо бібліографічне посилання на обрану працю в потрібному вам стилі цитування: APA, MLA, «Гарвард», «Чикаго», «Ванкувер» тощо.
Також ви можете завантажити повний текст наукової публікації у форматі «.pdf» та прочитати онлайн анотацію до роботи, якщо відповідні параметри наявні в метаданих.
Переглядайте дисертації для різних дисциплін та оформлюйте правильно вашу бібліографію.
Roth, Weston Charles 1970. "Electrical characterization and plasma impedance measurements of a RF plasma etch system." Thesis, The University of Arizona, 1995. http://hdl.handle.net/10150/291351.
Повний текст джерелаHansson, Björn. "Laser-Plasma Sources for Extreme-Ultraviolet Lithography." Doctoral thesis, KTH, Physics, 2003. http://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:kth:diva-3677.
Повний текст джерелаMarrett, Sean 1960. "A high-order finite element method for Tokamak plasma equilibria /." Thesis, McGill University, 1992. http://digitool.Library.McGill.CA:80/R/?func=dbin-jump-full&object_id=56809.
Повний текст джерелаDeLoach, Charles Alan 1960. "Analysis of plasma etch defects utilizing a comb test structure." Thesis, The University of Arizona, 1992. http://hdl.handle.net/10150/278211.
Повний текст джерелаZaarouri, Kamel. "Closed-loop control of plasma osmolality in patients with central diabetes insipidus." Thesis, McGill University, 2010. http://digitool.Library.McGill.CA:8881/R/?func=dbin-jump-full&object_id=92300.
Повний текст джерелаPoolcharuansin, Phitsanu. "The development of electrical plasma diagnostics for HiPIMS discharges." Thesis, University of Liverpool, 2012. http://livrepository.liverpool.ac.uk/7495/.
Повний текст джерелаJulander, Anneli. "Exposure to brominated flame retardants in electronics recycling : air and human plasma levels /." Örebro : Örebro universitetsbibliotek, 2004. http://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:oru:diva-91.
Повний текст джерелаKong, Yung 1967. "Particle contamination in sulfur-hexafluoride/argon plasma etching process." Thesis, The University of Arizona, 1991. http://hdl.handle.net/10150/277919.
Повний текст джерелаBowes, Michael. "Plasma diagnosis of reactive high power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) discharges." Thesis, University of Liverpool, 2014. http://livrepository.liverpool.ac.uk/18833/.
Повний текст джерелаZhan, Yiyi. "PC-based visual simulation of high pressure arc plasma." Thesis, University of Liverpool, 2011. http://livrepository.liverpool.ac.uk/3433/.
Повний текст джерелаBless, Frédéric. "Investigation of atmospheric-pressure plasma discharges for thin film deposition." Thesis, University of Liverpool, 2015. http://livrepository.liverpool.ac.uk/2050119/.
Повний текст джерелаBadaye, Massoud. "Investigation and improvement of a Z-pinch plasma X-ray source." Thesis, McGill University, 1992. http://digitool.Library.McGill.CA:80/R/?func=dbin-jump-full&object_id=39468.
Повний текст джерелаPark, Chunyoung. "Feasibility of low energy plasma torch for reaction control thruster ignition." Thesis, California State University, Long Beach, 2015. http://pqdtopen.proquest.com/#viewpdf?dispub=1587917.
Повний текст джерелаNowlin, Robert Nathaniel 1966. "The electrostatic nature of contaminative particles in a semiconductor processing plasma." Thesis, The University of Arizona, 1990. http://hdl.handle.net/10150/277802.
Повний текст джерелаMani, Mahesh Kumar. "Development of Fe-50Co alloy and its composites by spark plasma sintering." Thesis, Cardiff University, 2014. http://orca.cf.ac.uk/60869/.
Повний текст джерелаHan, Yisong. "Microstructural characterisation of GaMnN ferromagnetic semiconductors grown on (001) oriented GaAs substrates by plasma assisted molecular beam epitaxy." Thesis, University of Nottingham, 2006. http://eprints.nottingham.ac.uk/10332/.
Повний текст джерелаBazaka, Kateryna. "Fabrication and characterization of plasma polymer thin films from monoterpene alcohols for applications in organic electronics and biotechnology." Thesis, James Cook University, 2011. http://researchonline.jcu.edu.au/29891/.
Повний текст джерелаKang, Jungwon 1967. "The particle trap and plasma parameter studies in an RF argon discharge." Diss., The University of Arizona, 1997. http://hdl.handle.net/10150/288834.
Повний текст джерелаRamamurti, Rahul. "Synthesis of Diamond Thin Films for Applications in High Temperature Electronics." University of Cincinnati / OhioLINK, 2006. http://rave.ohiolink.edu/etdc/view?acc_num=ucin1145630189.
Повний текст джерелаKline, John L. "Slow wave ion heating and parametric instabilities in the HELIX helicon source." Morgantown, W. Va. : [West Virginia University Libraries], 2002. http://etd.wvu.edu/templates/showETD.cfm?recnum=2292.
Повний текст джерелаDehili, Chafika. "Using plasma polymerised allylamine to culture hepatocytes in in-vitro fluidic bioreactors." Thesis, University of Nottingham, 2008. http://eprints.nottingham.ac.uk/13488/.
Повний текст джерелаBalkey, Matthew M. "Optimization of a helicon plasma source for maximum density with minimal ion heating." Morgantown, W. Va. : [West Virginia University Libraries], 2000. http://etd.wvu.edu/templates/showETD.cfm?recnum=1686.
Повний текст джерелаCiaralli, Simone. "A study of the lifetime of miniaturized ablative pulsed plasma thrusters." Thesis, University of Southampton, 2014. https://eprints.soton.ac.uk/379251/.
Повний текст джерелаMorys, Marcin M. "Patch antenna characterization in a high-voltage corona plasma." Thesis, Georgia Institute of Technology, 2013. http://hdl.handle.net/1853/50324.
Повний текст джерелаCoulombe, S. (Sylvain). "A model of the electric arc attachment on non-refractory (cold) cathodes /." Thesis, McGill University, 1997. http://digitool.Library.McGill.CA:80/R/?func=dbin-jump-full&object_id=34710.
Повний текст джерелаIntini, Marques Rodrigo. "A mechanism to accelerate the late ablation in pulsed plasma thrusters." Thesis, University of Southampton, 2009. https://eprints.soton.ac.uk/67314/.
Повний текст джерелаEl, Hamoui Mohamad A. "A Pipeline Analog-To-Digital Converter for a Plasma Impedance Probe." DigitalCommons@USU, 2009. https://digitalcommons.usu.edu/etd/287.
Повний текст джерелаLetal, Gregory. "Integrated distributed feedback lasers and electroabsorption modulators fabricated using helium-plasma-assisted InP defect induced quantum well intermixing." Thesis, National Library of Canada = Bibliothèque nationale du Canada, 2000. http://www.collectionscanada.ca/obj/s4/f2/dsk1/tape4/PQDD_0033/NQ66279.pdf.
Повний текст джерелаJobanputra, Manish C. "Investigation of Organic Thin Films for Application in Electro-Optic Devices." University of Cincinnati / OhioLINK, 2002. http://rave.ohiolink.edu/etdc/view?acc_num=ucin1017755544.
Повний текст джерелаGustavsson, Lars-Erik. "Hollow Cathode Deposition of Thin Films." Doctoral thesis, Uppsala : Acta Universitatis Upsaliensis : Universitetsbiblioteket [distributör], 2006. http://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:uu:diva-6925.
Повний текст джерелаMishra, Ritwik. "Photoresist development on SiC and its use as an etch mask for SiC plasma etch." Thesis, Mississippi State : Mississippi State University, 2002. http://library.msstate.edu/etd/show.asp?etd=etd-06162002-205803.
Повний текст джерелаDainese, Matteo. "Plasma assisted technology for Si-based photonic integrated circuits." Doctoral thesis, Stockholm, 2005. http://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:kth:diva-148.
Повний текст джерелаMosbacker, Howard L. IV. "Control of Electrical Transport Mechanisms At Metal-Zinc Oxide Interfaces By Subsurface Defect Engineering With Remote Plasma Treatment." The Ohio State University, 2008. http://rave.ohiolink.edu/etdc/view?acc_num=osu1204733572.
Повний текст джерелаRonchi, Emanuele. "Neural Networks Applications and Electronics Development for Nuclear Fusion Neutron Diagnostics." Doctoral thesis, Uppsala universitet, Institutionen för fysik och astronomi, 2009. http://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:uu:diva-108583.
Повний текст джерелаCollins, Sean Michael 1959. "Electrode material and geometry effects on the electrical properties of particle traps in a parallel plate plasma etch reactor." Thesis, The University of Arizona, 1993. http://hdl.handle.net/10150/278287.
Повний текст джерелаFourmond, Erwann. "Contribution au photovoltaïque de première génération : du matériau silicium aux couches diélectriques." Habilitation à diriger des recherches, INSA de Lyon, 2011. http://tel.archives-ouvertes.fr/tel-00660319.
Повний текст джерелаKulish, Viktor Vasylovych, Виктор Васильевич Кулиш, Віктор Васильович Куліш та ін. "Квадратично-нелинейная теория параметрического резонанса пучковых волн в двухскоростном электронном пучке". Thesis, Изд-во СумДУ, 2009. http://essuir.sumdu.edu.ua/handle/123456789/4123.
Повний текст джерелаRao, Arun J. "Analog Front-End Design Using the gm/ID Method for a Pulse-Based Plasma Impedance Probe System." DigitalCommons@USU, 2010. https://digitalcommons.usu.edu/etd/675.
Повний текст джерелаOngkodjojo, Ong Andojo. "Electrohydrodynamic Microfabricated Ionic Wind Pumps for Electronics Cooling Applications." Case Western Reserve University School of Graduate Studies / OhioLINK, 2013. http://rave.ohiolink.edu/etdc/view?acc_num=case1354638816.
Повний текст джерелаBurnham, Shawn David. "Improved understanding and control of Mg-doped GaN by plasma assisted molecular beam epitaxy." Diss., Available online, Georgia Institute of Technology, 2007, 2007. http://etd.gatech.edu/theses/available/etd-06122007-133821/.
Повний текст джерелаMatthews, Jason E. "Thermoelectric and Heat Flow Phenomena in Mesoscopic Systems." Thesis, University of Oregon, 2011. http://hdl.handle.net/1794/12108.
Повний текст джерелаSurdu-Bob, Carmen Cristina. "Surface : plasma interactions in GaAs subjected to capacitively coupled RF plasmas." Thesis, Aston University, 2002. http://publications.aston.ac.uk/8000/.
Повний текст джерелаLe, roux Frédéric. "Développement de procédés de gravure plasma sans dommage pour l'électronique de puissance à base de GaN." Thesis, Université Grenoble Alpes, 2020. http://www.theses.fr/2020GRALT017.
Повний текст джерелаJusoh, Tajudin Mohd Taufik. "Study and design of reconfigurable antennas using plasma medium." Phd thesis, Université Rennes 1, 2014. http://tel.archives-ouvertes.fr/tel-01060295.
Повний текст джерелаCross, Lee W. "Design of Microwave Front-End Narrowband Filter and Limiter Components." Thesis, The University of Toledo, 2013. http://pqdtopen.proquest.com/#viewpdf?dispub=3588122.
Повний текст джерелаJeon, Taewoo. "Cellules solaires hybrides à base de polymères et de nanofils de silicium fabriqués par dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma." Phd thesis, Ecole Polytechnique X, 2013. http://pastel.archives-ouvertes.fr/pastel-00917826.
Повний текст джерелаSaint-Aubin, Christine de. "Conception de nouveaux matériaux conducteurs extensibles à base de multicouches de polyélectrolytes sur support silicone." Thesis, Mulhouse, 2013. http://www.theses.fr/2013MULH8652/document.
Повний текст джерелаPezeril, Maxime. "Développement d'un procédé de gravure par plasma pour les transistors de puissance à base de matériaux III-V." Electronic Thesis or Diss., Université Grenoble Alpes, 2024. http://www.theses.fr/2024GRALT049.
Повний текст джерелаMouawad, Bassem. "Assemblages innovants en électronique de puissance utilisant la technique de " Spark Plasma Sintering "." Phd thesis, INSA de Lyon, 2013. http://tel.archives-ouvertes.fr/tel-00943438.
Повний текст джерелаAliyeva, Tamila. "Production Of Hydrogenated Nanocrystalline Silicon Based Thinfilm Transistor." Phd thesis, METU, 2010. http://etd.lib.metu.edu.tr/upload/12612209/index.pdf.
Повний текст джерела